[發明專利]掩模組件及使用掩模組件的薄膜沉積方法

有效

• 申請號: 201410017383.3
• 申請日: 2014-01-15
• 公開（公告）號: CN104152845B
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 高政佑
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓芳;劉燦強

提供了一種掩模組件和一種使用該掩模組件的薄膜沉積方法。掩模組件包括掩模框架，掩模框架包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊。第一邊、第二邊、第三邊和第四邊形成矩形。矩形的內側限定窗口。掩模框架具有設置為從矩形的至少兩個角朝著窗口突出的多個基板安放部分。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對。掩模組件包括位于掩模組件的第一邊到第四邊彼此相交處的四個角。掩模包括用于沉積的多個開口。多個開口被布置為與窗口相對應。

技術領域

本發明涉及一種掩模組件，更具體地說，涉及一種使用該掩模組件的薄膜沉積方法。

背景技術

在顯示裝置中，有機發光顯示裝置可以是自發光顯示裝置。有機發光顯示裝置可以具有寬的視角、優異的對比度和高的響應速度。

有機發光顯示裝置可以包括中間層，中間層包括位于彼此面對的電極之間的至少一層發光層。電極和中間層可以以各種方法形成，而這些方法中的一種就是沉積方法。

在一種使用沉積方法來制造有機發光顯示裝置的方法中，具有期望圖案的薄膜可以通過制造具有與將要形成在基板上的薄膜圖案相同的開口圖案的掩模而形成在基板上。例如，精細金屬掩模（FMM）可以與基板緊密接觸，沉積材料可以通過FMM沉積在基板上。

發明內容

在將基板布置在掩模組件上的情況下，掩模框架的內側和基板的外側彼此疊置預定的寬度。通過將沉積材料沉積在基板上而使薄膜形成在基板上。掩模框架的內側限定用于支撐基板的窗口。產生了寬的疊置區域，并且在增加想要實際形成在基板上的單元格（unit cell）的數量方面存在限制。

本發明構思的示例性實施例提供了一種在使掩模框架和基板之間的疊置區域最小化的同時能夠增加形成在基板上的單元格的數量的掩模組件。

在本發明構思的至少一個示例性實施例中，提供了一種在使掩模框架和基板之間的疊置區域最小化的同時能夠增加形成在基板上的單元格的數量的使用掩模組件的薄膜沉積方法。

在本發明構思的至少一個示例性實施例中，提供了一種掩模組件，該掩模組件包括掩模框架，掩模框架包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊。第一邊、第二邊、第三邊和第四邊形成矩形。矩形的內側限定窗口。掩模框架具有多個基板安放部分。基板安放部分可以從矩形的至少兩個角朝著窗口突出。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對。掩模組件包括掩模，掩模包括多個開口。掩模固定到掩模框架。所述多個開口被布置為與窗口相對應。

在本發明構思的示例性實施例中，提供了一種薄膜沉積方法，該薄膜沉積方法包括準備包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊的掩模框架。第一邊、第二邊、第三邊和第四邊形成矩形。矩形的內側限定窗口。掩模框架具有被設置為從矩形的至少兩個角朝窗口突出的多個基板安放部分。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對。該方法包括在掩模框架上布置包括多個開口的掩模以及將掩模固定到掩模框架。所述多個開口被布置為與窗口相對應。該方法包括在掩模上安放基板，使得基板的外側被布置為與掩模框架的第一邊、第二邊、第三邊和第四邊的內側貼合。該方法包括通過窗口和用于沉積的所述多個開口在基板上沉積沉積材料。

本發明構思的示例性實施例包括被設置為從至少兩個角朝窗口突出的多個基板安放部分。所述至少兩個角中的兩個角沿矩形的對角線方向彼此面對。基板和掩模框架之間的疊置區域能夠被最小化，基板能夠被穩定地支撐。薄膜可以通過沉積沉積材料而形成在基板上。

根據本發明構思的示例性實施例的掩模組件可以增加將要形成在基板上的單元格的數量。

附圖說明

通過參照下面結合附圖考慮時進行的詳細描述，本公開的更完整的理解和本公開的許多附加方面將容易獲得并變得更加容易理解，其中：

圖1是根據本發明構思的示例性實施例的掩模組件的透視圖；