[發(fā)明專利]掩模組件及使用掩模組件的薄膜沉積方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410017383.3
• 申請(qǐng)日: 2014-01-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104152845B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高政佑
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 韓芳;劉燦強(qiáng)

1.一種掩模組件，所述掩模組件包括：

掩模框架，包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊，第一邊、第二邊、第三邊和第四邊形成矩形；

窗口，由矩形的內(nèi)側(cè)限定；

多個(gè)基板安放部分，被構(gòu)造為從矩形的至少兩個(gè)角朝著窗口突出，所述至少兩個(gè)角中的兩個(gè)角沿矩形的對(duì)角線方向彼此面對(duì)；

掩模，固定到掩模框架，掩模包括布置為與窗口相對(duì)應(yīng)的多個(gè)開(kāi)口，

其中，基板安放部分與掩模接觸。

2.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，所述多個(gè)基板安放部分的形狀從由三角形、矩形、扇形和從矩形去除扇形而獲得的形狀組成的組中選擇。

3.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，掩模框架的厚度比掩模的厚度厚。

4.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，掩模是一體型掩模或分離型掩模，在一體型掩模中，所述多個(gè)開(kāi)口形成在一個(gè)金屬板上，在分離型掩模中，所述多個(gè)開(kāi)口分開(kāi)地形成在多個(gè)金屬板上。

5.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，所述多個(gè)開(kāi)口形成在掩模上，使得所述多個(gè)開(kāi)口不與基板安放部分疊置。

6.如權(quán)利要求1所述的掩模組件，其中，焊接部分形成在掩模的邊框上，邊框?qū)?yīng)于掩模框架的各個(gè)邊。

7.如權(quán)利要求6所述的掩模組件，其中，輔助焊接部分形成在掩模的一部分上，掩模的所述一部分對(duì)應(yīng)于掩模框架的所述多個(gè)基板安放部分。

8.一種薄膜沉積方法，所述薄膜沉積方法包括：

準(zhǔn)備包括第一邊、第二邊、第三邊和第四邊的掩模框架，第一邊、第二邊、第三邊和第四邊形成矩形，矩形的內(nèi)側(cè)限定窗口，掩模框架具有多個(gè)基板安放部分，所述多個(gè)基板安放部分被構(gòu)造為從矩形的至少兩個(gè)角朝窗口突出，所述至少兩個(gè)角中的兩個(gè)角沿矩形的對(duì)角線方向彼此面對(duì)；

在掩模框架上布置包括多個(gè)開(kāi)口的掩模并將掩模固定到掩模框架，開(kāi)口被布置為與窗口相對(duì)應(yīng)；

在掩模上安放基板，使得基板的外側(cè)被布置為與掩模框架的第一邊、第二邊、第三邊和第四邊的內(nèi)側(cè)貼合；

通過(guò)窗口和所述多個(gè)開(kāi)口在基板上沉積沉積材料。

9.如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，準(zhǔn)備掩模框架的步驟包括形成基板安放部分，使得基板安放部分的形狀從由三角形、矩形、扇形和從矩形去除扇形而獲得的形狀組成的組中選擇。

10.如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，準(zhǔn)備掩模框架的步驟包括形成掩模框架，使得掩模框架的厚度比掩模的厚度厚。

11.如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括將掩模制備成一體型掩模或分離型掩模，在一體型掩模中，所述多個(gè)開(kāi)口形成在一個(gè)金屬板上，在分離型掩模中，所述多個(gè)開(kāi)口分開(kāi)地形成在多個(gè)金屬板上。

12.如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括形成掩模，使得所述多個(gè)開(kāi)口不與基板安放部分疊置。

13.如權(quán)利要求8所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括在掩模的邊框上形成焊接部分，掩模的邊框?qū)?yīng)于掩模框架的各個(gè)邊。

14.如權(quán)利要求13所述的薄膜沉積方法，其中，固定掩模的步驟包括在掩模的一部分上形成輔助焊接部分，掩模的所述一部分對(duì)應(yīng)于掩模框架的所述多個(gè)基板安放部分。

15.如權(quán)利要求13所述的薄膜沉積方法，其中，安放基板的步驟包括準(zhǔn)備基板作為用于有機(jī)發(fā)光顯示裝置的基板。

16.如權(quán)利要求13所述的薄膜沉積方法，其中，沉積的步驟包括準(zhǔn)備沉積材料，所述沉積材料包括用于形成有機(jī)發(fā)光顯示裝置的金屬層的金屬材料或用于形成有機(jī)發(fā)光層的有機(jī)物。