[發(fā)明專利]用于光刻掩模版的快速交換裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410009171.0
• 申請日: 2009-04-14
• 公開（公告）號: CN103713475A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發(fā)明（設計）人: R·G·M·蘭斯博根;G·H·哈羅德;R·J·約翰森;H·J·G·范德維登
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司;ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王靜

1.一種交換光刻掩模版的方法，所述方法包括以下步驟：

(a)在可旋轉交換裝置的第一臂上接收用于保持第一掩模版的第一基板；和

(b)緩沖由所述可旋轉交換裝置的第二臂支撐的第二基板，

其中，所述第一和第二基板被設置在距離所述可旋轉交換裝置的旋轉軸線基本上等距的位置上，

其中所述方法還進一步包括步驟：

以電機系統(tǒng)來旋轉所述可旋轉交換裝置，其中所述電機系統(tǒng)被密封在真空腔中，使得基本上消除了來自所述電機系統(tǒng)的顆粒污染物和脫氣，所述真空腔還包括配置以密封所述可旋轉交換裝置的波紋管。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)對準被由所述可旋轉交換裝置的第三臂支撐的第三基板所保持的第三掩模版。

3.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)從所述可旋轉交換裝置卸載所述第一基板。

4.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)將第二掩模版從所述第二基板轉移至掩模版臺。

5.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)將第二掩模版從掩模版臺轉移至所述第二基板。

6.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)旋轉所述可旋轉交換裝置以移動所述第一基板至允許所述第一掩模版的預先對準的位置。

7.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)旋轉所述可旋轉交換裝置用以移動所述第一基板至允許將所述第一掩模版轉移至掩模版臺的位置。

8.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)旋轉所述可旋轉交換裝置用以移動所述第一基板至允許緩沖所述第一基板的位置。

9.根據(jù)權利要求1所述的方法，還包括步驟：

(c)旋轉所述可旋轉交換裝置用以移動所述第一基板至允許將所述第一基板轉移離開所述可旋轉交換裝置的位置。

10.一種交換光刻掩模版的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

旋轉支撐裝置，所述旋轉支撐裝置具有旋轉軸線；

第一基板支撐件，所述第一基板支撐件被連接至所述旋轉支撐裝置且被配置以在允許接收由第一基板保持的第一掩模版的第一位置處支撐所述第一基板；和

第二基板支撐件，所述第二基板支撐件被連接至所述旋轉支撐裝置且被配置以在允許緩沖由第二基板保持的第二掩模版的第二位置處支撐所述第二基板，

其中所述第一和第二基板支撐件被設置在距離所述旋轉軸線基本上等距的位置上且被配置以一致地旋轉，

其中所述系統(tǒng)還包括真空腔，所述真空腔被配置以密封電機系統(tǒng)，使得來自所述電機系統(tǒng)的顆粒污染物和脫氣基本上被消除，其中所述真空腔還包括被配置以密封所述旋轉支撐裝置的波紋管。

11.根據(jù)權利要求10所述的系統(tǒng)，還包括：

第三基板支撐件，所述第三基板支撐件被連接至所述旋轉支撐裝置且被配置以在允許緩沖第三基板的第三位置處支撐所述第三基板。

12.根據(jù)權利要求10所述的系統(tǒng)，還包括致動器，所述致動器被配置以沿著所述旋轉軸線平移所述旋轉支撐裝置。

13.一種交換光刻掩模版的方法，所述方法包括步驟：

(a)將第一掩模版和第一基板裝載到第一位置上；

(b)在第二位置處預先對準由第二基板支撐的第二掩模版；和

(c)在第三位置處緩沖第三基板，

其中所述步驟(a)、(b)和(c)基本上同時被執(zhí)行，

其中所述方法還進一步包括步驟：

以電機系統(tǒng)來旋轉可旋轉交換裝置用于將第一掩模版移動至第二位置，其中所述電機系統(tǒng)被密封在真空腔中，使得基本上消除了來自所述電機系統(tǒng)的顆粒污染物和脫氣，所述真空腔還包括配置以密封所述可旋轉交換裝置的波紋管。