[發明專利]在母材的表面通過掩模形成凸起的方法及裝置

在審

• 申請號: 201380077204.9
• 申請日: 2013-09-05
• 公開（公告）號: CN105378137A
• 公開（公告）日: 2016-03-02
• 發明（設計）人: 李相老;羅鐘周;樸明漸;金明根;金允煥;徐在亨;岳昕;李智英
• 申請（專利權）人: SEP株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/34;C23C16/04;C23C16/44
• 代理公司: 北京冠和權律師事務所 11399
• 代理人: 朱健;陳國軍

技術領域

本發明涉及一種通過掩模(masking)形成凸起的方法及裝置，更為詳細地涉及一種方法及裝置，其用于對母材的表面進行特殊處理，從而提高根據母材的AR特性調節的反射防止功能，并改善超疏水功能。

背景技術

通過在包括手機、平板電腦(tabletPC)等使用觸摸功能的顯示器(display)在內如TV和電腦顯示器等一樣的平板(flatpanel)顯示器的覆蓋窗(coverwindow)、太陽能電池的覆蓋窗、建筑物的外部玻璃、眼鏡、汽車用玻璃等減少光的反射，從而可提高設備的效率并提高能見度。

通常，透過光的界面的兩個媒質之間的折射率差較大時，產生根據被稱為菲涅耳(Fresnel)反射法則的兩個媒介之間的折射率和入射角及反射角決定反射率的反射現象。

顯示器設備在野外等當外部光強度較大時，即使是較小的反射率，也會因為僅次于從內部放出的光的強度而降低夜晚的能見度。

此外，類似于太陽能電池的覆蓋玻璃，越是提高太陽光的透過，越是增加發電量，因此應減少反射。另外，在建筑物外部玻璃或汽車玻璃上等，因為反射而導致的晃眼直接關系到安全問題，從而有必要達成一定水準以下的反射防止。

由此，以抑制玻璃表面上的反射為目的，相對于作為入射光波長的λ，具有大約λ/4的厚度同時，將具有空氣和玻璃的折射率之間值的物質涂覆在玻璃表面，則可減少反射。但是，所述方法相對于作為特定的波長的λ，可抑制反射，因此如果要對可視光全區域進行反射防止，則需要用對各種波長涂覆的多層薄膜進行涂覆。

此外，由多層薄膜形成的涂覆層與作為基板的玻璃的粘著力有限，因此會產生剝離，并且如果產生所述剝離，則表面的薄膜層由于不均勻而出現雜亂的顏色。

由于所述原因，通過多層薄膜涂覆的反射防止技術具有如下缺點，難以適用于觸摸面板等經常形成接觸的表面。

作為反射防止技術的另一方法，有最近迅速受到關注并進行研究的利用蛾眼效果的方法，如果將小于可見光線波長帶的直徑的納米凸起形成于玻璃表面，則可見光線透過所述表面時，無法識別納米凸起的存在，但是識別到根據凸起形狀玻璃表面的折射率逐漸變化，從而反射率降低。

通過用于將所述蛾眼效果實現于基板的方法，可以實現各種工藝，并且各個不同的工藝具有優缺點。例如納米壓印(nanoimprinting)技術在模具(mold)的表面形成納米結構物，從而利用液態聚合物(Polymer)可形成納米結構物，但是難以進行大面積和高速生產。

此外，在類似于光刻(Photo-lithography)的半導體工藝中，為了進行納米圖案化，而必須使用EUV，是費用非常高的工藝。由此，通過在透明的基板表面形成納米掩模并利用所述掩模在基板形成納米結構物，從而形成反射防止的技術中需要開發可進行大面積和連續工藝的技術。

由此，在基板本身形成納米結構物時，具有如下優點，無論何種情況都不會發生納米結構物剝離的問題，并且即使由于外部沖擊而發生損傷也不會被人的肉眼所識別。

另外，根據入射光的波長范圍，以及根據納米結構物的大小與形狀，反射率不同，因此為了對此進行調節，而需要如下技術：可以將納米掩模在大面積的基板上形成，并可以以各種尺寸和分布進行調節。

發明內容

本發明用于解決所述問題，目的在于制造在整個UV-IR波長范圍(180nm～1400nm)內AR特性得到提高的母材。

此外，本發明的目的在于，提供用于改善AR特性的各種裝置及工法。

用于解決所述課題的本發明的通過掩模形成凸起的方法，其包括：掩模形成步驟，在母材上形成掩模層；蝕刻步驟，對母材上未形成掩模的區域進行蝕刻；以及掩模去除步驟，去除所述掩模層，并且所述掩模形成步驟包括至少形成一個以上的小型掩模的步驟，以及至少形成一個以上的大型掩模的步驟。

作為掩模形成步驟的一個例子，將熔點不同的金屬在相同的溫度下進行供給，從而可以形成小型掩模或大型掩模，并且作為另一個例子，將相同的金屬用相互不同的處理時間期間或在相互不同的溫度下進行供給，從而也可以形成小型掩模或大型掩模。此外，就所述掩模形成步驟而言，將熔點不同的金屬用相互不同的處理時間期間或在相互不同的溫度下進行供給，從而可形成小型掩模或大型掩模。