[發明專利]粒子射線治療裝置

有效

• 申請號: 201380073590.4
• 申請日: 2013-02-22
• 公開（公告）號: CN105073191B
• 公開（公告）日: 2018-01-16
• 發明（設計）人: 小田原周平;原田久;池田昌廣;菅原賢悟
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 胡秋瑾

技術領域

本發明涉及一種在用于癌癥治療等的粒子射線治療裝置中特別使用旋轉吊架來進行多區域照射的粒子射線治療裝置。

背景技術

粒子射線治療通過對成為治療對象的患部照射帶電粒子的射束(粒子射線)使患部組織受損，由此來進行治療。此時，由于需要在不對周邊組織造成破壞的情況下向患部組織提供足夠的劑量，因此，要求恰當地對照射劑量、照射范圍(照射野)進行控制。為此，需要確保粒子射線的軌道準確，但由于從射線源到照射裝置的輸送路徑中存在設備的設置誤差、磁場強度等誤差，因此，粒子射線的軌道有可能會偏離設計軌道。

另一方面，在粒子射線治療中，為了減少對重要內臟器官輻射的劑量，同時又能確保對患部輻射的劑量從而保證治療效果，有時會采用稱為多區域照射的照射法，其中，該多區域照射中，改變射束的照射方向來對患部進行照射。作為用于多區域照射的裝置，可使用以包含患部(等中心)在內的轉軸為中心，使照射裝置本身旋轉的旋轉吊架。若為使用旋轉吊架的粒子射線治療裝置，則為了避免相對于等中心的誤差的狀態因旋轉吊架的旋轉角度(照射角度)而發生變動，尤其需要保證旋轉吊架入口處軌道的準確性。

因此，例如專利文獻1所記載的那樣，可考慮在輸送路徑中設置軌道修正裝置，使用兩個射束位置傳感器來修整粒子射線的軌道位置和傾斜度。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2003－282300號公報(段落0036、圖1)

專利文獻2：美國專利公報4,917,344(第3欄，第20-61行，圖1a、1b)

發明內容

發明所要解決的技術問題

然后，在上述那樣的軌道修正裝置中，由于其精度取決于兩個射束位置傳感器間的距離，因此，需要在輸送路徑中形成規定距離的直線部。例如，為了使誤差在0.1mm以內地向照射裝置提供按照正確的軌道通過旋轉吊架入口的粒子射線，需要設置長達數米的直線部。并且，若考慮到對于照射角度的依賴性，則需要將直線部設置在旋轉吊架的轉軸上，從而不僅要增大設置空間，而且設置靈活度也受到限制，設備變得過大。

本發明是為解決上述問題而完成的，其目的在于獲得一種粒子射線治療裝置，能夠抑制設備變得過大，并能夠準確地提供適當的劑量。

解決技術問題所采用的技術方案

本發明的粒子射線治療裝置是具有旋轉吊架的粒子射線治療裝置，該旋轉吊架構成為使得照射裝置繞著轉軸的周圍旋轉，由此來向被照射體照射粒子射線，所述粒子射線治療裝置的特征在于，所述旋轉吊架設置有偏轉電磁鐵，該偏轉電磁鐵具有使沿著所述轉軸提供來的粒子射線朝徑向偏轉并導入所述照射裝置的偏轉路徑、以及與所述偏轉路徑自由切換并使所述提供的粒子射線直線前進的直進路徑，所述粒子射線治療裝置還包括軌道修正裝置，該軌道修正裝置具有在所述轉軸方向的兩側夾著所述偏轉電磁鐵而配置的兩個位置傳感器。

發明效果

根據本發明的粒子射線治療裝置，由于使用旋轉吊架內的空間來確保直線距離，因此可獲得能夠抑制設置空間且能準確地提供適當劑量的粒子射線治療裝置。

附圖說明

圖1是用于說明本發明的實施方式1所涉及的粒子射線治療裝置的結構的旋轉吊架附近部分的圖。

圖2是用于說明本發明的實施方式1所涉及的粒子射線治療裝置的整體結構的圖。

圖3是用于說明本發明的實施方式2所涉及的粒子射線治療裝置的結構的旋轉吊架附近部分的圖。

圖4是用于說明本發明的實施方式3所涉及的粒子射線治療裝置的結構的旋轉吊架附近部分的圖。

圖5是用于說明本發明的實施方式4所涉及的粒子射線治療裝置的結構的旋轉吊架附近部分的圖。

圖6是用于說明本發明的實施方式5所涉及的粒子射線治療裝置的結構的旋轉吊架附近部分的圖。

圖7是用于說明本發明的實施方式6所涉及的粒子射線治療裝置的結構的示出旋轉吊架的剖面形狀的示意圖。

圖8是用于對現有的粒子射線治療裝置與本發明的實施方式7所涉及的粒子射線治療裝置的大小進行比較的圖。

圖9是用于對現有的粒子射線治療裝置與本發明的實施方式8所涉及的粒子射線治療裝置的大小進行比較的圖。

具體實施方式

實施方式1