[發明專利]粒子射線治療裝置有效
| 申請號： | 201380073590.4 | 申請日： | 2013-02-22 |
| 公開（公告）號： | CN105073191B | 公開（公告）日： | 2018-01-16 |
| 發明（設計）人： | 小田原周平;原田久;池田昌廣;菅原賢悟 | 申請（專利權）人： | 三菱電機株式會社 |
| 主分類號： | A61N5/10 | 分類號： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人： | 胡秋瑾 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 粒子 射線 治療 裝置 | ||
1.一種粒子射線治療裝置，該粒子射線治療裝置具有旋轉吊架，該旋轉吊架構成為使照射裝置繞著轉軸的周圍旋轉，由此向被照射體照射粒子射線，所述粒子射線治療裝置的特征在于，
所述旋轉吊架設置有偏轉電磁鐵，該偏轉電磁鐵具有使沿著所述轉軸提供而來的粒子射線朝徑向偏轉從而導入所述照射裝置的偏轉路徑，以及與所述偏轉路徑自由切換并使提供的所述粒子射線直線前進的直進路徑，
所述粒子射線治療裝置還包括軌道修正裝置，該軌道修正裝置具有在所述轉軸方向的兩側夾著所述偏轉電磁鐵而配置的兩個射束位置傳感器，
所述軌道修正裝置具有兩組轉向電磁鐵，該兩組轉向電磁鐵由配置于所述偏轉電磁鐵的上游側的、用于修正粒子射線的軌道的位置的轉向電磁鐵和用于修正粒子射線的軌道的傾斜度的轉向電磁鐵構成。
2.如權利要求1所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
所述兩組轉向電磁鐵與所述兩個射束位置傳感器一起排列配置在所述轉軸的延長線上。
3.如權利要求1所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
所述兩組轉向電磁鐵配置在所述兩個射束位置傳感器的上游側。
4.如權利要求2所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
所述兩組轉向電磁鐵配置在所述兩個射束位置傳感器的上游側。
5.如權利要求1所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
所述兩組轉向電磁鐵被配置成夾著所述兩個射束位置傳感器中設置于上游側的一個射束位置傳感器。
6.如權利要求2所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
所述兩組轉向電磁鐵被配置成夾著所述兩個射束位置傳感器中設置于上游側的一個射束位置傳感器。
7.如權利要求1至6的任一項所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
所述兩個射束位置傳感器中配置于下游側的一個射束位置傳感器設置在用于對所述被照射體照射粒子射線的照射室內。
8.如權利要求7所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
在所述兩個射束位置傳感器中配置于下游側的一個射束位置傳感器與所述偏轉電磁鐵之間，設置有能自由拆卸的管道，該管道的內部能夠成為真空或規定的氣體氣氛。
9.如權利要求8所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，
所述旋轉吊架設置有收納所述管道的收納部。
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