[發明專利]分光測定裝置及分光測定方法

有效

• 申請號: 201380072223.2
• 申請日: 2013-09-17
• 公開（公告）號: CN104981687B
• 公開（公告）日: 2017-08-11
• 發明（設計）人: 江浦茂;鈴木健吾;池村賢一郎;井口和也
• 申請（專利權）人: 浜松光子學株式會社
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01J3/443
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司11322
• 代理人: 楊琦

1.一種分光測定裝置，其特征在于，

是對作為測定對象的試樣照射激發光而檢測被測定光的分光測定裝置，

包含：

光源，其產生所述激發光；

積分器，其具有入射所述激發光的入射開口部、及射出被測定光的射出開口部；

收納部，其配置于所述積分器內，且收納所述試樣；

入射光學系統，其使所述激發光入射至所述試樣；

光檢測器，其檢測自所述射出開口部射出的被測定光；及

解析單元，其基于由所述光檢測器檢測的檢測值，計算所述試樣的光吸收率，

向所述試樣入射的入射位置上的所述激發光的照射面積大于所述試樣的被照射面積，

所述解析單元對于所計算出的所述光吸收率，進行與所述激發光的所述照射面積及所述試樣的所述被照射面積相關的面積比修正。

2.如權利要求1所述的分光測定裝置，其特征在于，

所述激發光以包含所述試樣的方式被照射于該試樣。

3.如權利要求2所述的分光測定裝置，其特征在于，

所述面積比修正通過將所述激發光的照射面積除以所述試樣的被照射面積后的值乘以所述光吸收率來進行。

4.如權利要求3所述的分光測定裝置，其特征在于，

所述解析單元基于下式(1)的所述面積比修正的關系式，計算所述光吸收率，

[數1]

其中，

A：光吸收率，ρ＝積分器反射率，S₁：試樣的被照射面積，S₂：激發光的照射面積，

Abs₁₂：間接激發時的光吸收率，Abs₂₂：直接激發時的光吸收率。

5.如權利要求1至4中任一項所述的分光測定裝置，其特征在于，

所述入射光學系統以所述激發光的照射面積大于所述試樣的所述被照射面積的方式調整所述激發光。

6.一種分光測定方法，其特征在于，

是對作為測定對象的試樣照射激發光而檢測被測定光的分光測定方法，

包含：

在積分器內配置所述試樣的工序；

以向所述試樣入射的入射位置上的所述激發光的照射面積大于所述試樣的被照射面積的方式，向所述積分器內照射所述激發光并入射至所述試樣的工序；

由光檢測器檢測自所述積分器射出的被測定光的工序；及

基于由所述光檢測器檢測出的檢測值，計算所述試樣的光吸收率的工序，

在計算所述光吸收率的工序中，相對于所述光吸收率，進行與所述激發光的所述照射面積及所述試樣的所述被照射面積相關的面積比修正。

7.如權利要求6所述的分光測定方法，其特征在于，

在使所述激發光入射至所述試樣的工序中，所述激發光以包含所述試樣的方式被照射。

8.如權利要求7所述的分光測定方法，其特征在于，

所述面積比修正通過將所述激發光的照射面積除以所述試樣的被照射面積后的值乘以所述光吸收率來進行。

9.如權利要求7所述的分光測定方法，其特征在于，

在計算所述光吸收率的工序中，基于下式(2)的所述面積比修正的關系式，計算所述光吸收率，

[數2]

其中，

A：光吸收率，ρ＝積分器反射率，S₁：試樣的被照射面積，S₂：激發光的照射面積，

Abs₁₂：間接激發時的光吸收率，Abs₂₂：直接激發時的光吸收率。