[發明專利]光刻設備、襯底支撐系統、器件制造方法以及控制程序在審
| 申請號: | 201380071385.4 | 申請日: | 2013-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN104956263A | 公開(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發明(設計)人: | M·M·J·范德瓦爾;W·H·T·M·安格內恩特;R·I·卡米迪;K·曼索烏里 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 吳敬蓮 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 設備 襯底 支撐 系統 器件 制造 方法 以及 控制程序 | ||
相關申請的交叉引用
本申請要求于2012年11月27日遞交的美國臨時申請61/730,428的權益,并且其通過引用全文并入本文。
技術領域
本發明涉及一種光刻設備、襯底支撐系統、器件制造方法以及控制程序。
背景技術
光刻設備是一種將期望的圖案應用到襯底上,通常是襯底的目標部分上的機器。例如,可以將光刻設備用在集成電路(ICs)的制造中。在這種情況下,可以將可選地稱為掩?;蜓谀0娴膱D案形成裝置用于生成將要在所述IC的單層上形成的電路圖案。這種圖案可以被轉移到襯底(例如硅晶片)上的目標部分(例如包括部分管芯、一個或若干個管芯)上。通常,圖案轉移是通過將圖案成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。通常,單個襯底將包含被連續圖案化的相鄰的目標部分的網絡。已知的光刻設備包括:所謂的步進機,在步進機中通過將整個圖案一次曝光到目標部分上來照射每個目標部分;和所謂的掃描機,在掃描機中通過沿給定方向(“掃描”方向)用輻射束掃描圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描襯底,而照射每個目標部分。還可以通過將圖案壓印到襯底上而將圖案從圖案形成裝置轉移至襯底。
已經提出將光刻投影設備中的襯底浸沒到具有相對高折射率的液體(例如水)中,以便充滿投影系統的最終元件和襯底之間的空間。在一實施例中,液體是蒸餾水,但是可以使用其他液體。本發明的實施例將參考液體進行描述。然而,其它流體也可能是適合的,尤其是潤濕性流體、不能壓縮的流體和/或具有比空氣高的折射率的流體,期望地,其為具有比水高的折射率的流體。除氣體之外的流體尤其是希望的。這樣能夠實現更小特征的成像,因為在液體中曝光輻射將會具有更短的波長。(液體的影響也可以被看成提高系統的有效數值孔徑(NA),并且也增加焦深)。還提出了其他浸沒液體,包括其中懸浮有固體顆粒(例如石英)的水,或具有納米懸浮顆粒(例如具有最大尺寸達10nm的顆粒)的液體。這種懸浮的顆??梢跃哂谢虿痪哂信c它們懸浮所在的液體相似或相同的折射率。其他可能合適的液體包括烴(例如芳香烴、氟化烴和/或水溶液)。
發明內容
最通用的光刻設備操作在所謂的掃描模式中,以便最大化可曝光場的尺寸和生產量,而不需要過大的光學系統。在掃描曝光中,例如在掩模上的圖案通過投影系統的視場被掃描,而同時襯底通過投影系統的像場被同步地掃描。在該動態過程中的定位誤差,例如重疊誤差和聚焦誤差,應保持在可接受的限度內,隨著待形成的特征的尺寸的降低這趨于變得更嚴。增加襯底尺寸也使定位襯底臺和相關的部件的問題變得更難。
因此,希望提供一種改善光刻設備中的物體的動態定位的技術,以降低重疊和其它定位誤差。
根據本發明的一個方面,提供了一種光刻設備,包括:被驅動的物體,所述被驅動的物體具有柔順動態特性(compliant?dynamics);多個致動器,所述多個致動器被配置為作用在被驅動的物體上,其中所述多個致動器在致動器自由度上是超定的;控制系統,所述控制系統包括變換矩陣,所述變換矩陣被配置為響應于設定點產生用于所述多個致動器中的每個致動器的控制器輸出信號,其中所述變換矩陣被配置為使得所述控制器輸出信號不會激發被驅動的物體的在至少一個自由度上的柔順動態特性。
根據本發明的一個方面,提供了一種襯底支撐系統,包括:襯底臺,所述襯底臺具有柔順動態特性;多個致動器,所述多個致動器被配置為作用在襯底臺上,其中所述多個致動器在致動器自由度上是超定的;控制系統,所述控制系統包括變換矩陣,所述變換矩陣被配置為響應于設定點產生用于所述多個致動器中的每個致動器的控制器輸出信號,其中所述變換矩陣被配置為使得所述控制器輸出信號不會激發襯底臺的在至少一個自由度上的柔順動態特性。
根據本發明的一個方面,提供了一種光刻設備,包括:被驅動的物體,所述被驅動的物體具有柔順動態特性;多個致動器,所述多個致動器被配置為作用在被驅動的物體上;多個傳感器,每個傳感器被配置為提供表示被驅動的物體的位置或位移的傳感器信號,其中所述多個傳感器在傳感器自由度上是超定的;變換矩陣,所述變換矩陣被配置為轉換所述傳感器信號,以便不會看到被驅動的物體的在至少一個自由度上的柔順動態特性的效果;以及控制系統,所述控制系統被配置為響應于設定點和變換的傳感器信號產生用于所述多個致動器中的每個致動器的控制器輸出信號。
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