[發明專利]光刻設備、襯底支撐系統、器件制造方法以及控制程序

在審

• 申請號: 201380071385.4
• 申請日: 2013-11-25
• 公開（公告）號: CN104956263A
• 公開（公告）日: 2015-09-30
• 發明（設計）人: M·M·J·范德瓦爾;W·H·T·M·安格內恩特;R·I·卡米迪;K·曼索烏里
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種光刻設備，包括：

被驅動的物體，所述被驅動的物體具有柔順動態特性；

多個致動器，所述多個致動器被配置為作用在被驅動的物體上，其中所述多個致動器在致動器自由度上是超定的；

控制系統，所述控制系統包括變換矩陣，所述變換矩陣被配置為響應于設定點產生用于所述多個致動器中的每個致動器的控制器輸出信號，

其中所述變換矩陣被配置為使得所述控制器輸出信號不會激發被驅動的物體在至少一個自由度上的柔順動態特性。

2.如權利要求1所述的光刻設備，其中所述多個致動器在兩個或更多個致動器自由度上是超定的，并且所述變換矩陣被配置為使得所述控制器輸出信號不會激發被驅動的物體的在數量上等于超定的致動器自由度的數量的自由度上的柔順動態特性。

3.如權利要求1或2所述的光刻設備，其中所述多個致動器包括多于六個的致動器，所述多于六個的致動器被配置和布置為在六個自由度上定位被驅動的物體。

4.如權利要求1、2或3所述的光刻設備，其中被驅動的物體具有第一共振模態，所述第一共振模態為在被驅動的物體的所有共振模態中具有最低頻率的共振模態，并且所述變換矩陣被配置為使得在低于第一共振模態的頻率的一半頻率的情況下所述控制器輸出信號不會激發被驅動的物體在至少一個自由度上的柔順動態特性。

5.如權利要求1、2、3或4所述的光刻設備，其中所述變換矩陣被配置為使得在低于預定頻率的頻率的情況下所述控制器輸出信號不會激發被驅動的物體在至少一個自由度上的柔順動態特性。

6.如權利要求1-5中任一項所述的光刻設備，其中所述變換矩陣GB滿足下面的條件式：

S·Σi=7Nviyviu0ki·GB=0.]]>??等式6

其中S為表示其中柔順行為不會被激發的自由度的選擇矩陣，v_i^y表示由測量系統測量的由于第i模態被驅動的物體的位移，v_i^u0表示在物理致動器處的由于第i模態被驅動的物體的位移。

7.如權利要求1-6中任一項所述的光刻設備，其中所述變換矩陣進一步被配置為執行被驅動的物體的對角化的剛體行為。

8.如權利要求1-7中任一項所述的光刻設備，其中所述變換矩陣進一步被配置為降低被驅動的物體的內部變形。

9.如權利要求1-8中任一項所述的光刻設備，其中被驅動的物體從如下構成的組中選擇：襯底臺、襯底保持裝置、用于圖案形成裝置的支撐結構、掩模臺、反射器、掩模版遮蔽葉片。

10.如權利要求1-9中任一項所述的光刻設備，其中所述控制系統響應于一系列設定點產生一系列控制器輸出信號。

11.一種襯底支撐系統，包括：

襯底臺，所述襯底臺具有柔順動態特性；

多個致動器，所述多個致動器被配置為作用在襯底臺上，其中所述多個致動器在致動器自由度上是超定的；

控制系統，所述控制系統包括變換矩陣，所述變換矩陣被配置為響應于設定點產生用于所述多個致動器中的每個致動器的控制器輸出信號，

其中所述變換矩陣被配置為使得所述控制器輸出信號不會激發襯底臺的在至少一個自由度上的柔順動態特性。