[發明專利]載玻片染色組件以及蓋體部件

在審

• 申請號: 201380069047.7
• 申請日: 2013-11-01
• 公開（公告）號: CN104884931A
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發明（設計）人: 肯尼思·衡沖·額;馬克·布賴恩·多克里爾;彼得·圖古德;馬丁·利蒙;丹尼爾·多布羅戈爾斯基;馬克·威爾科克;格雷戈·博伊斯;布倫丁·羅杰斯;斯蒂芬·約翰·巴尼亞托;阿尚·奇蘭加·佩雷拉
• 申請（專利權）人: 萊卡生物系統墨爾本私人有限公司
• 主分類號: G01N1/30
• 分類號: G01N1/30;G01N1/31
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 李靜;馬強

技術領域

本發明涉及一種通常在實驗室儀器中使用載玻片染色組件，以用于促進樣本在載玻片上自動染色。本發明特別地但并非僅涉及一種配置為可釋放地保持蓋體部件以用于與載玻片形成反應室的組件，并且涉及一種蓋體部件本身。

背景技術

免疫組織化學染色和原位核酸分析是用于組織學診斷和組織形態的研究中的工具。免疫組織化學染色依賴于抗體與在組織樣本中的表位的特定親合力以及與僅存在于某些類型的病變細胞組織中的獨特表位特別結合的抗體的較大可用性。免疫組織化學染色涉及在組織樣本(通常是一部分)上進行的一系列處理步驟，該組織樣本安裝在玻璃載片上，以通過選擇性染色來突出疾病狀態的某些形態指標。

典型的處理步驟包括預先處理組織樣本，以減少非特異性結合、抗體處理和孵化、酶標記的二次抗體處理和孵化、與酶進行底物反應以產生使具有與抗體結合的表位的組織樣本的區域凸顯的熒光團或發色團、對比染色等。在每個處理步驟之間，組織樣本必須被清洗以從前一個步驟中移除未反應的殘余試劑。大部分處理步驟涉及通常在大約25℃直到大約40℃的環境溫度下進行的孵化的周期，而細胞調節步驟通常在略微更高的溫度(例如，90℃到100℃)下進行。原位DNA分析依賴于探針(DNA結合蛋白)與在細胞或組織樣本中的獨特的核苷酸序列的特定親合力，并且類似地涉及具有各種試劑和工藝溫度要求的一系列處理步驟。一些特定的反應涉及高達120℃到130℃的溫度。

存在儀器和自動樣本處理系統，以用于上文討論的處理工藝中自動操作一些步驟。然而，涉及使用反應室的當前系統通常造成在試劑施加之間的組織樣本干燥。為了補償，需要持續地對組織樣本進行水合。水合溶液在組織樣本中的自動施加要求使用儀器的機器人試劑分配系統。由于自動系統中的樣本脫水，所以需要在工藝中加入額外的處理步驟，該工藝限制了機器人分配器對在儀器上進行其他反應所需要的實質性的步驟的可用性。

一些系統被設計成通過在引入試劑的載玻片上使用略微封閉的反應室來減少樣本脫水。很多這樣的系統依賴于吸水活動，以在組織樣本之上吸入試劑。這些系統需要將試劑精確且準確地施加于吸水目標中，以確保試劑一致地并且均勻地流入反應室中。如果系統失去校準，則試劑的施加失去吸水目標。不利的影響可很顯著的，并且其引起樣本退化、試劑浪費、染色性差、損失儀器時間并且延遲樣本處理，這可對患者產生嚴重的影響。為了避免這種問題，需要合格技術人員進行定期儀器校準，來確保精確的試劑施加、一致的試劑流量以及由此一致的樣本染色。

本發明旨在在現有樣本染色系統上改進和/或克服或緩解現有技術的一些問題。

本發明的包括在本文中的背景討論(包括文檔、作用、材料、裝置、物品等的引用)旨在解釋本發明的背景。由于任何暫時的權利要求的優先權日期，所以這并非被視為許可或者暗示公布、已知所提及的任何材料或者這些材料是公知常識的一部分。

發明內容

從一個方面看，本發明提供了一種用于對基底(substrate，襯底)上的樣本進行處理的樣本處理組件，所述組件包括：用于基底的安裝表面；以及閉合主體，該閉合主體被配置為可釋放地保持蓋體部件，該閉合主體可在打開位置與大體上閉合位置之間移動。在基底位于該組件中并且該閉合主體處于大體上閉合位置中同時保持蓋體部件時，形成反應室，以用于對樣本進行處理。

在一個優選的實施方式中，組件包括至少一個第一引導件，至少一個第一引導件被配置為在將基底放置在組件中期間，在至少第一方向上限制基底(例如，病理載玻片)的運動。理想地，雖然可采用其他形式，但至少一個第一引導件是在安裝表面上的突出部分。優選地，還提供了位于安裝表面上的至少一個第二引導件。第二引導件在與第一方向不同的第二方向上限制基底的運動。通常，第一方向設置成與第二方向垂直。理想地，至少一個第二引導件是突出部分，該突出部分成形為與蓋體部件中的相應凹口配合。在使用期間，至少一個第二引導件與蓋體部件中的相應凹口配合，以用于蓋體部件的最佳對準，從而用于與基底表面形成反應室。反應室可由在安裝表面上的基底/載玻片或者在適當位置中不具有載玻片的安裝表面形成。在前一種布置中，反應室通過分配到反應室中的試劑而促進載玻片上的樣品的受控處理。在后一種設置中，反應室通過分配到反應室中的試劑促進清洗蓋體部件。

優選地，該組件包括關閉偏置裝置，以用于施加偏置力，這樣使得閉合主體在大體上閉合位置中偏置。打開偏置裝置還可被設置成用于施加打開偏置力。優選地，關閉偏置裝置被配置為施加比打開偏置裝置更大的偏置力。