[發明專利]載玻片染色組件以及蓋體部件

在審

• 申請號: 201380069047.7
• 申請日: 2013-11-01
• 公開（公告）號: CN104884931A
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發明（設計）人: 肯尼思·衡沖·額;馬克·布賴恩·多克里爾;彼得·圖古德;馬丁·利蒙;丹尼爾·多布羅戈爾斯基;馬克·威爾科克;格雷戈·博伊斯;布倫丁·羅杰斯;斯蒂芬·約翰·巴尼亞托;阿尚·奇蘭加·佩雷拉
• 申請（專利權）人: 萊卡生物系統墨爾本私人有限公司
• 主分類號: G01N1/30
• 分類號: G01N1/30;G01N1/31
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 李靜;馬強

1.一種用于對基底上的樣本進行處理的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括：

a.用于基底的安裝表面；以及

b.閉合主體，所述閉合主體被配置為能釋放地保持蓋體部件，所述閉合主體能在打開位置與大體上閉合位置之間移動；

其中，在基底位于所述樣本處理組件中并且所述閉合主體處于大體上閉合位置中且同時保持蓋體部件時，形成反應室，以用于對樣本進行處理。

2.根據權利要求1所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括至少一個第一引導件，所述至少一個第一引導件被配置為在將所述基底放置在所述樣本處理組件中期間，在至少第一方向上限制基底的運動。

3.根據權利要求2所述的樣本處理組件，其中，所述至少一個第一引導件是安裝表面上的突出部分。

4.根據權利要求2或3所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括位于安裝表面上的至少一個第二引導件，以用于在與所述第一方向不同的第二方向上限制基底的運動。

5.根據權利要求4所述的樣本處理組件，其中，所述至少一個第二引導件是突出部分，所述突出部分成形為與蓋體部件中的相應凹口配合，并且其中，所述至少一個第二引導件與相應的凹口配合，以用于蓋體部件的最佳對準，從而與基底或安裝表面形成反應室。

6.根據前述權利要求中任一項所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括關閉偏置裝置，以用于施加偏置力，使得所述閉合主體在大體上閉合位置中偏置。

7.根據前述權利要求中任一項所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括打開偏置裝置，以用于施加打開偏置力。

8.根據權利要求6和7所述的樣本處理組件，其中，所述關閉偏置裝置被配置為施加比所述打開偏置裝置更大的偏置力。

9.根據前述權利要求中任一項所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括具有棘爪的阻止臂，所述棘爪被配置為與所述閉合主體中的凹槽配合，以將所述閉合主體保留在所述閉合位置中。

10.根據權利要求9所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括承載表面，所述承載表面被設置為朝著所述阻止臂的一端，使得在向所述承載表面施加打開力時，所述棘爪從閉合主體內的凹槽中釋放，并且所述閉合主體移動到打開位置。

11.根據前述權利要求中任一項所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括力分布部件，以用于分布施加至所述閉合主體的力。

12.根據前述權利要求中任一項所述的樣本處理組件，其中，所述閉合主體包括第一流體流動路徑，所述第一流體流動路徑被配置為在所述蓋體部件由所述閉合主體保持時與所述蓋體部件中的流體端口流體連通，其中，在使用期間，所述第一流動路徑允許在反應室與流體源之間進行流體傳輸，所述流體源與所述樣本處理組件相關聯。

13.根據權利要求12所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件還包括所述閉合主體上的能移除殼體，所述能移除殼體被配置為在所述閉合主體內對所述第一流體流動路徑的管道形成部分進行定向。

14.根據前述權利要求中任一項所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括耦接裝置，以用于將所述蓋體部件能釋放地連接至所述閉合主體。

15.根據權利要求14所述的樣本處理組件，其中，所述耦接裝置包括位于所述閉合主體和所述蓋體部件中的一個上的一個或多個突出部分，以用于與位于所述閉合主體與所述蓋體部件中的另一個上的表面接合，在所述閉合主體與所述蓋體部件之間形成可釋放的耦接。

16.根據權利要求14或15所述的樣本處理組件，其中，所述耦接裝置包括軌道或導向通道，以用于滑動地耦接所述蓋體部件和所述閉合主體。

17.根據權利要求14至16中任一項所述的樣本處理組件，其中，所述閉合主體和所述蓋體部件中的一個包括釋放片，以用于釋放所述耦接，從而能夠將所述蓋體部件從所述閉合主體釋放。

18.根據前述權利要求中任一項所述的樣本處理組件，所述樣本處理組件包括熱電模塊，所述熱電模塊與安裝表面耦接，所述熱電模塊用于改變反應室中的溫度。