[發(fā)明專利]散氣裝置的運行方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380068128.5
• 申請日: 2013-10-22
• 公開（公告）號: CN104884394B
• 公開（公告）日: 2018-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄒卓裔;笹川學(xué);古野真介
• 申請（專利權(quán)）人: 三菱化學(xué)株式會社
• 主分類號: C02F3/20
• 分類號: C02F3/20;B01D65/02;B01F3/04;B01F5/06;C02F1/44
• 代理公司: 上海市華誠律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 梅高強(qiáng);劉煜

1.一種散氣裝置的運行方法，所述散氣裝置配置在膜組件單元的下方并通過散氣對所述膜組件單元進(jìn)行清洗，所述散氣裝置具有：在上部形成有多個散氣孔的沿水平方向延伸的散氣管；以及開口管，所述開口管的一端與所述散氣管的末端直接或間接連通，所述開口管的開口端向縱向下方側(cè)開放，且沿縱向延伸，該散氣裝置的運行方法的特征在于，以滿足下式(1)的方式調(diào)節(jié)供給到每一根散氣管的氣體的風(fēng)量：

(D×d×n)/Q≤7.5…(1)

所述式(1)中，D是散氣管的內(nèi)徑，其單位為mm，d是散氣孔的直徑，其單位為mm，n是每一根散氣管的散氣孔的數(shù)量，其單位為個，Q是供給到每一根散氣管的氣體的風(fēng)量，其單位為l/min，

作為表示散氣均勻性的指標(biāo)的方差滿足下式(2)：

方差＝{(V₁-V)²+(V₂-V)²+…+(V_n-V)²}/n≤2…(2)

所述式(2)中，V₁、V₂、…V_n是從形成于每一根散氣管的n個散氣孔分別散氣的空氣的流速，V是從各散氣孔散氣的空氣的平均流速，

并且，從所述散氣管的上端的切線至所述開口管的另一端的、向縱向下方側(cè)延伸的管部的長度相對于所述散氣管的內(nèi)徑D為2～5倍。

2.權(quán)利要求1所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，具有：從外部被供給氣體的主配管；多個所述散氣管；以及所述開口管，所述散氣管的基端與所述主配管連通。

3.如權(quán)利要求2所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，具有：所述主配管；所述多個散氣管；以及所述開口管，所述開口管的一端與每個所述散氣管的末端直接連通。

4.如權(quán)利要求2所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，具有：所述主配管；所述多個散氣管；使所述散氣管的末端之間連通的連通部件；以及一端與所述連通部件連通的一個或多個所述開口管。

5.如權(quán)利要求4所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，所述散氣管的根數(shù)A和所述開口管的根數(shù)B之比A/B是1～3.5。

6.如權(quán)利要求1所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，所述散氣管的長度L是200～500mm。

7.如權(quán)利要求1所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，所述散氣管的內(nèi)徑D是6～20mm，所述散氣孔的直徑d是3～10mm。

8.如權(quán)利要求1所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，每一根所述散氣管的所述散氣孔的數(shù)量是3～5個。

9.如權(quán)利要求1所述的散氣裝置的運行方法，其特征在于，所述多個散氣孔的間隔是50～120mm。