[發(fā)明專利]硬盤用玻璃基板的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380064023.2 | 申請日： | 2013-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN104838444B | 公開（公告）日： | 2018-06-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 原田圓央;塚田和也 | 申請（專利權(quán)）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84;B24B37/04;B24B37/08;B24B7/17;B24B7/22;C03C3/095 |
| 代理公司： | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香蘭;龐東成 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 磨削 表面活性劑 金剛石 玻璃基板 固定磨粒 非離子 磨削液 硬盤 陰離子表面活性劑 平均粒徑 粗研磨 薄膜 制造 流動 | ||
1.一種硬盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，至少包括：
使用游離磨粒的第1磨削工序；
精磨削工序，所述第1磨削工序后，在使磨削液流動的狀態(tài)下利用金剛石固定磨粒進(jìn)行磨削；以及
第1和第2研磨工序，其中，
所述精磨削工序使用具有平均粒徑0.5μm以上且小于2.0μm的金剛石固定磨粒的磨削薄膜來進(jìn)行，并且所述磨削液至少含有陰離子表面活性劑及分子量在500至10000的范圍內(nèi)的非離子系表面活性劑，所述非離子系表面活性劑相對于表面活性劑總量的比例大于70質(zhì)量％，
所述第1和第2研磨工序的至少一者使用含有氧化鈰的研磨液來進(jìn)行，通過所述第2研磨工序得到算術(shù)平均粗糙度Ra為以下的玻璃基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于：所述磨削液還含有含磷螯合劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于：所述精磨削工序中的所述磨削液的流量為1.5l/min以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于：在所述第1磨削工序與所述精磨削工序之間，還進(jìn)行第2磨削工序。
5.一種硬盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，至少包括：
使用游離磨粒的第1磨削工序；
精磨削工序，所述第1磨削工序后，在使磨削液流動的狀態(tài)下利用金剛石固定磨粒進(jìn)行磨削；其中，
所述精磨削工序使用具有平均粒徑0.5μm以上且小于2.0μm的金剛石固定磨粒的磨削薄膜來進(jìn)行，并且所述磨削液至少含有陰離子表面活性劑及分子量在500至10000的范圍內(nèi)的非離子系表面活性劑，所述非離子系表面活性劑相對于表面活性劑總量的比例大于70質(zhì)量％，
在所述精磨削工序中，通過對玻璃基板的表面進(jìn)行磨削，從而使主表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.005μm以下、平坦度為4μm以下，之后進(jìn)行第1研磨工序和第2研磨工序，第1研磨工序使用含有氧化鈰的研磨液，第2研磨工序使用膠體二氧化硅。
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