[發明專利]玻璃基板的清洗方法

在審

• 申請號: 201380063534.2
• 申請日: 2013-12-03
• 公開（公告）號: CN104853853A
• 公開（公告）日: 2015-08-19
• 發明（設計）人: 青野信幸;長沼純;宮本定治
• 申請（專利權）人: 花王株式會社
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;C11D7/04;C11D7/32;C11D17/08;G02F1/13;G02F1/1333
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 劉文海

技術領域

本發明涉及玻璃基板的清洗方法以及玻璃硬盤基板的制造方法。

背景技術

近年來，個人計算機或各種電子設備逐步處理動畫或音頻等較大的數據，因此需要大容量的信息記錄裝置。其結果，信息記錄媒體對高記錄密度化的要求逐年提升。為了應對此種情況，硬盤采用垂直磁記錄方式，從而促進了量產化。在該垂直磁記錄方式中，與現在的基板相比，信息記錄媒體用基板(以下也稱為“硬盤基板”)對基板要求更高等級的耐熱性、表面平滑性。此外，現在更重要的是具有：用以減輕對主軸馬達的負擔的低比重化、用以防止盤片損壞的高機械強度以及可耐受掉落時對頭部的沖擊的高破壞韌性。

作為信息記錄媒體用基板中使用的材料，有鋁合金、玻璃等。玻璃與鋁合金相比維氏硬度較高、表面平滑性較高，就此方面而言較有優勢，現在較多地用于假定動態使用的用途。

并且，在作為信息記錄媒體用基板的玻璃中，結晶化玻璃在如下方面具有優異的特性：耐熱性優異、耐沖擊特性較高而掉落強度優異、由于高剛性而耐擦傷且不易使頭部損壞、高旋轉時基板不易變形等。由于此種特性，結晶化玻璃基板是有望用作高記錄密度化的信息記錄媒體的材料。

日本特開2007-223884號公報中公開：將研磨后的表面粗糙度設為Ra1、將研磨加工后的經由酸清洗和/或堿清洗引起的表面粗糙度設為Ra2時，表面粗糙度變化率(|Ra2－Ra1|/Ra1)的值低于0.62的無機組合物。并且，公開了無機組合物為結晶化玻璃，且用作磁盤制造用基板。在實施例中公開有利用氫氟酸進行的清洗。

此外，在日本特開2010-257510號公報中公開有具有Ni-P層的硬盤基板用清洗劑組合物。該清洗劑組合物含有胺及堿。日本特開2012-107226號公報中公開有玻璃硬盤基板的制造方法。該制造方法包括：使用含有分子內具有2～10個氮原子的多元胺化合物的、pH值為1.0～4.2的研磨液組合物對被研磨玻璃基板進行研磨的工序；及使用pH值為8.0～13.0的清洗劑組合物進行清洗的工序。在該制造方法中公開了在堿清洗工序中抑制表面粗糙度變差。日本特開2009-206481號公報中公開有電子材料用(玻璃用)清洗劑。該清洗劑含有陰離子性表面活性劑、有機溶劑以及堿成分。且公開利用該清洗劑，可在不損害表面平坦性的條件下實現優異的微粒去除性。作為該堿性成分，可列舉：碳數1～36的脂肪胺、無機堿、碳數1～23的烷醇胺以及碳數4～10的脒化合物。

發明內容

發明要解決的問題

從研磨粒子等微粒的清洗的觀點來看，玻璃基板的清洗期望在堿性條件下進行清洗。然而，若在堿性條件下對玻璃基板進行清洗，則存在玻璃基板的表面被蝕刻從而表面平滑性降低的問題。進而，結晶化玻璃尤其是硬盤基板用的結晶化玻璃中除結晶部分以外，也存在非晶部分，并非均勻的材料。因此，在清洗基板時，結晶部分與非晶部分在堿中清洗的蝕刻性(溶解性)不同，因此更加難以在不使表面粗糙度變差的條件下進行清洗。

因此，在本發明的一個實施方式中，提供一種結晶化玻璃基板的清洗方法，其可以抑制在堿清洗、特別是在對殘存的二氧化硅粒子等研磨粒子的微粒清洗時的結晶化玻璃基板的表面粗糙度變差，可進一步提高清洗性。

解決問題的技術手段

在本發明的一個實施方式涉及一種玻璃基板的清洗方法，其包括使被清洗玻璃基板與清洗劑組合物接觸(以下也稱為“本發明的玻璃基板的清洗方法”)。在該實施方式中，所述清洗劑組合物是含有包含1個以上且10個以下氮原子的胺以及無機堿的清洗劑組合物(以下也稱為“本發明的清洗劑組合物”)。相對于上述清洗劑組合物的水以外的成分的總質量，上述胺的含量為5.00質量％以上且70.00質量％以下。上述被清洗玻璃基板為結晶化玻璃基板。此外，清洗時的清洗劑組合物的pH值為9.00以上且11.50以下。

本發明的另一個實施方式涉及一種包括以下工序(1)及(2)的玻璃硬盤基板的制造方法。

(1)使用研磨液組合物對被研磨玻璃基板進行研磨的工序。

(2)使用清洗劑組合物對工序(1)中獲得的基板進行清洗的工序。

在該實施方式中，上述清洗劑組合物含有包含1個以上且10個以下氮原子的胺以及無機堿。相對于上述清洗劑組合物的水以外的成分的總質量，上述胺的含量為5.00質量％以上且70.00質量％以下。上述被清洗玻璃基板為結晶化玻璃基板。此外，清洗時之清洗劑組合物的pH值為9.00以上且11.50以下。

發明效果