[發(fā)明專利]玻璃基板的清洗方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380063534.2
• 申請(qǐng)日: 2013-12-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104853853A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-08-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 青野信幸;長(zhǎng)沼純;宮本定治
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 花王株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B08B3/08
• 分類號(hào): B08B3/08;C11D7/04;C11D7/32;C11D17/08;G02F1/13;G02F1/1333
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 劉文海

1.一種玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)：

(1)使用研磨液組合物對(duì)被研磨玻璃基板進(jìn)行研磨的工序，以及

(2)使用清洗劑組合物對(duì)工序(1)中獲得的基板進(jìn)行清洗的工序，其中，

所述清洗劑組合物含有包含1個(gè)以上且10個(gè)以下氮原子的胺以及無(wú)機(jī)堿，

相對(duì)于所述清洗劑組合物的水以外的成分的總質(zhì)量，所述胺的含量為5.00質(zhì)量％以上且70.00質(zhì)量％以下，

所述被研磨玻璃基板為結(jié)晶化玻璃基板，

清洗時(shí)的清洗劑組合物的pH值為9.00以上且11.50以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，所述研磨液組合物為含有二氧化硅粒子的研磨液組合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

所述清洗劑組合物含有源自無(wú)機(jī)堿的堿金屬，

清洗劑組合物中的所述胺與堿金屬離子的質(zhì)量比、即胺的含量/堿金屬離子的含量為0.50以上且12.00以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

所述胺為選自通式(I)的化合物、烷醇胺及具有哌嗪環(huán)的化合物中的1種以上，

式(I)中，x、y及z分別表示0以上且4以下的整數(shù)，滿足1≦x+y+z≦4。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

所述胺為選自四亞乙基五胺、五亞乙基六胺、單乙醇胺、2-[(2-氨基乙基)氨基]乙醇及1-(2-羥基乙基)哌嗪中的1種以上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

所述清洗劑組合物還含有下述通式(II)表示的非離子活性劑，

R-O-(EO)o(PO)p-H???(II)

式(II)中，R為碳數(shù)6以上且16以下的直鏈或支鏈烷基，o為EO的平均加成摩爾數(shù)，p為PO的平均加成摩爾數(shù)，o為0以上且20以下的數(shù)，p為0以上且5以下的數(shù)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

相對(duì)于水以外的成分的總質(zhì)量，所述非離子活性劑的含量為1.00質(zhì)量％以上且5.00質(zhì)量％以下。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

所述清洗劑組合物還含有選自對(duì)甲苯磺酸、二甲基苯磺酸之類的有機(jī)磺酸，2-乙基己酸及它們的鹽中的1種以上的助溶劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

相對(duì)于水以外的成分的總質(zhì)量，所述助溶劑的含量為20.00質(zhì)量％以上且62.00質(zhì)量％以下。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，所述清洗劑組合物還含有陰離子聚合物。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

相對(duì)于水以外的成分的總質(zhì)量，所述陰離子聚合物的含量為2.50質(zhì)量％以上且7.50質(zhì)量％以下。

12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，所述清洗劑組合物還含有螯合劑。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的玻璃硬盤(pán)基板的制造方法，其中，

相對(duì)于水以外的成分的總質(zhì)量，所述螯合劑的含量為3.80質(zhì)量％以上且10.60質(zhì)量％以下。

14.根據(jù)權(quán)利要求1～13中任一項(xiàng)所述的玻璃硬盤(pán)基板的清洗方法，其包括對(duì)水的含量為60.00質(zhì)量％以上且95.00質(zhì)量％以下的所述清洗劑組合物的濃縮液進(jìn)行稀釋。

15.一種玻璃基板的清洗方法，其包括使被清洗玻璃基板與清洗劑組合物接觸，其中，

所述清洗劑組合物含有包含1個(gè)以上且10個(gè)以下氮原子的胺及無(wú)機(jī)堿，

相對(duì)于所述清洗劑組合物的水以外的成分的總質(zhì)量，所述胺的含量為5.00質(zhì)量％以上且70.00質(zhì)量％以下，

所述被清洗玻璃基板為結(jié)晶化玻璃基板，

清洗時(shí)的清洗劑組合物的pH值為9.00以上且11.50以下。