[發明專利]用于有機電子器件的基板

有效

• 申請號: 201380062589.1
• 申請日: 2013-12-02
• 公開（公告）號: CN105706263B
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 金持凞;李政炯;崔俊禮
• 申請（專利權）人: 株式會社LG化學
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 顧晉偉

1.一種用于有機電子器件的基板，包括：

第一聚合物基底層，所述第一聚合物基底層對于633nm波長的光的折射率為1.7至1.8；

光學功能層，其形成于所述第一聚合物基底層上，并具有10％至50％的霧度；以及

高折射層，其包括形成于所述光學功能層的上方并且對于633nm波長的光的折射率為1.7以上的平坦化層、以及形成于所述平坦化層的上方的并且對于633nm波長的光的折射率為1.7至1.8的第二聚合物基底層，

其中所述第一聚合物基底層和所述第二聚合物基底層均包含聚酰亞胺。

2.根據權利要求1所述的用于有機電子器件的基板，其中，

所述光學功能層是光散射層。

3.根據權利要求2所述的用于有機電子器件的基板，其中，

所述光散射層包括基體材料和具有與所述基體材料不同的折射率的散射顆粒。

4.根據權利要求2所述的用于有機電子器件的基板，其中，

所述光散射層是具有凹凸結構的層。

5.根據權利要求1所述的用于有機電子器件的基板，其中，

所述平坦化層包含聚酰胺酸、聚酰亞胺、聚硅氧烷或環氧樹脂。

6.根據權利要求5所述的用于有機電子器件的基板，其中，

所述平坦化層還包括對于633nm波長的光的折射率為1.8以上且平均粒徑為50nm以下的顆粒。

7.根據權利要求1所述的用于有機電子器件的基板，還包括載體基板，

其中所述載體基板與所述第一聚合物基底層的與所述光學功能層成相反側的面相接觸。

8.一種用于有機電子器件的基板的制造方法，包括：

在載體基板上形成第一聚合物基底層，所述第一聚合物基底層對于633nm波長的光的折射率為1.7至1.8，

在所述第一聚合物基底層上形成霧度為10％至50％的光學功能層，以及

在所述光學功能層上形成高折射層，所述高折射層包括形成于所述光學功能層的上方并且對于633nm波長的光的折射率為1.7以上的平坦化層、以及形成于所述平坦化層的上方的并且對于633nm波長的光的折射率為1.7至1.8的第二聚合物基底層，

其中所述第一聚合物基底層和所述第二聚合物基底層均包含聚酰亞胺。

9.根據權利要求8所述的用于有機電子器件的基板的制造方法，其中，

所述第一聚合物基底層通過在所述載體基板上層壓聚合物膜而形成，或者通過在所述載體基板上涂布包含聚合物的涂布溶液而形成。

10.一種有機電子裝置，包括：

權利要求1所述的用于有機電子器件的基板；

形成于所述用于有機電子器件的基板的高折射層上的第一電極；

形成于所述第一電極上的功能有機層；以及

形成于所述功能有機層上的第二電極。

11.一種有機電子裝置的制造方法，包括：

在根據權利要求8的方法所制造的用于有機電子器件的基板上，依次形成第一電極、功能有機層和第二電極。

12.一種用于顯示器的光源，包括：

權利要求10所述的有機電子裝置。

13.一種照明器具，包括：

權利要求10所述的有機電子裝置。