[發(fā)明專(zhuān)利]濺鍍裝置及基板處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380062382.4
• 申請(qǐng)日: 2013-08-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104812933B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-03-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 石原繁紀(jì);戶(hù)谷寬行;安松保志;中澤俊和;中村英司;須田真太郎;今井慎;藤本雄
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 佳能安內(nèi)華股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/34
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所11038
• 代理人: 賈金巖

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及濺鍍裝置及基板處理裝置。

背景技術(shù)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1公開(kāi)了在輸送腔室的周?chē)渲枚鄠€(gè)濺鍍裝置的布置。在各濺鍍裝置中，在構(gòu)成沉積腔室的容器的頂部配置著四個(gè)靶材。在這些靶材與基板保持器之間，配置有雙重旋轉(zhuǎn)擋板機(jī)構(gòu)。

引證清單

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本專(zhuān)利特開(kāi)2009-41108號(hào)

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問(wèn)題

在圖20及圖21中，示意性地示出了一種濺鍍裝置，所述濺鍍裝置具有等間隔地配置的多個(gè)靶材以及雙重旋轉(zhuǎn)擋板機(jī)構(gòu)，所述雙重旋轉(zhuǎn)擋板機(jī)構(gòu)從所述多個(gè)靶材中選擇將被用于濺鍍的靶材。請(qǐng)注意，圖20及圖21由本案的發(fā)明人所創(chuàng)作，并非構(gòu)成相關(guān)技術(shù)。

圖20示意地示出了如何通過(guò)等間隔地配置的靶材T1、T2和T3中的兩個(gè)靶材T1、T3來(lái)執(zhí)行濺鍍(聯(lián)合濺鍍)。雙重旋轉(zhuǎn)擋板機(jī)構(gòu)包括第一擋板S1及第二擋板S2。第一擋板S1具有兩個(gè)開(kāi)口OP11、OP12，第二擋板S2具有兩個(gè)開(kāi)口OP21、OP22。

第一擋板S1的旋轉(zhuǎn)角被控制以使兩個(gè)開(kāi)口OP11、OP12分別面向靶材T1和T3，第二擋板S2的旋轉(zhuǎn)角被控制以使兩個(gè)開(kāi)口OP21、OP22分別面對(duì)靶材T1和T3。從靶材T1和T3所發(fā)射的材料通過(guò)第一擋板S1的開(kāi)口OP11、OP12及第二擋板S2的開(kāi)口OP21、OP22而到達(dá)基板SUB；藉此，在基板SUB上形膜。

圖21示意地示出了如何通過(guò)使用等間隔配置的靶材T1、T2和T3中其中一個(gè)靶材T1進(jìn)行濺鍍。第一擋板S1的旋轉(zhuǎn)角被控制以使兩個(gè)開(kāi)口OP11和OP12分別面丟靶材T1和T3。第二擋板S2的旋轉(zhuǎn)角被控制以使兩個(gè)開(kāi)口OP21和OP22分別面對(duì)靶材T2和T1。從靶材T1發(fā)射的材料通過(guò)第一擋板S1的開(kāi)口OP11及第二擋板S2的開(kāi)口OP22而到達(dá)基板SUB，藉此，在基板SUB的上形膜。在這種情況下，如箭頭21示意性所示，從靶材T1發(fā)射的材料一旦通過(guò)第一擋板S1的開(kāi)口OP11就在第一擋板S1與第二擋板S2之間移動(dòng)、通過(guò)第二擋板S2的開(kāi)口OP12而到達(dá)靶材T3，并可附著于靶材T3的表面。這會(huì)污染靶材T3。

如上所述，當(dāng)?shù)谝粨醢逶O(shè)置有多個(gè)開(kāi)口從而以等間隔配置的多個(gè)靶材的布置進(jìn)行聯(lián)合濺鍍時(shí)，在通過(guò)使用一個(gè)靶材進(jìn)行濺鍍時(shí)其他靶材可能會(huì)被污染。

本發(fā)明在認(rèn)識(shí)到上述問(wèn)題后作出，目的在于提供對(duì)降低靶材上的污染有利的技術(shù)。

解決問(wèn)題的手段

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種濺鍍裝置，所述濺鍍裝置包括：腔室、基板保持器和多個(gè)靶材保持器，所述基板保持器被配置成在所述腔室中保持基板并圍繞與保持所述基板的表面垂直的軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)，所述多個(gè)靶材保持器被配置成分別保持靶材，所述濺鍍裝置包括擋板單元，所述擋板單元配置成從被所述多個(gè)靶材保持器分別保持的多個(gè)靶材中選擇將被用于濺鍍的靶材，其中，所述擋板單元包括被配置成圍繞所述軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)且在沿著所述軸線(xiàn)的方向上彼此間隔開(kāi)的第一擋板及第二擋板，所述多個(gè)靶材保持器布置在以所述軸線(xiàn)為中心的第一假想圓上，所述第一假想圓上的所述多個(gè)靶材保持器之間的布置間隔包含至少兩種布置間隔，所述第一擋板具有第一開(kāi)口及第二開(kāi)口，所述第一開(kāi)口及所述第二開(kāi)口各自的中心被布置在以所述軸線(xiàn)作為中心的第二假想圓上，所述第二擋板具有第三開(kāi)口及第四開(kāi)口，所述第三開(kāi)口及所述第四開(kāi)口各自的中心被布置在以所述軸線(xiàn)作為中心的第三假想圓上，所述第二假想圓上的、兩端分別對(duì)應(yīng)于所述第一開(kāi)口及所述第二開(kāi)口各自的中心的弧的中心角等于所述第三假想圓上的、兩端分別對(duì)應(yīng)于所述第三開(kāi)口及所述第四開(kāi)口各自的中心的弧的中心角，且等于兩端分別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)靶材保持器中第一假想圓上間隔最大的第一靶材保持器和第二靶材保持器各自的中心的弧的中心角。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種基板處理裝置，所述基板處理裝置包括：具有多個(gè)連接表面的輸送腔室、以及連接于所述多個(gè)連接表面的至少一個(gè)連接表面的濺鍍裝置，其中，所述濺鍍裝置包括根據(jù)所述第一方面的濺鍍裝置，由所述多個(gè)連接表面中的毗鄰的連接表面限定的角度大于90度。

發(fā)明的有益效果

本發(fā)明提供了降低靶材上的污染的技術(shù)益處。

附圖的簡(jiǎn)要說(shuō)明

圖1A是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的濺鍍裝置的示意平面圖。

圖1B是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的濺鍍裝置的示意剖面圖。

圖2A是示出第一擋板的布置的示例的視圖。

圖2B是示出第二擋板的布置的示例的視圖。

圖3A是例示靶材與第一擋板及第二擋板的開(kāi)口的位置關(guān)系的控制的視圖。