[發明專利]濺鍍裝置及基板處理裝置

有效

• 申請號: 201380062382.4
• 申請日: 2013-08-23
• 公開（公告）號: CN104812933B
• 公開（公告）日: 2017-03-08
• 發明（設計）人: 石原繁紀;戶谷寬行;安松保志;中澤俊和;中村英司;須田真太郎;今井慎;藤本雄
• 申請（專利權）人: 佳能安內華股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 賈金巖

1.一種濺鍍裝置，所述濺鍍裝置包括：腔室、基板保持器和多個靶材保持器，所述基板保持器被配置成在所述腔室中保持基板并圍繞與保持所述基板的表面垂直的軸線旋轉，所述多個靶材保持器被配置成分別保持靶材，所述濺鍍裝置包括：

擋板單元，所述擋板單元配置成從被所述多個靶材保持器分別保持的多個靶材中選擇將被用于濺鍍的靶材，

其中，所述擋板單元包括第一擋板及第二擋板，所述第一擋板及第二擋板被配置成圍繞所述軸線旋轉且在沿著所述軸線的方向上彼此間隔開，

所述多個靶材保持器布置在以所述軸線為中心的第一假想圓上，所述第一假想圓上的所述多個靶材保持器之間的布置間隔包括至少兩種布置間隔，

所述第一擋板具有第一開口及第二開口，所述第一開口及所述第二開口各自的中心被布置在以所述軸線為中心的第二假想圓上，所述第二擋板具有第三開口及第四開口，所述第三開口及所述第四開口各自的中心被布置在以所述軸線作為中心的第三假想圓上，并且

所述第二假想圓上的、兩端分別對應于所述第一開口及所述第二開口各自的中心的弧的中心角等于所述第三假想圓上的、兩端分別對應于所述第三開口及所述第四開口各自的中心的弧的中心角，且等于兩端分別對應于所述多個靶材保持器中的第一假想圓上間隔最大的第一靶材保持器和第二靶材保持器各自的中心的弧的中心角。

2.根據權利要求1所述的濺鍍裝置，其中，所述第一擋板布置在所述多個靶材保持器與所述第二擋板之間，并且

當濺鍍將通過僅使用分別被多個靶材保持器保持的多個靶材中的一個靶材而進行時，所述第一擋板被控制成使得所述第一開口和所述第二開口中的一個開口布置在所述一個靶材的前方，另一個開口布置在偏離多個靶材的每個前表面的位置。

3.根據權利要求1或2所述的濺鍍裝置，其中所述腔室設有閘閥，通過所述閘閥而在所述腔室的內部空間與外部空間之間輸送所述基板，并且

所述多個靶材保持器包括不少于三個靶材保持器，所述多個靶材保持器被布置成使得所述多個靶材保持器中的第一靶材保持器位于最接近所述閘閥的位置。

4.根據權利要求1或2所述的濺鍍裝置，其中，所述腔室設有閘閥，經由所述閘閥在所述腔室的內部空間與外部空間之間輸送所述基板，

所述多個靶材保持器除了所述第一靶材保持器及所述第二靶材保持器之外還包括第三靶材保持器及第四靶材保持器，這些靶材保持器沿著所述第一假想圓以第一靶材保持器、第二靶材保持器、第三靶材保持器、第四靶材保持器的順序布置，

所述第一假想圓上的第一靶材保持器與第四靶材保持器之間的間隔小于所述第一假想圓上的第一靶材保持器與所述第二靶材保持器之間的間隔，

從所述第一靶材保持器及所述第四靶材保持器到所述閘閥的距離小于所述第二靶材保持器及所述第三靶材保持器到所述閘閥的距離。

5.根據權利要求4所述的濺鍍裝置，其中，第一靶材保持器至第四靶材保持器布置在具有長邊及短邊并內接在所述第一假想圓中的假想長方形的頂點上。

6.根據權利要求4或5所述的濺鍍裝置，其中，從所述第一靶材保持器到所述閘閥的距離與從所述第四靶材保持器到所述閘閥的距離彼此相等。

7.一種基板處理裝置，包括：

具有多個連接表面的輸送腔室；和

連接于所述多個連接表面中的至少一個連接表面的濺鍍裝置，

其中，所述濺鍍裝置包括權利要求1至6中的任一項限定的濺鍍裝置，并且

由所述多個連接表面中的毗鄰的連接表面所限定的角度大于90度。