[發明專利]機器人校正方法

無效

• 申請號: 201380059151.8
• 申請日: 2013-09-10
• 公開（公告）號: CN104781051A
• 公開（公告）日: 2015-07-15
• 發明（設計）人: 杰森·M·夏勒;羅伯特·布然特·寶佩特;詹姆斯·R·麥克廉
• 申請（專利權）人: 瓦里安半導體設備公司
• 主分類號: B25J9/16
• 分類號: B25J9/16
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 張洋;臧建明

本申請案主張于2012年9月18日申請之美國臨時專利申請案第61/702,377號的優先權，所述專利申請案的揭示完整結合于此以供參考。

技術領域

本發明涉及一種工件加工，尤其涉及一種用于工件加工的機器人的校正。

背景技術

離子布植是一種標準技術，將改變導電率的雜質引進工件中。所要的雜質材料在離子源中被離子化，離子被加速以形成規定能量的離子束，且離子束被導向工件的表面。離子束中的高能離子穿透進入工件材料的整體(bulk)，且被嵌入到工件材料的晶格，以形成所要導電率的區域。

太陽能電池制造工業的兩個考量是：生產產量及電池效率。電池效率是測量轉換成電力的能量的數量。在太陽能電池制造工業中，可能需要較高的電池效率以維持競爭力。然而，不能因增加電池效率而犧牲生產產量。

離子布植已經被證實是對太陽能電池進行摻雜的可行方法。使用離子布植可移除現存技術中所需的制程步驟，如擴散爐。舉例來說，如使用離子布植取代擴散爐，則可移除激光邊緣絕緣步驟，因為離子布植只會摻雜所要表面。除了移除上述制程步驟之外，使用離子布植已證實具有較高的電池效率。離子布植也提供：進行太陽能電池整個表面的全面性布植(blanket?implant)的能力，或者對太陽能電池的一部分的選擇性(或圖案化)布植的能力。使用離子布植的高產量選擇性布植，避免了爐管擴散中所使用的：昂貴且費時的微影或圖案化步驟。選擇性布植也能夠進行新的太陽能電池設計。離子布植機的生產量或可靠度的任何改良，對全球的太陽能電池制造商是有利的。可加速采用太陽能電池作為另一種替代能量來源。

發明內容

揭示一種機器人校正方法，將支架模組的坐標系統對準到攝影機系統的坐標系統。所述方法包括：使用對準工具，對準工具允許操作員放置工件在支架模組的已知位置。接著由攝影機系統獲取這些工件的影像。控制器使用從支架模組及攝影機系統得到的信息，以決定兩個坐標系統之間的關系。接著控制器決定一變換方程式，以從一坐標系統轉換到另一個坐標系統。

根據第一實施例，揭示一種校正機器人的方法。所述方法包括：連接對準工具到機器人的末端作用器，其中末端作用器是支架模組的一部分，其中對準工具包含一個或多個空間，每一空間具有三個分別的指部；移動末端作用器到攝影機的視野內的第一位置；降下末端作用器；當末端作用器位在第一位置時，放置分別的工件在一個或多個空間，且同時推壓每一工件以頂住(against)所述分別的三個指部；使用參照支架模組的坐標系統，對于位在第一位置的每一空間而儲存第一組坐標位置；移動末端作用器，在視野內由第一位置移動到第二位置，而不影響工件的位置；當末端作用器位在第二位置時，放置分別的工件在一個或多個空間，且同時推壓每一工件以頂住所述分別的三個指部；使用參照支架模組的坐標系統，對于位在第二位置的每一空間而儲存第二組坐標位置；移動末端作用器，由第二位置移動到視野外的位置，而不影響工件的位置；在末端作用器移動到視野外的位置之后，使用攝影機獲取工件的影像；使用參照攝影機的坐標系統，對于每一工件而決定第三組坐標位置；以及使用第一組坐標位置、第二組坐標位置及第三組坐標位置來計算一變換方程式，以將參照攝影機的坐標系統中的坐標位置、轉換為參照支架模組的坐標系統中的坐標位置。

根據第二實施例，揭示一種校正機器人的方法。所述方法包括：進行光學標準化程序，以決定用于攝影機的垂直轉換因子及水平轉換因子，以便將由攝影機所獲取的影像上的像素位置、轉換成攝影機的視野內的物理尺寸(physical?dimension)；連接對準工具到機器人的末端作用器，其中末端作用器是支架模組的一部分，其中對準工具包含一個或多個空間，每一空間具有三個分別的指部；移動末端作用器到攝影機視野內的第一位置；降下末端作用器；當末端作用器位在第一位置時，藉由推壓每一工件以頂住所述分別的三個指部，而在分別空間放置至少兩個工件；使用參照支架模組的坐標系統，對于每一空間而儲存第一組坐標位置；移動末端作用器，由第一位置移動到視野外的位置，而不影響工件的位置；在末端作用器移動到視野外的位置之后，使用攝影機獲取工件的影像；使用參照攝影機的坐標系統，對于每一工件而決定第二組坐標位置；以及基于第一組坐標位置及第二組坐標位置，來計算一變換方程式，以將參照攝影機的坐標系統中的坐標位置、轉換為參照支架模組的坐標系統的坐標位置。