[發(fā)明專利]用于致動光學系統(tǒng)中的至少一個光學元件的裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380058502.3
• 申請日: 2013-11-07
• 公開（公告）號: CN104781715A
• 公開（公告）日: 2015-07-15
• 發(fā)明（設計）人: M.豪夫;A.沃格勒
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G02B7/18
• 分類號: G02B7/18;G02B7/182;G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

本發(fā)明涉及一種用于致動光學系統(tǒng)、尤其是投射曝光設備的光學系統(tǒng)中的光學元件的裝置，其中，所述光學元件(101)通過具有接合件剛度的至少一個接合件(102)能夠關于至少一個傾斜軸線傾斜，所述裝置包含用于對所述光學元件(101)施加力的至少一個致動器(104)，其中，所述致動器(104)具有致動器剛度，其至少部分地補償所述接合件剛度。

相干申請的交叉引用

本申請要求均于2012年11月29日提交的德國專利申請DE 10 2012 221 831.9和US 61/731,260的優(yōu)先權。這些申請的內容通過引用并入于此。

發(fā)明內容

本發(fā)明涉及一種用于致動光學系統(tǒng)中至少一個光學元件的裝置。

根據本發(fā)明的裝置可有利地尤其用于具有彼此獨立可調節(jié)的多個光學元件的光學系統(tǒng)中，例如用于致動微光刻投射曝光設備中的分面反射鏡。然而，本發(fā)明不限于此，而是通常還可用于其它光學系統(tǒng)(例如，用于材料處理的光學系統(tǒng))中，尤其是其中多個光學元件在各情況中均可調地安裝在有限結構空間中的系統(tǒng)。

背景技術

微光刻技術用于制造微結構部件，例如，集成電路或LCD。微光刻工藝在所謂的投射曝光設備中進行，所述設備具有照明裝置和投射鏡頭。在該情況中，通過投射鏡頭將通過照明裝置照明的掩模(＝掩模母版)的像投射到涂覆有光敏層(光刻膠)且布置在投射鏡頭的像平面中的基板(例如，硅晶片)上，以將掩模結構轉移至結構的光敏涂層。

在設計用于EUV(極紫外輻射，即波長小于30nm，尤其小于15nm的電磁輻射)的投射曝光設備中，由于缺少可用的透光材料，反射鏡用作成像過程的光學部件。另外，尤其在設計用于以EUV工作的微光刻投射曝光設備的照明裝置中，例如從DE 10 2008 009 600 A1已知使用場分面反射鏡和光瞳分面反射鏡形式的分面反射鏡作為束引導部件。這種分面反射鏡由多個單獨反射鏡構造，所述多個單獨反射鏡設計為通過彎曲部分而可傾斜，用于調節(jié)或者用于實現特定照明角分布的目的。在該情況中，還需要實現關于兩個(尤其是相互垂直的)傾斜軸線的傾斜。

這里出現的一個問題是，關于例如致動分面反射鏡的單獨反射鏡(或關于致動其中所述元件相對緊密包裝的布置中的其它光學元件)，首先，僅狹窄定界的結構空間可用，其次，例如在投射曝光設備工作期間，通常必須將致動器的熱負載最小化，這導致需要挑戰(zhàn)致動器設計。這格外適用，因為通常使用的彎曲部分具有不可避免的支承剛度，其在致動光學元件的單獨反射鏡期間必須得到克服。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于提供致動光學系統(tǒng)中至少一個光學元件的裝置，其使得可在相對小的所需結構空間和減少產生的致動器熱負載的情況下能夠致動。

該目的通過根據獨立權利要求1的特征的裝置來實現。

根據本發(fā)明的致動光學系統(tǒng)中至少一個光學元件的裝置，其中光學元件可通過具有接合件剛度的至少一個點關于至少一個傾斜軸線傾斜，所述裝置包含：

-將力施加在光學元件上的至少一個致動器；

-其中，致動器具有部分補償接合件剛度的致動器剛度。

本發(fā)明尤其基于以下構思：構造致動器，使得關于產生要施加在光學元件上的致動器力，從一開始，傾斜所需的接合件剛度包含在致動器的設計中，使得任意位置的致動器以考慮了接合件剛度的方式精確地提供適合的致動器力。

尤其是，本發(fā)明包括以下構思，由于至少部分(甚至可能全部)補償效應因此實現，考慮通過致動器的適合力-距離特征導致的“正”接合件剛度(其對應于“負剛度”)。在該情況中，在此以及在下文中，具有“負剛度”的系統(tǒng)被理解為表示這樣的系統(tǒng)：在從預定中心開始位置偏轉時，系統(tǒng)具有隨增大的偏轉增大的力，并且被引導遠離(開始)位置。因而，具有“負剛度”的系統(tǒng)被理解為表示這樣的系統(tǒng)：隨著從預定中心開始位置偏轉增大，增大的力作用于所述中心位置的方向上。