[發明專利]低折射層涂敷用組合物及包含該組合物的透明導電性膜

在審

• 申請號: 201380058361.5
• 申請日: 2013-09-30
• 公開（公告）號: CN104812855A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 洪琎基;金源國
• 申請（專利權）人: 樂金華奧斯有限公司
• 主分類號: C09D183/02
• 分類號: C09D183/02;C09D7/12;B32B27/08
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;劉明海

技術領域

本發明涉及一種低折射層涂敷用組合物及包含該組合物的透明導電性膜。

背景技術

觸控面板根據位置檢測方法，分為光學方式、超聲波方式、靜電容量方式及電阻膜方式等。電阻膜方式的觸控面板的結構是，透明導電性膜和附著有透明導電體層的玻璃隔著間隔部相向配置，使電流在透明導電性膜流動，并測定附著有透明導電體層的玻璃中的電壓的結構。另一方面，靜電容量方式的觸控面板的基本結構是，在基材上形成透明導電層，特征在于沒有可動部分，并且，由于具有高耐久性、高透過率，因此，也適用于車載用途等。

適用于上述觸控面板的靜電容量方式的透明導電性膜包含導電層，并且，上述導電層經過圖案化工序。在通常情況下，主要采用將感光劑涂敷于透明導電層的上部，并經過顯像工序來蝕刻導電層來實現圖案化的方式，目前，正在不斷進行與如何在圖案化工序中確保生產速度及生產效率等的透明導電性膜相關的研究。

發明內容

本發明要解決的技術問題

本發明的一實例提供包含硅氧烷化合物及光產酸劑的低折射用涂敷用組合物。

技術方案

在本發明的一實例中，提供包含硅氧烷化合物及光產酸劑的低折射層涂敷用組合物。

上述硅氧烷化合物可包含由化學式1形成的硅氧烷聚合物，

化學式1

(R₁)_n-Si-(O-R₂)_4-n，

上述R₁是碳數1至18的烷基、乙烯基、烯丙基、環氧基或丙烯酸基，上述R₂是具有碳數1至6的烷基或乙酰氧基，上述n是0＜n＜4的整數。

上述硅氧烷聚合物的分子量可以是約500至約50000。

相對于總100重量％，可包含約5重量％至約100重量％的上述硅氧烷化合物。

上述硅氧烷化合物可通過溶膠-凝膠反應形成。

上述光產酸劑可對約300nm至約400nm波長的紫外(UV)光照射具有活性。

上述光產酸劑可以是選自離子性光產酸劑、非離子性光產酸劑及高分子類光產酸劑中的某一種。

相對于總100重量％，可包含約1重量％至約30重量％的上述光產酸劑。

在本發明的另一實例中，提供包含利用上述低折射層涂敷用組合物而形成的低折射層的透明導電性膜。

上述透明導電性膜可以是透明基材、上述高折射層、低折射層及導電層的層壓結構。

上述低折射層的折射率可以是約1.4至約1.5。

上述低折射層的厚度可以為約5nm至約100nm。

上述高折射層的厚度可以是約20nm至約150nm。

上述透明基材可以是包含選自由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)、聚乙烯醇(PVA)及它們的組合構成的組中的某一種的單一膜或層壓膜。

上述導電層可包含氧化銦錫(Indium?Tin?Oxide，ITO)或氟摻雜氧化錫(Fluorine-doped?Tin?Oxide，FTO)。

上述透明基材的單面或雙面還可包含硬涂層。

有益效果

使用上述低折射層涂敷用組合物，能夠有效改善作為靜電容量方式的透明導電性膜所需工序的透明導電層圖案化工序。

通過改善的透明導電層的圖案化工序，能夠在短時間內簡單且更加有效地制備透明導電性膜。

附圖說明

圖1簡要表示本發明一實施例的透明導電性膜的截面。

圖2簡要表示本發明另一實施例的透明導電性膜的截面。

具體實施方式

以下，詳細說明本發明的實例。但是，這僅僅作為例示來提示，不會因這些實例而限制本發明，本發明只根據發明要求保護范圍所要保護的范疇來定義。

為了準確說明本發明，省略與說明無關的部分，在說明書全文中，對相同或類似的結構要素附加相同的附圖文字。

附圖中，為了明確表示多個層及區域，厚度有所放大。并且，在附圖中，為了便于說明，將一部分層及區域的厚度放大表示。