[發(fā)明專利]低折射層涂敷用組合物及包含該組合物的透明導(dǎo)電性膜

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380058361.5
• 申請(qǐng)日: 2013-09-30
• 公開（公告）號(hào): CN104812855A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 洪琎基;金源國(guó)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 樂金華奧斯有限公司
• 主分類號(hào): C09D183/02
• 分類號(hào): C09D183/02;C09D7/12;B32B27/08
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;劉明海

1.一種低折射層涂敷用組合物，其特征在于，包含硅氧烷化合物及光產(chǎn)酸劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射層涂敷用組合物，其特征在于，

所述硅氧烷化合物包含由化學(xué)式1形成的硅氧烷聚合物，

化學(xué)式1

(R₁)_n-Si-(O-R₂)_4-n，

所述R₁是碳數(shù)1至18的烷基、乙烯基、烯丙基、環(huán)氧基或丙烯酸基，所述R₂是具有碳數(shù)1至6的烷基或乙酰氧基，所述n是0＜n＜4的整數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低折射層涂敷用組合物，其特征在于，

所述硅氧烷聚合物的分子量為500至50000。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射層涂敷用組合物，其特征在于，相對(duì)于總100重量％，包含5重量％至100重量％的所述硅氧烷化合物。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射層涂敷用組合物，其特征在于，

所述硅氧烷化合物通過溶膠-凝膠反應(yīng)形成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射層涂敷用組合物，其特征在于，

所述光產(chǎn)酸劑對(duì)300nm至400nm波長(zhǎng)的紫外光照射具有活性。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射層涂敷用組合物，其特征在于，

所述光產(chǎn)酸劑是選自離子性光產(chǎn)酸劑、非離子性光產(chǎn)酸劑及高分子類光產(chǎn)酸劑中的任意一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射層涂敷用組合物，其特征在于，

相對(duì)于總100重量％，包含1重量％至30重量％的所述光產(chǎn)酸劑。

9.一種透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，包含利用權(quán)利要求1所述的低折射層涂敷用組合物形成的低折射層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，所述透明導(dǎo)電性膜是透明基材、所述高折射層、低折射層及導(dǎo)電層的層壓結(jié)構(gòu)。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，

所述低折射層的折射率為1.4至1.5。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，

所述低折射層的厚度為5nm至100nm。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，

所述高折射層的厚度為20nm至150nm。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，

所述透明基材是含有選自由聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯-醋酸乙烯酯、聚乙烯醇及它們的組合構(gòu)成的組中的任意一種的單一膜或?qū)訅耗ぁ?/p>

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，

所述導(dǎo)電層包含氧化銦錫或氟摻雜氧化錫。

16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，

所述透明基材的單面或雙面進(jìn)一步包含硬涂層。