[發(fā)明專利]用于光調(diào)制顯示器的薄膜堆疊

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380056880.8
• 申請(qǐng)日: 2013-10-23
• 公開（公告）號(hào): CN104769462A
• 公開（公告）日: 2015-07-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吉安·J·馬;約翰·H·宏;泰里斯·Y·江;忠·U·李
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 皮克斯特隆尼斯有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/22
• 分類號(hào): G02B5/22;G02B26/00
• 代理公司: 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 林斯凱

相關(guān)申請(qǐng)案的參考

本申請(qǐng)案主張2012年10月30日申請(qǐng)的第13/664,276號(hào)美國(guó)專利申請(qǐng)案的權(quán)益，所述申請(qǐng)案的全部揭示內(nèi)容以引用的方式并入本文中。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示器的領(lǐng)域，且更確切地說(shuō)，涉及具有表面的顯示器，所述表面具有使穿過(guò)所述表面的光通過(guò)或阻斷所述光的一體形成的光調(diào)制器。

背景技術(shù)

在常規(guī)數(shù)字微機(jī)電快門(DMS)顯示器中，多個(gè)微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)快門經(jīng)制造于襯底的表面上。所述MEMS快門經(jīng)形成為所述襯底上的柵格且各MEMS快門調(diào)制穿過(guò)鄰近所述快門而形成的孔口的光。為此目的，各快門能夠通過(guò)移到所述孔口上方或遠(yuǎn)離所述孔口而阻斷光或使光通過(guò)且各快門因此形成顯示器中的像素或像素的一部分。快門的操作是通過(guò)移動(dòng)快門以阻斷光或使光通過(guò)且借此在顯示器上產(chǎn)生圖像的顯示控制器來(lái)加以控制的。

在此常規(guī)設(shè)計(jì)中，快門經(jīng)形成為包含快門、用于驅(qū)動(dòng)所述快門開啟或關(guān)閉的一或多個(gè)電極及其它元件的總成。此些總成形成于襯底(通常為例如玻璃等絕緣材料)上。各總成具有正方形周邊邊緣且總成的快門與其它組件裝配在所述周邊邊緣的邊界內(nèi)。通常，數(shù)千個(gè)此些總成經(jīng)布置于行及列的二維陣列或柵格中，從而形成顯示器。

在操作中，快門移到孔口上方且在定位于孔口上方時(shí)，快門阻斷穿過(guò)所述孔口且朝向顯示器的表面行進(jìn)的光。通過(guò)將圖像譯碼成引導(dǎo)特定快門開啟且使光通過(guò)及引導(dǎo)其它快門關(guān)閉以阻斷光的數(shù)據(jù)，快門的柵格可在顯示器上重新產(chǎn)生圖像。

顯示器的產(chǎn)生圖像且確切地說(shuō)產(chǎn)生清晰定義的圖像的能力至少部分取決于各快門的調(diào)制穿過(guò)孔口及顯示器的表面的光量的能力。具體來(lái)說(shuō)，當(dāng)開啟的快門在最小干擾的情況下使光通過(guò)使得所述開啟快門明亮?xí)r，改進(jìn)圖像的清晰度。類似地，當(dāng)經(jīng)關(guān)閉的快門盡可能完全阻斷光使得所述經(jīng)關(guān)閉快門盡可能暗時(shí)，也改進(jìn)圖像的清晰度。當(dāng)開啟快門與經(jīng)關(guān)閉快門之間的亮度的差異大時(shí)，提高產(chǎn)生清晰圖像的能力。

盡管此些顯示器運(yùn)作得相當(dāng)好，然仍然需要改進(jìn)經(jīng)顯示圖像的對(duì)比率，且確切地說(shuō)仍然需要改進(jìn)開啟快門的亮度與經(jīng)關(guān)閉快門的亮度之間的差異。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的系統(tǒng)、方法及裝置各具有若干新穎方面，所述新穎方面中沒(méi)有單一新穎方面僅負(fù)責(zé)本文中所揭示的所要屬性。

可在具有襯底層的裝置中實(shí)施本發(fā)明中所描述的標(biāo)的物的一新穎方面，所述襯底層鄰近光源而安置且具有允許光穿過(guò)所述襯底層的孔口及吸收膜堆疊，所述吸收膜堆疊包含：光反射材料層；光吸收材料層，其安置于所述光反射材料層上且與所述光反射材料層間隔固定距離；及干涉吸收膜堆疊，其包含具有第一折射率的介電材料層及具有第二折射率的介電材料層，所述介電材料層的厚度經(jīng)選擇以引起從所述干涉吸收膜堆疊反射的光干擾入射在所述干涉吸收膜堆疊上的光且使具有峰值振幅的干擾駐波出現(xiàn)在所述光吸收材料層處。

在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含具有第一折射率的介電材料層及具有第二折射率的介電材料層，所述兩個(gè)介電材料層經(jīng)選擇以降低以與正交于干涉吸收膜堆疊的表面的軸成0°與50°之間的角度入射的光的反射。

在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含將吸收材料層布置于干涉吸收膜堆疊中的干擾駐波的實(shí)質(zhì)上峰值振幅的位置處的固定距離。

在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含光反射材料層(其包含在可見光的光譜中具有大于70％的反射比的金屬層)。在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含安置于干涉吸收膜堆疊上的透明導(dǎo)電層。在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含安置于光反射材料層的與光吸收材料相對(duì)的表面上的反射性膜。

在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含具有介電薄膜堆疊的反射性膜，所述介電薄膜堆疊具有第一材料(其具有第一折射率)及第二材料(其具有第二折射率)，所述第一材料及所述第二材料具有來(lái)自光源的光的波長(zhǎng)的約四分之一的相應(yīng)厚度。

在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含安置于干涉吸收膜堆疊上方的流體層。

在一些實(shí)施方案中，所述裝置可包含透射分別以色彩紅色、綠色及藍(lán)色(RGB)居中的不同波長(zhǎng)光譜的光的光源或多個(gè)光源。