[發明專利]采用針對對象分類的角度分辨散射和光譜分辨測量的系統、設備和方法在審
| 申請號: | 201380056793.2 | 申請日: | 2013-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN104797970A | 公開(公告)日: | 2015-07-22 |
| 發明(設計)人: | 本杰明·K·威爾遜;邁克爾·C·赫格 | 申請(專利權)人: | 脫其泰有限責任公司 |
| 主分類號: | G02B21/10 | 分類號: | G02B21/10 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務所 31263 | 代理人: | 樊英如;李獻忠 |
| 地址: | 美國華*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 采用 針對 對象 分類 角度 分辨 散射 光譜 測量 系統 設備 方法 | ||
1.一種高光譜成像系統,包括:
暗場模塊,其包括
光學組件,和
暗場照明器,其能操作來以相對于光學組件的光軸的一或多個入射角將暗場詢問刺激傳遞到至少一個焦點區域上,
所述暗場模塊具有包括一或多個傳感器、能操作來獲取與來自被所述暗場詢問刺激詢問的對象的散射的電磁能量相關聯的一或多個暗場顯微圖的電路;和
高光譜成像模塊,其被操作性地耦合到所述暗場模塊且具有被配置為基于所述對象的所述一或多個暗場顯微圖生成角度分辨和光譜分辨散射矩陣的電路。
2.如權利要求1所述的高光譜成像系統,進一步包括:
對象分類模塊,其具有電路,能操作來
將所述角度分辨和光譜分辨散射矩陣與參考角度分辨和光譜分辨高光譜信息進行比較,以及
基于該比較生成與成像于所述一或多個暗場顯微圖中的對象相關聯的分類信息。
3.如權利要求2所述的高光譜成像系統,其中所述對象分類模塊能操作來將所述角度分辨和光譜分辨散射矩陣與角度分辨參考對象信息進行比較并基于該比較生成分類信息。
4.如權利要求2所述的高光譜成像系統,其中所述對象分類模塊能操作來將所述角度分辨和光譜分辨散射矩陣與空間分辨參考對象信息進行比較并基于該比較生成分類信息。
5.如權利要求2所述的高光譜成像系統,其中所述對象分類模塊能操作來基于該比較生成對象分類信息。
6.如權利要求2所述的高光譜成像系統,其中所述對象分類模塊能操作來生成主要成分信息。
7.如權利要求2所述的高光譜成像系統,其中所述對象分類模塊能操作來基于主要成分信息生成對象識別信息。
8.如權利要求2所述的高光譜成像系統,其中所述對象分類模塊能操作來基于判別濾波器信息生成對象識別信息。
9.如權利要求1所述的高光譜成像系統,進一步包括:
對象分類模塊,其具有能操作來激活對象識別模式、對象分類模式和對象表征模式中的至少一個的電路。
10.如權利要求1所述的高光譜成像系統,其中所述高光譜成像模塊包括被配置為生成被所述暗場詢問刺激詢問的對象的空間分辨圖像的電路。
11.如權利要求1所述的高光譜成像系統,其中所述高光譜成像模塊包括被配置為生成被所述暗場詢問刺激詢問的對象的一或多個空間分辨圖像的電路。
12.如權利要求1所述的高光譜成像系統,其中所述高光譜成像模塊包括被配置為為被所述暗場詢問刺激詢問的對象生成波長相對照明角度的強度地圖的電路。
13.如權利要求1所述的高光譜成像系統,進一步包括:
被操作性地耦合到所述暗場照明器的照明角度控制器,所述照明角度控制器能操作來調整由所述暗場照明器傳遞的電磁能量的入射角。
14.如權利要求1所述的高光譜成像系統,進一步包括:
被操作性地耦合到孔徑裝置的孔徑控制模塊,所述孔徑控制模塊具有被配置為調整與來自被所述暗場詢問刺激詢問的對象的散射的電磁能量的采集區相關聯的有效數值孔徑的電路。
15.如權利要求1所述的高光譜成像系統,進一步包括:
被操作性地耦合到暗場模塊和孔徑控制模塊的照明采集分離控制模塊,所述照明采集分離控制模塊包括被配置為通過致動所述暗場模塊和孔徑控制模塊中的至少一者改變照明采集間距的電路,所述照明采集間距部分地通過由所述暗場照明器傳遞的電磁能量以及采集區界定。
16.如權利要求1所述的高光譜成像系統,進一步包括:
樣本室,其被配置為接收包括一或多個對象的樣本。
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