[發明專利]研磨用組合物、研磨用組合物的制造方法，以及研磨用組合物原液的制造方法在審
| 申請號： | 201380055071.5 | 申請日： | 2013-08-12 |
| 公開（公告）號： | CN104736658A | 公開（公告）日： | 2015-06-24 |
| 發明（設計）人： | 土屋公亮;淺田真希 | 申請（專利權）人： | 福吉米株式會社 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨 組合 制造 方法 以及 原液 | ||
1.一種研磨用組合物，其特征在于，其為含有二氧化硅、水溶性高分子以及水的研磨用組合物，
包含至少一部分所述水溶性高分子的吸附物吸附在所述二氧化硅上，
研磨用組合物中的所述吸附物的碳換算濃度為4質量ppm以上，且所述吸附物的碳換算濃度相對于研磨用組合物中的總碳濃度的百分率為15％以上。
2.根據權利要求1所述的研磨用組合物，其特征在于，所述水溶性高分子的重均分子量為300000以下。
3.根據權利要求1所述的研磨用組合物，其特征在于，所述水溶性高分子的重均分子量為200000以下。
4.根據權利要求1所述的研磨用組合物，其特征在于，所述水溶性高分子的重均分子量為100000以下。
5.一種制造權利要求1～4中任一項所述的研磨用組合物的方法，其特征在于，其包括：
制備含有二氧化硅、水溶性高分子以及水的研磨用組合物原液的工序；
通過將所述研磨用組合物原液以水或堿性水溶液稀釋而得到研磨用組合物的工序，所述研磨用組合物中，包含所述水溶性高分子的吸附物吸附在所述二氧化硅上，研磨用組合物中的所述吸附物的碳換算濃度為4質量ppm以上、且所述吸附物的碳換算濃度相對于研磨用組合物中的總碳濃度的百分率為15％以上。
6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，制備所述研磨用組合物原液的工序包括在二氧化硅和堿性化合物的混合物中混合水溶性高分子，將得到的混合物進行過濾的工序。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，使所述研磨用組合物原液中的所述二氧化硅的含量為1質量％以上且20質量％以下，并且使所述堿性化合物的含量為0.01質量％以上且1質量％以下。
8.根據權利要求6或7所述的方法，其特征在于，使所述研磨用組合物原液中的所述二氧化硅的單位表面積的堿性化合物的摩爾數為8.5×10-6mol/m2以上。
9.一種研磨用組合物原液的制造方法，其特征在于，其包括在二氧化硅和堿性化合物的混合物中混合水溶性高分子，將得到的混合物過濾的工序。
10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，使所述研磨用組合物原液中的所述二氧化硅的含量為1質量％以上且20質量％以下，并且使所述堿性化合物的含量為0.01質量％以上且1質量％以下。
11.根據權利要求9或10所述的方法，其特征在于，使所述研磨用組合物原液中的所述二氧化硅的單位表面積的堿性化合物的摩爾數為8.5×10-6mol/m2以上。
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