[發明專利]蝕刻方法有效
| 申請號： | 201380054561.3 | 申請日： | 2013-10-09 |
| 公開（公告）號： | CN104736745B | 公開（公告）日： | 2017-02-15 |
| 發明（設計）人： | 中村紀和 | 申請（專利權）人： | 株式會社御牧工程 |
| 主分類號： | C23F1/00 | 分類號： | C23F1/00;B05D3/10;H01L21/027;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277 | 代理人： | 劉新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 蝕刻 方法 | ||
1.一種蝕刻方法，其特征在于，其是通過用腐蝕劑使對象物的表面腐蝕來加工所述表面的蝕刻方法，其包括：
抗蝕膜形成步驟：在所述表面噴墨印刷抗蝕液，從而在所述表面利用所述抗蝕液形成抗蝕膜；
表面腐蝕步驟：通過使所述腐蝕劑接觸在所述抗蝕膜形成步驟形成了所述抗蝕膜的所述對象物的表面側，使所述表面中沒有形成所述抗蝕膜的部分腐蝕；和
抗蝕膜剝離步驟：在所述表面腐蝕步驟之后從所述表面剝離所述抗蝕膜，
所述抗蝕膜形成步驟是利用含有單官能單體或單官能低聚物和多官能單體或多官能低聚物的所述抗蝕液形成所述抗蝕膜的步驟。
2.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述抗蝕膜形成步驟是利用含有40質量％以上的所述單官能單體或所述單官能低聚物和30質量％以下的所述多官能單體或所述多官能低聚物的抗蝕液來形成所述抗蝕膜的步驟。
3.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述抗蝕膜形成步驟是將紫外線固化型的所述抗蝕液進行UV噴墨印刷的步驟。
4.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述抗蝕膜形成步驟是利用包含丙烯酸異冰片酯作為所述單官能單體的所述抗蝕液形成所述抗蝕膜的步驟。
5.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述抗蝕膜形成步驟是利用包含丙烯酸酯作為所述單官能單體的所述抗蝕液形成所述抗蝕膜的步驟。
6.根據權利要求1～權利要求5的任一項所述的蝕刻方法，其特征在于，所述抗蝕膜形成步驟是利用包含胺改性丙烯酸低聚物作為所述多官能單體的所述抗蝕液形成所述抗蝕膜的步驟。
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