[發(fā)明專利]產生用于投射曝光設備的可用輸出光束的EUV光源

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380054067.7
• 申請日: 2013-10-22
• 公開（公告）號: CN104718500B
• 公開（公告）日: 2018-11-20
• 發(fā)明（設計）人: I.桑格;M.莫爾;C.亨納克斯;J.勞夫;D.克拉默
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/28;G21K1/06;H05H7/04
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

一種產生用于投射光刻的投射曝光設備(1)的EUV照明光的可用輸出光束(3)的EUV光源(2)。該光源(2)具有產生EUV原始輸出光束的EUV產生裝置(2c)。該EUV原始輸出光束為圓形偏振。為了設定可用輸出光束(3)的偏振，相對于偏振方向，偏振設定裝置(32；39)對原始輸出光束具有線性偏振效果。這導致提供改進的輸出光束以用于分辨率最優(yōu)照明的EUV光源。

相關申請的交叉引用

德國專利申請DE102012219936.5的內容作為引用并入本文。

技術領域

本發(fā)明涉及一種產生用于投射光刻的投射曝光設備的EUV照明光的可用輸出光束的EUV光源。另外，本發(fā)明涉及一種具有這種光源的照明系統(tǒng)、一種具有這種照明系統(tǒng)的光學系統(tǒng)、一種具有這種光學系統(tǒng)的投射曝光設備、一種用于微結構或納米結構組件的制造方法(其中使用了這種投射曝光設備)以及借助此方法所生產的微結構或納米結構組件。

背景技術

從專利WO 2009/121438A1中可知一種具有照明系統(tǒng)的投射曝光設備。從DE10358225B3中可知一種EUV光源。另外，從WO 2009/121 438A1中可得到了解EUV光源的其它參考。另外從US 2003/0043359 A1與US 5,896,438中可知EUV照明光學單元。從US 6,999,172 B2與US 2008/0192225 A1中可知用于產生偏振EUV光與用于幾何偏振旋轉的變型例。

發(fā)明內容

本發(fā)明之目的在于發(fā)展一種EUV光源，使得提供一種改良的輸出光束用于分辨率最佳化的照明。

根據(jù)本發(fā)明，此目的通過一種具有權利要求1所指出的特征的EUV光源來實現(xiàn)。

根據(jù)本發(fā)明，已認識到，線性偏振EUV照明光可特別良好地適用于分辨率最佳化的照明。根據(jù)本發(fā)明的偏振設定裝置以可用輸出光束形式來提供這種線性偏振EUV照明光。由于初始時產生圓形偏振EUV原始輸出光束，所以結果為初始時利用任意地可預先定義的偏振方向來產生線性偏振光線的選項。由于該偏振設定盡可能低，結果為具有傳輸損耗的偏振規(guī)格。該光源的EUV產生裝置可實施為波蕩器。該波蕩器的偏轉磁體可以可位移方式來設計。該偏轉磁體的位移可用于在波蕩器中產生線性偏振的可用輸出光束。借助照明裝置中的出瞳，該EUV光源可用于利用至少局部地線性偏振的可用輸出光束來實現(xiàn)照明場的照明。特別地，由于使用照明光學單元的下游組件，可借助可用輸出光束來獲得照明場的切向偏振照明(TE偏振)。在切向偏振照明的情況下，獨立于照明角度，可用輸出光束的線性偏振方向永遠垂直于該照明場上的入射平面而偏振。此外，該EUV光源可用于設定線性偏振的偶極照明，其中免除了由于偏振設定造成的額外傳輸損耗。在具有這種線性偏振的偶極照明的情況下，從兩個主要方向來照明照明場，從兩個主要方向，在各情況下通過線性偏振照明光來照射照明場。

EUV光源可具有基于電子束的設計，例如，其可基于自由電子激光(FEL)而設計成X射線光源。或者，該EUV光源還可實施成等離子源，其中，EUV輻射借助驅動激光器(LPP源)或借助氣體放電(GDPP源)來放射。在根據(jù)權利要求2的基于電子束的EUV光源的情況下，可有效地產生圓形偏振的EUV原始輸出光束。

該EUV光源能夠產生波長在3nm與15nm之間的輻射。

根據(jù)權利要求3的設定裝置使得可獲得特定線性偏振方向的規(guī)格(尤其受控)。該可用輸出光束可具有相同功率，而與偏振方向無關。

根據(jù)權利要求4的設定裝置降低了對EUV光源之后的照明光學單元的用于照明該投射曝光設備的照明場的要求。如果兩個EUV偏轉反射鏡均在該EUV光的布魯斯特(Brewster)入射角的范圍中操作，則這導致具有特別良好的偏振對比度的線性偏振EUV照明光。