[發明專利]產生用于投射曝光設備的可用輸出光束的EUV光源

有效

• 申請號: 201380054067.7
• 申請日: 2013-10-22
• 公開（公告）號: CN104718500B
• 公開（公告）日: 2018-11-20
• 發明（設計）人: I.桑格;M.莫爾;C.亨納克斯;J.勞夫;D.克拉默
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/28;G21K1/06;H05H7/04
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.產生用于投射光刻的投射曝光設備(1)的EUV照明光的可用輸出光束(3)的EUV光源(2，53)，

-具有產生EUV原始輸出光束(30)的EUV產生裝置(2c)，

-其中，所述EUV原始輸出光束(30)為圓形偏振(31)，

-具有偏振設定裝置(32；39)，其關于偏振方向對所述原始輸出光束(30)具有線性偏振效果，以設定所述可用輸出光束(3)的偏振。

2.如權利要求1所述的EUV光源，

-具有電子束供應裝置(2a)，

-其中，通過所述電子束供應裝置(2a)給所述EUV產生裝置(2c)供應電子束(2b)。

3.如權利要求1或2所述的EUV光源，其特征在于，所述偏振設定裝置(32；39)具有在所述原始輸出光束(30)的布魯斯特入射角的范圍內操作的至少一個EUV偏轉反射鏡(33，34；40，41，42)，其中，EUV偏轉反射鏡能夠繞與所述原始輸出光束(30)的入射軸線一致的軸線旋轉，以用于旋轉入射平面的目的。

4.如權利要求3所述的EUV光源，其特征在于，所述偏振設定裝置(32；39)具有至少兩個EUV偏轉反射鏡(33，34；40，41，42)，其中，在于所述偏振設定裝置(32；39)的最后一個EUV偏轉反射鏡(34；42)處偏轉之后，所述可用輸出光束(3)在與所述原始輸出光束(30)相同的方向上傳播。

5.如權利要求4所述的EUV光源，其特征在于，所述偏振設定裝置(32；39)具有正好兩個EUV偏轉反射鏡(33，34)，其中，在于第二EUV偏轉反射鏡(34)處偏轉之后，所述可用輸出光束(3)平行于所述原始輸出光束(30)傳播。

6.如權利要求1或2所述的EUV光源，其特征在于，所述偏振設定裝置(39)具有至少三個EUV偏轉反射鏡(40至42)，其中，在于第三EUV偏轉反射鏡(42)處偏轉之后，所述可用輸出光束(3)沿所述原始輸出光束(30)的入射軸線(38)傳播。

7.如權利要求1或2所述的EUV光源，其特征在于，所述偏振設定裝置(39)具有EUV偏轉棱鏡(43)，所述EUV偏轉棱鏡的兩個側表面(40，42)充當反射鏡表面。

8.如權利要求3所述的EUV光源，其特征在于，所述偏振設定裝置(39)具有正好三個EUV偏轉反射鏡(40至42)，其中，所有三個EUV偏轉反射鏡(40至42)均在所述原始輸出光束(30)的布魯斯特入射角的范圍內。

9.用于投射曝光設備的照明系統，

-具有如權利要求1所述的EUV光源(2；53)，

-具有照明光學單元(5)，所述照明光學單元用于使用所述可用輸出光束(3)照明位于掩模母版平面(15)中的照明場(14)。

10.用于投射曝光設備的照明系統，

-具有EUV光源(2；53)，產生用于投射光刻的EUV照明光的可用輸出光束(3)，

--具有產生EUV原始輸出光束(30)的EUV產生裝置(2c)，

--其中，所述EUV原始輸出光束(30)為圓形偏振(31)的，

-具有照明光學單元(5)，用于使用所述可用輸出光束(3)照明位于掩模母版平面(15)中的照明場(14)，

-其中，所述照明光學單元(5)具有偏振設定裝置(44)，所述偏振設定裝置關于偏振方向對所述EUV原始輸出光束(30)具有線性偏振效果，以設定所述可用輸出光束(3)的偏振。

11.如權利要求1所述的EUV光源(2；53)以及作為如權利要求9或10所述的照明系統的組件的EUV光源(2；53)，其特征在于，所述EUV光源(2；53)實施為具有切換單元(28)，所述切換單元用于在所述EUV原始輸出光束(30)的圓形偏振和線性偏振之間切換。