[發明專利]具有防反射性的玻璃的制造方法及具有防反射性的玻璃

有效

• 申請號: 201380053816.4
• 申請日: 2013-10-11
• 公開（公告）號: CN104718465B
• 公開（公告）日: 2016-11-30
• 發明（設計）人: 澀谷崇;岡畑直樹
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: G02B1/113
• 分類號: G02B1/113;C03C17/28
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 馮雅;胡燁

1.具有防反射性的玻璃的制造方法，其特征在于，包括：

(a)在常壓、大氣氣氛下，在250℃～650℃的溫度范圍內，使包含氟化合物的處理氣體與玻璃基板的表面接觸的步驟；以及

(b)在所述表面之上形成有機氟類化合物的層的步驟。

2.如權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述有機氟類化合物的層通過涂布處理形成于所述表面之上。

3.如權利要求1或2所述的制造方法，其特征在于，所述有機氟類化合物的層包含氟類聚合物和/或含氟硅烷偶聯劑。

4.如權利要求1～3中任一項所述的制造方法，其特征在于，作為所述處理氣體的原料，包含氟化氫和/或三氟乙酸。

5.如權利要求1～4中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述處理氣體中包含氟化氫氣體，該氟化氫氣體的濃度為0.1體積％～10體積％的范圍。

6.如權利要求1～5中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述處理氣體還包含氮和/或氬。

7.如權利要求1～6中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述(a)的步驟中，所述玻璃基板在被搬運的狀態下與所述處理氣體接觸。

8.如權利要求1～7中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述(a)的步驟中，在所述玻璃基板的上部配置噴射器，所述處理氣體自所述噴射器朝向所述玻璃基板噴射。

9.如權利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板通過所述噴射器的時間為1秒～120秒之間。

10.如權利要求1～9中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述有機氟類化合物的層與水的接觸角在90°以上。

11.如權利要求1～10中任一項所述的制造方法，其特征在于，在所述(a)和(b)的步驟之間，具有在所述表面形成密合層的步驟。

12.具有防反射性的玻璃，其特征在于，包括：

具有表面的玻璃基板，和在所述表面上形成的有機氟類化合物的層；

所述玻璃基板的所述表面具有納米級的凹凸；

所述玻璃基板的所述表面具有與主體相比氧化硅濃度下降、除氧化硅以外的成分較多的部分。

13.如權利要求12所述的玻璃，其特征在于，在所述玻璃基板和所述有機氟類化合物的層之間還具有密合層。

14.如權利要求12或13所述的玻璃，其特征在于，所述有機氟類化合物的層包含氟類聚合物和/或含氟硅烷偶聯劑。

15.如權利要求12～14中任一項所述的玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的板厚在3mm以下，且該玻璃基板的透射率、即波長400nm～700nm的范圍內的透射率的平均值為88％以上。