[發明專利]具有防反射性的玻璃的制造方法及具有防反射性的玻璃

有效

• 申請號: 201380053816.4
• 申請日: 2013-10-11
• 公開（公告）號: CN104718465B
• 公開（公告）日: 2016-11-30
• 發明（設計）人: 澀谷崇;岡畑直樹
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: G02B1/113
• 分類號: G02B1/113;C03C17/28
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 馮雅;胡燁

技術領域

本發明涉及具有防反射性的玻璃。

背景技術

例如建材用玻璃、顯示器面板用玻璃、光學元件、太陽能電池板用玻璃、櫥窗玻璃、光學玻璃、和眼鏡片等各種玻璃制品中，有時需要高的透光性。該情況下，使用具有防反射性的玻璃基板。

具有這樣的防反射性的玻璃基板可通過例如浸漬法在玻璃基板的表面涂布低折射率材料，或者通過蒸鍍法或濺射法等的干式法在玻璃基板的表面形成多層膜來構成。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2009-529715號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

如上所述，制造要求高的透光性的玻璃制品的情況下，可使用通過各種方法在表面上形成了反射防止膜的玻璃基板。

可是，如果使用形成有這樣的防反射膜的玻璃制品，有時會在玻璃的表面附著水分、油、指紋和/或塵埃等污物，損害玻璃制品的美感。

因此，存在對于即使長時間使用，在玻璃制品的表面也不易附著污物、具有所謂“防污性”的玻璃制品的需求。

例如，為了應對該需求，考慮在玻璃的表面設置氟類化合物的層。這是因為通常氟類化合物具有防污性。

但是，即使在玻璃基板的表面設置有氟類化合物的層的情況下，也會經常確認到在這樣的玻璃基板中，防污效果在較短的時間內降低或消失的現象。而且，如果發生這樣的現象，結果由設置氟類化合物的層而產生的效果消失，導致再次在玻璃基板上開始附著污物。

本發明是鑒于上述問題而完成的發明，本發明的目的是提供可長期維持防污性的防反射性玻璃的制造方法。此外，本發明的目的是提供長期發揮防污性的防反射性玻璃。

解決技術問題所采用的技術方案

本發明提供具有防反射性的玻璃的制造方法，其包括：(a)在常壓、大氣氣氛下，在250℃～650℃的溫度范圍內，使包含氟化合物的處理氣體與玻璃基板的表面接觸的步驟；以及(b)在上述表面之上形成有機氟類化合物的層的步驟。

這里，本發明的一種形態的制造方法中，上述有機氟類化合物的層可以通過涂布處理形成在上述表面之上。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，上述有機氟類化合物的層可以包含氟類聚合物和/或含氟硅烷偶聯劑。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，作為上述處理氣體的原料，可以包含氟化氫和/或三氟乙酸。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，上述處理氣體可以包含氟化氫氣體，且該氟化氫氣體的濃度在0.1體積％～10體積％的范圍。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，上述處理氣體還可以包含氮和/或氬。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，在上述(a)的步驟中，上述玻璃基板可以在被搬運的狀態下與上述處理氣體接觸。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，在上述(a)的步驟中，在上述玻璃基板的上部配置噴射器，上述處理氣體可以從上述噴射器朝上述玻璃基板噴射。

該情況下，上述玻璃基板通過上述噴射器的時間可以為1秒～120秒之間。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，上述有機氟類化合物的層與水的接觸角可以為90°以上。

此外，本發明的一種形態的制造方法中，在上述(a)和(b)的步驟之間可以具有在上述表面形成密合層的步驟。

本發明還提供具有防反射性的玻璃，其包括：具有表面的玻璃基板，和在上述表面上形成的有機氟類化合物的層；上述玻璃基板的上述表面具有納米級的凹凸；上述玻璃基板的上述表面具有與主體相比氧化硅濃度下降、除氧化硅以外的成分較多的部分。

這里，本發明的一種形態的玻璃中，在上述玻璃基板和上述有機氟類化合物的層之間還可以具有密合層。

此外，本發明的一種形態的玻璃中，上述有機氟類化合物的層可以包含氟類聚合物和/或含氟硅烷偶聯劑。

此外，本發明的一種形態的玻璃中，上述玻璃基板的板厚為3mm以下，且該玻璃基板的透射率(波長400nm～700nm的范圍內的透射率的平均值)可以為88％以上。

發明的效果

本發明能夠提供長期維持防污性的防反射性玻璃的制造方法。此外，本發明能夠提供長期發揮防污性的防反射性玻璃。

附圖說明

圖1是簡略地示出本發明的一實施例的防反射性玻璃的制造方法的流程的圖。

圖2是示出在搬運玻璃基板的狀態下，用于實施玻璃基板的蝕刻處理的處理裝置的一構成例的圖。

圖3是簡略地示出本發明的一實施例的防反射性玻璃的剖視圖。