[發明專利]流體產品的噴霧頭和包括這類噴霧頭的分配器

有效

• 申請號: 201380053528.9
• 申請日: 2013-09-02
• 公開（公告）號: CN104736250B
• 公開（公告）日: 2017-03-08
• 發明（設計）人: F·普利奧德
• 申請（專利權）人: 阿普塔爾法國簡易股份公司
• 主分類號: B05B1/34
• 分類號: B05B1/34
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 劉敏

技術領域

本發明涉及一種流體產品噴霧頭，所述流體產品噴霧頭包括限定一分配軸線的噴霧孔、位于噴霧孔上游的渦流室和渦流通道，所述渦流室通過內部壁體界定，所述渦流通道分別地限定通道出口，所述通道出口橫向于分配軸線在內部壁體處通到渦流室中，以在渦流室內部產生渦流，每個渦流通道限定一噴射軸線，所述噴射軸線自通道出口延伸到渦流室中。這類噴霧頭可例如呈借助于手的一個或數個手指可致動的按鈕的形式。本發明的優選應用領域是香水領域、美容品領域或藥劑品領域，也不排除其它領域。

背景技術

在現有技術中，已知專利文獻FR-2399282，該專利文獻描述了一種常見的噴霧頭，所述噴霧頭包括分配孔、渦流室和渦流通道，所述渦流通道切向地和橫向地通到渦流室中。常見地，渦流通道在一平面中延伸，所述平面垂直于由噴霧孔限定的分配軸線。因此，來自渦流通道的流體產品流沿著渦流室的底部壁進入渦流室中。此外，由于渦流切向地通到渦流室中，所述渦流還沿著渦流室的圓柱形側壁。因此，流體產品流同時地沿著渦流室的底部壁和側壁，從而產生顯著的壓頭損失。還會產生多余的和不受控的流動現象。

該專利文獻FR-2?399?282還描述了另一實施方式，在其中，渦流通道在截錐形表面中形成且切向地通到渦流室的底部壁中，渦流室限定截錐形側壁，側壁的開口的頂部形成噴霧孔。更為確切地說，形成噴霧孔和截錐形壁體的噴嘴圍繞形成底部壁和截錐形表面的一柱銷接合，在該柱銷中形成渦流通道。因此，來自渦流通道的流體產品流朝向噴霧孔沿著渦流室的截錐形壁體進入渦流室中。甚而，渦流沿著渦流室的截錐形內壁的事實產生顯著的壓頭損失和多余的不受控的流動現象。

在專利文獻FR-2?399?282的這兩個實施方式中，霧化室成為較大的壓頭損失和產生射流現象的原因，較大的壓頭損失和產生射流現象有損于經過噴霧孔的噴霧的良好質量。

發明內容

本發明的目的在于消除在配有渦流室和渦流通道的大部分分配頭中所存在的現有技術的前述弊端。

為此，本發明提出：渦流通道的噴射軸線Y同時遠離都鄰近通道出口底部壁和周沿側壁，以既不沿著底部壁也不沿著周沿側壁穿過渦流室。

通過這種方式，來自渦流通道的出口的流體產品流不再易受沿著渦流室的內壁的多余的層流現象。流體產品的渦流從而會產生，而不被渦流室的內壁明顯地干擾。換句話說，渦流主要地遠離渦流室的內壁產生。在渦流室處的壓頭損失從而被顯著減小，這允許使用具有縮小截面的渦流通道。實際上，由具有縮小截面的渦流通道已產生的壓頭損失僅僅是在本發明的渦流室處略微增大。另一方面，需要注意到，通道出口在這樣的位置通到渦流室中，在所述位置底部壁連接到周沿側壁。因此，來自渦流通道的出口的流體產品流以相對于側壁和底部壁基本上對稱的方式進入渦流室中，這顯著減少多余的紊流。

根據本發明的一有利特征，底部壁是大致平坦的，通道出口在底部壁處通到渦流室中。

根據本發明的另一有利特征，渦流室包括前壁，在前壁中形成噴霧孔，噴射軸線朝向該前壁。

還根據本發明的另一方面，周沿側壁是大致圓柱形的。底部壁和前壁可以是平行的且平坦的。作為變型，與前壁相同，底部壁可以是凹形的或凸形的。周沿側壁可以是略微截錐形的。

根據本發明的一重要方面，渦流通道的噴射軸線有利地以相對于底部壁和相對于側壁大約45°的角度相對于底部壁和側壁橫向地延伸。這意味著，來自通道的噴射軸線同時遠離底部壁和側壁和有利地以完全對稱的方式延伸到渦流室中。

根據本發明的另一有利特征，渦流通道在一截錐形壁體中形成，所述截錐形壁體具有與分配軸線重合的回轉軸線。通過這種方式，渦流通道可以通到渦流室中，同時地相對于底部壁和相對于側壁具有傾斜的定向，所述底部壁有利地垂直于分配軸線，所述側壁有利地是圓柱形的。渦流通道的出口有利地在底部壁中以直接鄰近圓柱形側壁的方式形成。借助于源自截錐形壁體的傾斜布置，流體產品流進入渦流室中，朝形成噴霧孔的前壁的方向同時地遠離底部壁和側壁。

根據一實際的實施方式，噴霧頭包括噴霧頭主體和噴嘴，噴霧頭主體形成限定底部壁和截錐形壁體的柱銷，噴嘴圍繞柱銷接合，在所述噴嘴和所述柱銷之間限定渦流室和渦流通道，噴嘴限定前壁和側壁以及截錐形區域，所述截錐形區域與柱銷的截錐形壁體密封接觸，以形成渦流通道，噴嘴有利地具有圍繞分配軸線的回轉對稱性。

根據本發明的另一有利方面，通道出口非切向地通到渦流室中。通過這種方式，還進一步避免來自渦流通道的出口的流體產品流沿著渦流室的側壁流動。