[發明專利]流體產品的噴霧頭和包括這類噴霧頭的分配器

有效

• 申請號: 201380053528.9
• 申請日: 2013-09-02
• 公開（公告）號: CN104736250B
• 公開（公告）日: 2017-03-08
• 發明（設計）人: F·普利奧德
• 申請（專利權）人: 阿普塔爾法國簡易股份公司
• 主分類號: B05B1/34
• 分類號: B05B1/34
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 劉敏

1.流體產品的噴霧頭，其包括：

－限定一分配軸線X的噴霧孔(21)，

－位于所述噴霧孔(21)上游的渦流室(20)，所述渦流室包括周沿側壁(25)和基本上垂直于所述分配軸線X的底部壁(12)，和

－渦流通道(13)，所述渦流通道分別地限定通道出口(131)，所述通道出口橫向于所述分配軸線X通到所述渦流室(20)中，以在所述渦流室(20)內部產生渦流，每個渦流通道(13)限定一噴射軸線Y，所述噴射軸線自所述通道出口(131)延伸到所述渦流室(20)中，

其特征在于，所述渦流通道(13)的噴射軸線Y同時遠離兩者都鄰近所述通道出口(131)的所述底部壁(12)和所述周沿側壁(25)，以既不沿著所述底部壁(12)也不沿著所述周沿側壁(25)穿過所述渦流室(20)。

2.根據權利要求1所述的噴霧頭，其特征在于，所述底部壁(12)是大致平坦的，所述通道出口(131)在所述底部壁(12)處通到所述渦流室(20)中。

3.根據權利要求1或2所述的噴霧頭，其特征在于，所述渦流室(20)包括前壁(24)，在所述前壁中形成所述噴霧孔(21)，所述噴射軸線Y朝向所述前壁(24)。

4.根據前述權利要求中任一項所述的噴霧頭，其特征在于，所述周沿側壁(25)是大致圓柱形的。

5.根據權利要求2和4中任一項所述的噴霧頭，其特征在于，所述渦流通道(13)的噴射軸線Y有利地以相對于所述底部壁(12)和相對于所述周沿側壁(25)大約45°的角度相對于所述底部壁(12)和所述周沿側壁(25)橫向地延伸。

6.根據前述權利要求中任一項所述的噴霧頭，其特征在于，所述渦流通道(13)在一截錐形壁體(14)中形成，所述截錐形壁體具有與所述分配軸線X重合的回轉軸線。

7.根據前述權利要求所述的噴霧頭，其特征在于，所述噴霧頭包括噴霧頭主體(1)和噴嘴(2)，所述噴霧頭主體(1)形成限定所述底部壁(12)和截錐形壁體(14)的柱銷(11)，所述噴嘴(2)圍繞所述柱銷(11)接合，在所述噴嘴和所述柱銷之間限定所述渦流室(20)和所述渦流通道(13)，所述噴嘴(2)限定前壁(24)和周沿側壁(25)以及截錐形區域(26)，所述截錐形區域與所述柱銷(11)的截錐形壁體(14)密封接觸，以形成所述渦流通道(13)，所述噴嘴(2)有利地具有圍繞所述分配軸線X的回轉對稱性。

8.根據前述權利要求中任一項所述的噴霧頭，其特征在于，所述通道出口(131)非切向地通到所述渦流室(20)中。

9.根據前述權利要求中任一項所述的噴霧頭，其特征在于，所述渦流室(20)在所述分配軸線X的方向上具有厚度E，而在垂直于所述分配軸線X的方向上具有直徑D，E/D比小于大約0.8mm，E有利地小于大約0.5mm。

10.根據前述權利要求中任一項所述的噴霧頭，其特征在于，所述渦流通道(13)是直線形的。

11.流體產品分配器，其包括儲容器、安裝在儲容器上的泵和與泵相關聯的根據前述權利要求中任一項所述的噴霧頭。