[發明專利]表面涂層

有效

• 申請號: 201380053358.4
• 申請日: 2013-08-13
• 公開（公告）號: CN104718258B
• 公開（公告）日: 2017-08-08
• 發明（設計）人: F.勒蓋恩;P.馬滕斯;E.羅格
• 申請（專利權）人: 歐洲等離子公司
• 主分類號: C09D5/24
• 分類號: C09D5/24
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 凌志軍

1.其上具有聚合物涂層的部件，所述聚合物涂層保護所述部件免受侵蝕和向所述部件上的電接觸提供導電性，所述涂層由包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、或者有機硅烷的前體單體中的任意一種或者多種形成，和其中所述部件是遍及包括其一個或多個電接觸在內的整個表面涂覆的，和所述聚合物涂層在穿過所述涂層的厚度延伸的方向上導電，和在平行于所述聚合物涂層的表面延伸的方向上基本上電絕緣。

2.權利要求1的部件，其中所述部件為印刷電路板、電池、SIM卡、連接器、或者相機中的一種。

3.權利要求1或2中任一項的部件，其中所述/或者各丙烯酸酯和/或各甲基丙烯酸酯前體單體包含全氟碳鏈。

4.權利要求1或2中任一項的部件，其中所述/或者各丙烯酸酯和/或所述或者各甲基丙烯酸酯前體單體具有通式(I)：

C_nF_2n+1C_mX_2mCR₁Y-OCO-C(R₂)＝CH₂ (I)

其中n為2至9，m為1至9，X和Y為H、F、Cl、Br或者I，R₁為H或者烷基、或者取代的烷基，和R₂為H或者烷基、或者取代的烷基。

5.權利要求4的部件，其中R₁為CH₃、或者至少部分地被鹵素取代的烷基。

6.權利要求4的部件，其中R₂為CH₃、或者至少部分地被鹵素取代的烷基。

7.權利要求1或2中任一項的部件，其中所述部件達到4至7并且包括7的油排斥水平。

8.權利要求1或2中任一項的部件，其中所述有機硅烷前體單體具有通式(II)：

Y₁-X-Y₂(II)

其中X為O或者NH，Y₁為Y₂為以及其中Y₃、Y₄、Y₅、Z₃、Z₄、和Z₅各自獨立地為H或者烷基。

9.權利要求8的部件，其中所述烷基為C₁至C₅烷基。

10.權利要求1或2中任一項的部件，其中所述有機硅烷前體單體為具有n倍的重復單元(III)的環狀單體：

其中X₂為O或者NH，和其中n為2至10。

11.權利要求10的部件，其中n為3至6。

12.權利要求1或2中任一項的部件，其中所述聚合物涂層包括單層。

13.權利要求1或2中任一項的部件，其中所述涂層具有10nm至1μm的厚度。

14.電子設備，其包含至少一個根據權利要求1至13中任一項的部件，所述電子設備包括以下中的任意一種或者多種：智能手機、移動電話、個人數字助理、揚聲器、平板電腦、音樂播放器、電子書閱讀器、鍵盤、GPS系統、計步器、心率監測器、節奏傳感器、攝影機、或者照相機。

15.權利要求14的設備，其中所述音樂播放器為MP3播放器。

16.權利要求14的設備，其中所述設備防濺和/或防水，和其中在意外暴露于水的情況下進水被最小化，和其中在強制進水的情況下水損害被最小化。

17.制造其上具有聚合物涂層的部件的方法，所述聚合物涂層保護所述部件免受侵蝕和向所述部件上的一個或者多個電接觸提供導電性，所述方法包括以下步驟：

將所述部件置于等離子體沉積腔室中；

將所述腔室抽真空至低壓；

將包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或者有機硅烷的單體前體中的一種或者多種引入所述腔室中；

引發等離子體以在所述部件上聚合所述單體，使得所述部件表面的全部被涂覆，

將所述等離子體以連續功率或者脈沖功率形式維持足夠時間以沉積和聚合具有10nm至1μm厚度的涂層。

18.用于在部件上沉積聚合物涂層的裝置，所述裝置包含：

能夠接收待涂覆的一個或多個部件的等離子體沉積腔室，

用于將所述腔室抽真空至100毫托或者更低壓力的工具；

用于將選自包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或者有機硅烷的組的單體前體中的一種或者多種引入到所述腔室中的工具；

引發低功率和/或低壓等離子體以在所述部件的表面上聚合所述單體，

將所述等離子體以連續功率或者脈沖功率的形式維持足夠時間以在所述部件上沉積和聚合涂層，使得所述部件表面的全部涂覆有如下的聚合物涂層：所述聚合物涂層在穿過所述涂層的厚度延伸的方向上導電和在平行于所述聚合物涂層的表面延伸的方向上基本上電絕緣，和所述涂層具有10nm至1μm的厚度。