[發(fā)明專利]防偽結(jié)構(gòu)體及其制造方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201380051760.9
• 申請日: 2013-11-14
• 公開（公告）號: CN104704401A
• 公開（公告）日: 2015-06-10
• 發(fā)明（設計）人: 屋鋪一尋
• 申請（專利權(quán)）人: 凸版印刷株式會社
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;B42D25/30;B42D25/328;B42D25/40;G02B5/08
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗;陳建全

1.一種防偽結(jié)構(gòu)體，其具備：

微細凹凸形成層，該微細凹凸形成層具備第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域具有含有深度與寬度之比即深寬比為第1值以上的凹凸結(jié)構(gòu)的光學元件，所述第二區(qū)域具有含有深寬比小于所述第1值的凹凸結(jié)構(gòu)的光學元件，所述第一區(qū)域具有比所述第二區(qū)域更高的透光率；

填充于所述第一區(qū)域所含的所述凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中的微粒；以及

配置在所述第二區(qū)域所含的所述凹凸結(jié)構(gòu)上的反射層。

2.一種防偽結(jié)構(gòu)體，其具備：

微細凹凸形成層，該微細凹凸形成層具備第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域具有含有深度與寬度之比即深寬比為第1值以上的凹凸結(jié)構(gòu)的光學元件，所述第二區(qū)域具有含有深寬比小于所述第1值的凹凸結(jié)構(gòu)的光學元件，所述第二區(qū)域具有比所述第一區(qū)域更高的透光率；

配置于所述第一區(qū)域所含的所述凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中的反射層；以及

配置在所述反射層上的掩模涂膜。

3.一種防偽結(jié)構(gòu)體，其具備：

微細凹凸形成層，該微細凹凸形成層具備第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域具有含有深度與寬度之比即深寬比為第1值以上的凹凸結(jié)構(gòu)的光學元件，所述第二區(qū)域具有含有深寬比小于所述第1值的凹凸結(jié)構(gòu)的光學元件，所述第一區(qū)域具有比所述第二區(qū)域更高的透光率；和

配置于所述第二區(qū)域所含的所述凹凸結(jié)構(gòu)上的反射層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防偽結(jié)構(gòu)體，其中，

所述第一區(qū)域的所述凹部的寬度及所述凹凸結(jié)構(gòu)的深寬比被設定為可以使所述微粒填充于該凹凸結(jié)構(gòu)的所述凹部中的值，

所述第二區(qū)域的所述凹部的寬度及所述凹凸結(jié)構(gòu)的深寬比被設定為無法使所述微粒填充于該凹凸結(jié)構(gòu)的所述凹部中的值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的防偽結(jié)構(gòu)體，其中，所述第1值為0.5。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的防偽結(jié)構(gòu)體，其中，所述微粒為球狀粒子。

7.一種防偽結(jié)構(gòu)體的制造方法，其具備：

在微細凹凸形成層的一個主面上形成分別含有凹凸結(jié)構(gòu)的第一區(qū)域及第二區(qū)域；

在所述第一區(qū)域及第二區(qū)域的所述凹凸結(jié)構(gòu)上涂覆微粒；

將所述第二區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)上的所述微粒除去、而在所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中填充所述微粒；

使所述微粒粘接于所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部；

在配置于所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中的所述微粒上及所述第二區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)上涂覆反射層；以及

通過對所述第一區(qū)域及第二區(qū)域的整個區(qū)域進行刻蝕，從而使所述第二區(qū)域的所述反射層殘留，而將所述第一區(qū)域的所述微粒上的所述反射層除去。

8.一種防偽結(jié)構(gòu)體的制造方法，其具備：

在微細凹凸形成層的一個主面上形成分別含有凹凸結(jié)構(gòu)的第一區(qū)域及第二區(qū)域；

在所述第一區(qū)域及第二區(qū)域的所述凹凸結(jié)構(gòu)上涂覆反射層；

在所述第一區(qū)域及第二區(qū)域的所述反射層上涂覆微粒；

將所述第二區(qū)域的反射層上的所述微粒除去、而在所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中填充所述微粒；

使填充于所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中的所述微粒變化成膜狀、從而在所述凹部的反射層上形成掩模涂膜；以及

通過對所述第一區(qū)域及第二區(qū)域的整個區(qū)域進行刻蝕，從而將所述第二區(qū)域的所述反射層除去，使所述第一區(qū)域的被所述掩模涂膜保護的所述反射層殘留。

9.一種防偽結(jié)構(gòu)體的制造方法，其具備：

在微細凹凸形成層的一個主面上形成分別含有凹凸結(jié)構(gòu)的第一區(qū)域及第二區(qū)域；

在所述第一區(qū)域及第二區(qū)域的所述凹凸結(jié)構(gòu)上涂覆微粒；

將所述第二區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)上的所述微粒除去、而在所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中填充所述微粒；

在配置于所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中的所述微粒上及所述第二區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)上涂覆反射層；以及

利用溶解或物理性除去法將存在于所述第一區(qū)域的凹凸結(jié)構(gòu)的凹部中的所述微粒及反射層除去。

10.根據(jù)權(quán)利要求7～9中任一項所述的防偽結(jié)構(gòu)體的制造方法，其中，所述微粒具有芯殼結(jié)構(gòu)，且該芯殼結(jié)構(gòu)中的殼由在規(guī)定溫度下發(fā)生軟化的聚合物形成。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的防偽結(jié)構(gòu)體的制造方法，其中，所述微粒是含有聚合物的粒子，且按照在規(guī)定溫度下變化成膜狀的方式構(gòu)成。

12.根據(jù)權(quán)利要求7～9中任一項所述的防偽結(jié)構(gòu)體的制造方法，其中，所述微粒含有聚合物，且所述聚合物的至少一部分通過電磁波的照射而表現(xiàn)粘性或使粘性消失。