[發(fā)明專利]多層基板的制造方法、多層絕緣膜及多層基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380050669.5 | 申請日: | 2013-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN104685979B | 公開(公告)日: | 2018-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 白波瀬和孝;鹽見和義;林達(dá)史 | 申請(專利權(quán))人: | 積水化學(xué)工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H05K3/46 | 分類號: | H05K3/46;H05K1/03;H05K3/10 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 絕緣層 多層絕緣膜 多層基板 疊層 制造 電路基板 方法使用 金屬布線 多層 | ||
本發(fā)明提供一種可高精度地形成指定深度的槽的多層絕緣膜。本發(fā)明的多層基板的制造方法使用多層絕緣膜(1),該多層絕緣膜(1)具有第1絕緣層(2)和疊層于所述第1絕緣層(2)的一個(gè)表面上的第2絕緣層(3),所述第2絕緣層(3)如下構(gòu)成:在將所述第2絕緣層(3)的局部除去時(shí),能夠?qū)⑺龅?絕緣層(2)和所述第2絕緣層(3)中的僅所述第2絕緣層(3)選擇性地除去,從而在得到的絕緣層上形成深度為所述第2絕緣層(3)厚度的槽,所述制造方法包括如下工序:在電路基板的表面上疊層所述多層絕緣膜(1);將所述第1絕緣層和所述第2絕緣層(2)中的僅所述第2絕緣層(3)的局部選擇性地除去,在得到的絕緣層上形成深度為所述第2絕緣層(3)厚度的槽;在形成于所述絕緣層的所述槽內(nèi)形成金屬布線。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種在多層基板中形成絕緣層的多層基板的制造方法。本發(fā)明涉及一種例如可以優(yōu)選用于在多層基板中形成絕緣層的多層絕緣膜。另外,本發(fā)明涉及一種使用了上述多層絕緣膜的多層基板。
背景技術(shù)
目前,在疊層板及印刷布線板等電子部件中,可使用各種樹脂組合物來形成絕緣層。例如,在多層印刷布線板中,為了形成用于使內(nèi)部的層間絕緣的絕緣層或形成位于表層部分的絕緣層,可使用樹脂組合物。在上述絕緣層的表面形成有通常為金屬層的電路圖案。
另外,就半導(dǎo)體封裝的制造中的電路形成而言,形成如何高精度地形成電路(鍍Cu等)圖案很重要。作為形成電路圖案的一個(gè)方法,有在絕緣層上形成圖案狀的槽,在該槽內(nèi)填充金屬而在槽內(nèi)形成電路圖案的方法。該方法被稱為溝槽技術(shù)(トレンチ工法)。通過溝槽技術(shù)形成槽的方法例如公開在下述的專利文獻(xiàn)1中。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2005-51053號公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題
在上述溝槽技術(shù)中,可以某一程度地控制溝槽(trench)的深度并形成圖案狀的溝槽。但是,在以激光直接成像等形成槽的情況下,難以高精度地控制槽的深度。
另外,已知有半添加技術(shù)(SAP)等所代表的圖案形成方法。就SAP而言,電路(鍍Cu等)圖案凸?fàn)畹匦纬捎诮^緣層的表面上。接著,在絕緣層上及電路圖案上疊層其它的絕緣層。此時(shí),在對其它的絕緣層進(jìn)行疊層時(shí),存在容易在電路圖案間形成空隙(void)這樣的問題。進(jìn)而,在疊層其它的絕緣層后,存在其它的絕緣層的表面的平滑性降低這樣的問題。另外,重復(fù)該電路圖案的形成和絕緣層的疊層,若增多疊層數(shù),則上層的絕緣層的表面的平滑性容易更進(jìn)一步降低。
在通過上述溝槽技術(shù)形成電路圖案的情況下,不會產(chǎn)生通過SAP形成電路圖案時(shí)的上述的問題。因此,利用溝槽技術(shù)進(jìn)行電路圖案的形成具有很多優(yōu)點(diǎn)。
但是,如上所述,就溝槽技術(shù)而言,難以高精度地控制絕緣層上形成的槽的深度。因此,也難以高精度地控制槽內(nèi)形成的電路圖案的形狀。
本發(fā)明的目的在于,提供一種可高精度地形成指定深度的槽的多層基板的制造方法。另外,本發(fā)明的目的在于,提供一種可高精度地形成指定深度的槽的多層絕緣膜、以及使用了該多層絕緣膜的多層基板。
用于解決問題的技術(shù)方案
根據(jù)本發(fā)明的較寬的方面,提供一種多層基板的制造方法,其使用多層絕緣膜,該多層絕緣膜具有第1絕緣層和疊層于所述第1絕緣層的一個(gè)表面上的第2絕緣層,所述第2絕緣層如下構(gòu)成:在將所述第2絕緣層的局部除去時(shí),能夠?qū)⑺龅?絕緣層和所述第2絕緣層中的僅所述第2絕緣層選擇性地除去,從而在得到的絕緣層上形成深度為所述第2絕緣層厚度的槽,
所述制造方法包括如下工序:
在電路基板的表面上疊層所述多層絕緣膜;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于積水化學(xué)工業(yè)株式會社,未經(jīng)積水化學(xué)工業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380050669.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:高壓電纜除冰保護(hù)裝置
- 下一篇:一種多用途三相測試裝置
- 同類專利
- 專利分類





