[發明專利]具有吸氣結構的真空絕緣玻璃(VIG)窗單元以及制備其的方法

在審

• 申請號: 201380050473.6
• 申請日: 2013-07-18
• 公開（公告）號: CN104718341A
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 魯道夫·H·帕奇馬克;約翰·P·霍根
• 申請（專利權）人: 葛迪恩實業公司
• 主分類號: E06B3/66
• 分類號: E06B3/66;E06B3/677
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉培培;黎艷

本公開涉及一種真空絕緣玻璃(VIG)窗單元配置，以及用于制備VIG窗單元的方法。特別是，本公開涉及一種用于VIG窗單元的吸氣結構，以及制備其的方法。吸氣劑通常被分為兩個主要類別：蒸發性吸氣劑(EGs)和非蒸發性吸氣劑(NEGs)。

背景和示例性實施例概述

真空絕緣玻璃(VIG)窗單元通常包括至少兩個分離的玻璃基片，其中附有排空或低壓空間/腔。上述基片由外邊緣密封互相連接并通常包括隔離片，位于玻璃基片之間，來保持玻璃基片之間的間距，防止由于基片之間的低壓環境而造成的玻璃基片損毀。一些示例性VIG配置在類似美國專利Nos.5,657,607,5,664,395,5,657,607,5,902,652,6,506,472和6,383,580中被公開，在此其公開的內容被納入此處作為參照。

圖1和圖2示出現有的VIG窗單元1和用于形成VIG單元1的元件。例如VIG單元1可包括兩個分離的玻璃基片2、3，其中附有排空的低壓空間/腔6。玻璃片或基片2、3由外邊緣密封4互相連接，其可由熔融焊料玻璃被制成。玻璃基片2、3之間可包括一組支承柱/隔離片5，鑒于基片2、3之間存在的低壓空間/間隙6，來維持VIG單元1的玻璃基片2、3的間距。

泵出管8可通過焊料玻璃9被氣密密封至空穴/孔10，從玻璃基片2的內表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部，或選擇性地至玻璃基片2的外表面。真空被連接至泵出管8，將內部腔6排空至低于大氣壓的低壓。在腔6排空后，管8的部分(例如，頂端)被熔化來密封低壓腔/空間6中的真空。選擇性的凹槽11可用來固定密封的泵出管8。

如圖1-2中所示出的，吸氣劑12可包括在凹槽13內，該凹槽配置在玻璃基片中的一個地內表面中，例如，玻璃基片2。吸氣劑12可用來吸收或結合一些可能遺留在排空或密封的腔6中的殘余雜質。該吸氣劑包括金屬混合，可與氣體反應，將氣體雜質保持在吸氣表面和/或溶解該氣體。

在此公開的技術用來優化VIG窗單元約束內的活性吸氣劑的表面積。

在示例性實施例中，提供一種真空絕緣玻璃(VIG)窗單元，包括：平行的第一和第二基片；多個隔離片和密封，配置在所述第一和第二基片的之間；至少由所述密封定義的空間，位于所述第一和第二基片之間，并在低于大氣壓的壓力下；定義在所述第一基片中的吸氣劑凹槽，用來接收最初放置的吸氣劑；和所述第二基片上的吸氣結構，位于所述第一基片中的所述吸氣劑凹槽的對面，被設計用來增加吸氣劑激活之后的所述第二基片上提供的吸氣劑材料表面積。在示例性實施例中，所述第二基片上的所述吸氣結構可包括：凹槽，被定義在所述第二基片中。

在本發明的示例性實施例中，提供一種真空絕緣玻璃(VIG)窗單元，包括：平行的第一和第二基片；多個隔離片和密封，配置在所述第一和第二基片的之間；至少由所述密封定義的空間，位于所述第一和第二基片之間，并在低于大氣壓的壓力下；定義在所述第一基片中的第一吸氣劑凹槽，用來接收最初放置的蒸發性吸氣劑(EG)；定義在所述第二基片中的第二吸氣劑凹槽，位于所述第一吸氣劑凹槽的對面，從而所述第一基片中的所述第一吸氣劑凹槽的至少一部分與所述第二基片中的所述第二吸氣劑凹槽的至少一部分重疊。其中，來自所述EG的蒸發和沉積的吸氣劑材料位于所述第一吸氣劑凹槽和所述第二吸氣劑凹槽兩者中。