[發明專利]具有吸氣結構的真空絕緣玻璃(VIG)窗單元以及制備其的方法

在審

• 申請號: 201380050473.6
• 申請日: 2013-07-18
• 公開（公告）號: CN104718341A
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 魯道夫·H·帕奇馬克;約翰·P·霍根
• 申請（專利權）人: 葛迪恩實業公司
• 主分類號: E06B3/66
• 分類號: E06B3/66;E06B3/677
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉培培;黎艷

1.一種真空絕緣玻璃VIG窗單元，包括：

分別含有玻璃的平行的第一和第二基片；

多個隔離片和密封，配置在所述第一和第二基片的之間；

至少由所述密封定義的空間，位于所述第一和第二基片之間，并在低于大氣壓的壓力下；

定義在所述第一基片中的吸氣劑凹槽，用來接收最初放置的吸氣劑；和

所述第二基片上的吸氣結構，位于所述第一基片中的所述吸氣劑凹槽的對面，所述第二基片上的所述吸氣結構被設計用來增加吸氣劑激活之后的所述第二基片上提供的吸氣劑材料表面積，其中，所述第二基片上的所述吸氣結構包括以下中的一個或多個：(i)具有基座的凹槽和定義在所述第二基片中的至少一個側壁；(ii)所述第二基片被粗糙化所在的粗糙表面積，其中所述粗糙表面積比面向所述空間的所述第二基片的主要內表面更粗糙；和/或(iii)粗糙和/或多孔涂層。

2.如權利要求1所述的VIG窗單元，其中，所述第二基片上的所述吸氣結構包括：定義在所述第二基片中的凹槽，所述凹槽具有基座以及在所述基座和所述第二基片的主要內表面之間延伸的至少一個側壁。

3.如權利要求2所述的VIG窗單元，其中，定義在所述第二基片中的所述凹槽包括粗糙的表面，其比所述第二基片的主要內表面更粗糙。

4.如權利要求2-3中任何一項所述的VIG窗單元，其中，定義在所述第二基片中的所述凹槽的所述側壁至少部分地與垂直向成角度。

5.如權利要求2-4中任何一項所述的VIG窗單元，其中，泵出管直接位于定義在所述第二基片中的所述凹槽之上和/或之中。

6.如上述權利要求中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述第二基片上的所述吸氣結構包括：所述第二基片上的粗糙和/或多孔涂層，位于定義在所述第一基片中的所述吸氣劑凹槽的對面。

7.如權利要求1所述的VIG窗單元，其中，所述第二基片上的所述吸氣結構包括：定義在所述第二基片中的凹槽中的粗糙和/或多孔涂層，位于定義在所述第一基片中的所述吸氣劑凹槽的對面。

8.如上述權利要求中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑材料包含鋇。

9.如上述權利要求中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述VIG窗單元的可見光透射率至少為50％。

10.如上述權利要求中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑包含蒸發性吸氣劑材料。

11.一種真空絕緣玻璃VIG窗單元，包括：

含有玻璃的平行的第一和第二基片；

多個隔離片和密封，配置在所述第一和第二基片的之間；

至少由所述密封定義的空間，位于所述第一和第二基片之間，并在低于大氣壓的壓力下；

來自蒸發性吸氣劑的吸氣劑材料，位于吸氣劑凹槽中和/或附近，所述吸氣劑凹槽被定義在所述第一基片中，且

其中，所述吸氣劑凹槽包括至少一個粗糙表面，用來增加吸氣劑材料表面積。

12.如權利要求11所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑凹槽包括底表面和至少部分地與垂直向成角度的至少一個側壁。

13.如權利要求11-12中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑凹槽的側壁比所述第一基片的主要內表面更粗糙，其中所述第一基片中定義有所述吸氣劑凹槽。

14.如權利要求11-13中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑凹槽的所述粗糙表面被蝕刻。

15.如權利要求11-14中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑凹槽包括至少一個側壁，具有圓形和/或倒棱的上部，其中，所述吸氣劑凹槽與所述第一基片的主要內表面交界。

16.如權利要求11-15中任何一項所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑材料中的至少一些位于吸氣劑容器內，所述吸氣劑容器包括容器側壁并配置在所述吸氣劑凹槽中。

17.如權利要求16所述的VIG窗單元，其中，所述吸氣劑容器包括至少一個開口側和/或端部，其中不存在所述容器側壁，或是從上俯瞰時尺寸被縮小。