[發(fā)明專利]皮膚處理方法和設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380048824.X
• 申請日: 2013-09-19
• 公開（公告）號: CN104661610B
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發(fā)明（設計）人: J·A·帕勒洛;R·維哈根;M·朱納;M·R·霍頓
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61B18/20
• 分類號: A61B18/20;A61N7/00;A61B18/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所11256
• 代理人: 王茂華

1.一種用于處理皮膚組織區(qū)域(1)的裝置，所述皮膚組織區(qū)域具有真皮層區(qū)域(3)和表皮層區(qū)域(5)，所述表皮層區(qū)域(5)提供皮膚表面(7)并覆蓋所述真皮層區(qū)域，其中所述裝置包括：

-第一系統(tǒng)(9，25，31，41)，其被配置成使得，在所述裝置的操作期間，所述第一系統(tǒng)非侵入性地引起一個或多個局限于所述真皮層區(qū)域內(nèi)的真皮損傷(11)，而不會引起表皮損傷；和

-第二系統(tǒng)(13，27，33，43)，其被配置成使得，在所述裝置的操作期間，所述第二系統(tǒng)與所述引起所述一個或多個真皮損傷分開，引起局限于所述表皮層區(qū)域內(nèi)的多個表皮損傷(15)，其中所述裝置被配置成使得，在所述裝置的操作期間，所述第一系統(tǒng)和所述第二系統(tǒng)在所述皮膚組織區(qū)域內(nèi)引起所述一個或多個真皮損傷和所述多個表皮損傷的組合。

2.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述第一系統(tǒng)和所述第二系統(tǒng)中的至少一個包括電磁和/或超聲能量源以及控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)用于分別在所述真皮或表皮層區(qū)域內(nèi)引導和聚焦所述電磁和/或超聲能量。

3.根據(jù)權利要求2所述的裝置，其中所述第一系統(tǒng)和所述第二系統(tǒng)包括電磁能量的共同源。

4.根據(jù)權利要求2或3所述的裝置，其中所述第一系統(tǒng)和所述第二系統(tǒng)中的至少一個包括激光源和光學系統(tǒng)(23，35)，所述光學系統(tǒng)(23，35)包括第一聚焦部(25，31)和第二聚焦部(27，33)，以用于將所述能量聚集到兩個或多個焦點內(nèi)。

5.根據(jù)權利要求2或3所述的裝置，其中所述第一系統(tǒng)和所述第二系統(tǒng)中的至少一個包括激光源，以用于在預定的脈沖時間期間產(chǎn)生激光束(9，13，29，37)；和光學系統(tǒng)(23，35)，用于將所述激光束分別聚集到在所述真皮層區(qū)域(3)或表皮層區(qū)域(5)內(nèi)的焦點中，其中所述焦點的尺寸和所產(chǎn)生的激光束的功率使得，在所述焦點中，所述激光束具有高于分別用于真皮或表皮皮膚組織的特征閾值的功率密度，在所述值以上，對于所述預定的脈沖時間，在所述真皮層區(qū)域或表皮層區(qū)域內(nèi)分別發(fā)生激光誘導光學擊穿(LIOB)事件；并且所述光學系統(tǒng)被設置成當所述裝置被應用到待處理的所述皮膚時，在分別對應于所述真皮層區(qū)域或表皮層區(qū)域的處理深度處定位所述焦點。

6.根據(jù)權利要求1或2所述的裝置，其中所述第一系統(tǒng)和所述第二系統(tǒng)中的至少一個包括超聲能量源(41，43)，其包括多個被配置成聚焦所述超聲能量的超聲換能器。

7.根據(jù)權利要求1或2所述的裝置，其中所述第二系統(tǒng)包括磨皮器和/或皮膚穿孔器。

8.根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的裝置，被配置為使得所述一個或多個真皮損傷(11)提供小于所述皮膚組織區(qū)域的40％的所述皮膚組織區(qū)域的第一覆蓋范圍，并且所述多個表皮損傷(15)提供小于所述皮膚組織區(qū)域的5％的所述皮膚組織區(qū)域的第二覆蓋范圍。

9.根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的裝置，其中所述第一系統(tǒng)和所述第二系統(tǒng)被配置為先于或同時于所述多個表皮損傷(15)引起所述一個或多個真皮損傷(11)。

10.根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的裝置，其中所述處理皮膚組織區(qū)域(1)是非侵入性地處理所述皮膚組織區(qū)域。