[發(fā)明專利]反射鏡

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380048023.3
• 申請(qǐng)日: 2013-08-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104641296B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: I.薩恩杰;J.勞夫;M.恩德雷斯;T.艾森曼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 邱軍

具有分片總表面區(qū)的反射鏡，其中分片形成非周期布置。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

通過(guò)引用將德國(guó)專利申請(qǐng)DE 10 2012 215 502.9的內(nèi)容并入于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種反射鏡和包含該類型反射鏡的光學(xué)組件。另外，本發(fā)明涉及一種包含該類型反射鏡的投射光學(xué)單元，包含該類型投射光學(xué)單元的光學(xué)系統(tǒng)，以及包含該類型投射光學(xué)單元的投射曝光設(shè)備。而且，本發(fā)明涉及一種優(yōu)化反射鏡設(shè)計(jì)的方法。最后，本發(fā)明涉及一種制造微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)組件的方法。

背景技術(shù)

例如從DE 10 2010 041 632 A1已知用于EUV輻射的反射鏡，尤其是用于EUV投射曝光設(shè)備的反射鏡。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是發(fā)展一種反射鏡，尤其是用于EUV輻射的反射鏡，使得可改進(jìn)投射曝光設(shè)備，尤其是EUV投射曝光設(shè)備的光學(xué)質(zhì)量。

該目的通過(guò)具有分片總表面區(qū)的用于光學(xué)系統(tǒng)或檢查設(shè)備的反射鏡來(lái)實(shí)現(xiàn)。該反射鏡包含：多個(gè)第一區(qū)域(22)，其中全體所述第一區(qū)域形成所述反射鏡的分片遮擋；以及至少一個(gè)第二輻射反射式區(qū)域(23)，其中，所述第一區(qū)域分別在結(jié)構(gòu)上由所述至少一個(gè)第二輻射反射式區(qū)域定界且因此被周向環(huán)繞，其中，所述第一區(qū)域(22)非周期地布置，其中，所述第一區(qū)域(22) 具有在1mm至20mm范圍內(nèi)的直徑，并且所述光學(xué)系統(tǒng)包含照明光學(xué)單元和投射光學(xué)單元，并且所述檢查設(shè)備用于檢查反射式光刻掩模或用于檢查曝光的晶片基板。

首先，充當(dāng)光刻掩模的掩模母版的反射率由用于照明的EUV輻射的特定入射角開(kāi)始急劇減小。其次，在以小入射角照明掩模母版的情況中，尤其在垂直照明掩模母版的情況中(即，在照明光學(xué)單元的主光線的路徑平行于光軸以及掩模母版的關(guān)于光軸垂直取向的情況中)，照明光學(xué)單元和/或投射光學(xué)單元中光束路徑的遮擋可因構(gòu)造原則而發(fā)生。尤其是，隨著物方數(shù)值孔徑增大，主光線角的相應(yīng)增加在沒(méi)有掩模母版的反射率的相當(dāng)大損失的情況下是不再可能的。根據(jù)本發(fā)明的解決該問(wèn)題的一個(gè)方法在于實(shí)施具有分片總表面區(qū)域的反射鏡。該反射鏡尤其包含多個(gè)第一區(qū)域，該多個(gè)第一區(qū)域各在結(jié)構(gòu)上由至少一個(gè)第二區(qū)域定界且因此被周向環(huán)繞。該第一區(qū)域形成關(guān)于第二反射輻射區(qū)域的多個(gè)遮擋。換言之，全體第一區(qū)域形成反射鏡、尤其是第二反射輻射區(qū)域的分片遮擋。在此，單獨(dú)第一區(qū)域在各個(gè)情況中優(yōu)選以簡(jiǎn)單連接方式實(shí)施。兩個(gè)不同的第一區(qū)域各自以非連接方式實(shí)施。尤其是，它們通過(guò)第二區(qū)域而彼此分開(kāi)。

根據(jù)本發(fā)明，另外認(rèn)識(shí)到的是，第一區(qū)域在反射鏡上的布置對(duì)光學(xué)質(zhì)量、尤其是成像特性有極重要的影響，光學(xué)特性可尤其由例如遠(yuǎn)心度、歸一化圖像對(duì)數(shù)斜率(NILS)以及其在像場(chǎng)上的變化(NILS場(chǎng)分布)表征。

本發(fā)明的核心在于非周期地將第一區(qū)域布置在反射鏡上。所述第一區(qū)域尤其非對(duì)稱地、尤其非點(diǎn)對(duì)稱地布置。

非周期布置應(yīng)理解為表示尤其不是平移不變量和/或旋轉(zhuǎn)不變量的布置。根據(jù)一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，第一區(qū)域的布置不能通過(guò)位移或通過(guò)旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)變?yōu)槠渥陨恚蛘邠Q言之，在第一區(qū)域布置的任何任意位移和/或旋轉(zhuǎn)時(shí)，有正數(shù)個(gè)第一區(qū)域與第二區(qū)域重疊。

第一區(qū)域的直徑尤其在1mm至20mm的范圍內(nèi)，尤其在2mm至15mm 的范圍內(nèi)，尤其在3mm至10mm的范圍內(nèi)，尤其在4mm至8mm的范圍內(nèi)。

第一區(qū)域的一個(gè)優(yōu)選布置例如是，第一區(qū)域分別布置在彭羅斯鑲嵌的柵格點(diǎn)處。

通過(guò)第一區(qū)域的這種布置可實(shí)現(xiàn)的是在掩模母版處反射時(shí)出現(xiàn)的衍射級(jí)(通常是平移不變量)僅統(tǒng)計(jì)上隨機(jī)地照在第一區(qū)域上，即反射鏡的遮擋。因此，尤其可實(shí)現(xiàn)的是，遮擋對(duì)衍射級(jí)的影響最小化。反過(guò)來(lái)說(shuō)，對(duì)于任意周期性遮擋布置，可發(fā)現(xiàn)，大量衍射級(jí)入射在第一區(qū)域上的掩模母版結(jié)構(gòu)被遮擋，這導(dǎo)致對(duì)這些結(jié)構(gòu)的差成像質(zhì)量。