[發明專利]反射鏡

有效

• 申請號: 201380048023.3
• 申請日: 2013-08-30
• 公開（公告）號: CN104641296B
• 公開（公告）日: 2018-07-10
• 發明（設計）人: I.薩恩杰;J.勞夫;M.恩德雷斯;T.艾森曼
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.具有分片總表面區(24)的用于光學系統(27)或檢查設備的反射鏡(20)，包含：

a.多個第一區域(22)，其中全體所述第一區域形成所述反射鏡的分片遮擋；以及

b.至少一個第二輻射反射式區域(23)，

c.其中，所述第一區域分別在結構上由所述至少一個第二輻射反射式區域定界且因此被周向環繞，

d.其中，所述第一區域(22)非周期地布置，

e.其中，所述第一區域(22)具有在1mm至20mm范圍內的直徑，并且

f.其中，所述光學系統包含照明光學單元和投射光學單元，并且所述檢查設備用于檢查反射式光刻掩模或用于檢查曝光的晶片基板。

2.根據權利要求1所述的反射鏡(20)，其特征在于所述第一區域(22)布置為使得，從柵格的頂點上的所有所述第一區域(22)的布置開始，所述第一區域(22)的至少10％以關于所述頂點偏離它們直徑的至少一半的方式布置。

3.根據前述權利要求中任一項的反射鏡(20)，其特征在于，從位于柵格的頂點的布置開始，所述第一區域(22)以關于所述頂點偏離所述柵格的相鄰頂點之間的平均距離的至多一半的方式布置。

4.根據權利要求1或2的反射鏡(20)，其特征在于，所述第一區域(22)以均勻分布的方式布置，使得它們在直徑小于所述反射鏡(20)的直徑的50％的區域中的局部密度偏離所述第一區域在整個反射鏡(20)上的平均密度至多30％。

5.根據權利要求1或2的反射鏡(20)，其特征在于，所述第一區域(22)的數量為至少100。

6.根據權利要求1或2的反射鏡(20)，其特征在于，所述第一區域(22)的全體具有一表面區，其組成所述反射鏡(20)的總表面區(24)的至多30％。

7.根據權利要求1或2的反射鏡(20)，其特征在于，所述第一區域(22)為輻射透射式的。

8.光學部件(33)，包含：

a.根據前述權利要求中任一項的至少一個反射鏡(20)，

b.用于調節所述至少一個反射鏡(20)的調節裝置(32)。

9.光學部件(33)，包括：

根據權利要求1至7中任一項的至少兩個反射鏡(20)，和

用于調節所述至少兩個反射鏡(20)中的每一個的調節裝置(32)，

其中所述至少兩個反射鏡(20)通過所述調節裝置(32)而能夠更換。

10.用于將物場(5)成像至像場(10)的投射光學單元(9)，包含根據權利要求1至7中任一項的反射鏡。

11.光學系統(27)，包含：

a.照明光學單元(4)，以照明輻射(14)照明物場(5)，以及

b.根據權利要求10的投射光學單元(9)，

c.其中，所述反射鏡(20)的第一區域(22)布置在所述照明光學單元(4)的光束路徑中，并且

d.其中，所述反射鏡(20)的至少一個第二輻射反射式區域(23)布置在所述投射光學單元(9)的光束路徑中。

12.根據權利要求11的光學系統(27)，其特征在于，所述光學系統具有物方數值孔徑NAO和主光線角CRA，其中，arcsin(NAO)≥CRA適用。

13.用于微光刻的投射曝光設備(1)，包含：

a.輻射源(3)，以及

b.根據權利要求11或12的光學系統(27)。