[發(fā)明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380048018.2
• 申請日: 2013-10-31
• 公開（公告）號: CN104641415B
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 深田順平;吉川博則
• 申請（專利權(quán)）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;金玲

本發(fā)明提供一種磁盤用玻璃基板的制造方法，在使用固定磨粒的磨削加工中，能夠縮短無法進行磨削加工的時間，不會使得加工速度下降，而且將加工面的表面粗糙度抑制得較低，能夠制造高品質(zhì)的玻璃基板。本發(fā)明包括磨削加工處理，在該磨削加工處理中，使用潤滑液和磨削面上配備有包含金剛石粒子的固定磨粒的模座磨削玻璃基板的主表面。玻璃基板是主表面為鏡面的玻璃基板。磨削加工處理具有通過相對于進行磨削加工的負荷高的負荷使玻璃基板表面變得粗糙的第一階段、以及通過相對于第一階段的負荷低的負荷進行玻璃基板表面的磨削加工的第二階段。使用同一個裝置進行第一階段和第二階段。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及搭載于硬盤驅(qū)動器(HDD)等磁盤裝置上的磁盤用玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法。

背景技術(shù)

作為搭載于硬盤驅(qū)動器(HDD)等磁盤裝置上的信息記錄介質(zhì)之一可舉出磁盤。磁盤是在基板上形成磁性層等的薄膜而構(gòu)成的，作為這種基板，以往使用鋁基板。然而，最近響應(yīng)高記錄密度化的追求，相比鋁基板而言，能夠進一步縮小磁頭與磁盤的間隔的玻璃基板所占比率逐漸變高。此外，以能夠盡量降低磁頭的浮起高度的方式高精度研磨玻璃基板表面，從而實現(xiàn)高記錄密度化。近些年來，對于HDD的進一步大記錄容量化、低價化的要求激增，為了實現(xiàn)這種需求，對于磁盤用玻璃基板也需要實現(xiàn)進一步的高品質(zhì)化、低成本化。

如上所述，為了實現(xiàn)對于高記錄密度化而言必須的低磁頭飛行高度(浮起量)化，磁盤表面的高度平滑性是不可或缺的。為了獲得磁盤表面的高度平滑性，最終會要求高度平滑性的基板表面，需要高精度研磨玻璃基板表面。為了制作這種玻璃基板，在通過磨削(拋光)處理進行了板厚的調(diào)整并降低了平坦度(平面度)之后，再進行研磨處理以減少表面粗糙度和微小起伏，從而可實現(xiàn)主表面的極高的平滑性。

另一方面，以往，關(guān)于使用游離磨粒的磨削(拋光)工序(例如專利文獻1等)，提出了使用金剛石磨墊的基于固定磨粒的磨削方法(例如專利文獻2、專利文獻3等)。金剛石磨墊指的是將使用樹脂(例如丙烯類樹脂等)等的支撐部件固定金剛石粒子和通過玻璃、陶瓷、金屬或樹脂等的粘結(jié)劑固定若干個金剛石粒子得到的凝聚體的顆粒貼附于樹脂等的片上的結(jié)構(gòu)。此外，在將包含金剛石的樹脂層形成于片上之后，還可以在樹脂層上形成槽而呈突起狀。另外，這里所稱的金剛石磨墊不一定是通常的名稱，在本說明書中為了方便起見稱之為“金剛石磨墊”。

在現(xiàn)有的游離磨粒中形狀變形的磨粒處于模座與玻璃之間而不均勻地存在，因而對于磨粒的負荷不穩(wěn)定，在負荷集中的情況下，模座表面因鑄鐵而變?yōu)榈蛷椥裕蚨鴷诓Ａ袭a(chǎn)生較深的裂紋，加工變質(zhì)層變深，并且玻璃的加工表面粗糙度也會變大，因此在后續(xù)工序的鏡面研磨工序中需要較多的去除量，因而難以削減加工成本。與此相對，在使用金剛石磨墊的基于固定磨粒的磨削中，磨粒均勻存在于片表面，因此負荷不會集中，此外還使用樹脂將磨粒固定于片上，因而即使對磨粒施加了負荷，憑借固定磨粒的樹脂的高彈性作用，加工面的裂紋(加工變質(zhì)層)較淺，能夠?qū)崿F(xiàn)加工表面粗糙度的降低，減少了對于后續(xù)工序的負荷(加工余量等)，能夠削減加工成本。

該磨削(拋光)工序結(jié)束后，進行用于獲得高精度平面的鏡面研磨加工。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1:日本特開2001-6161號公報

專利文獻2:日本特開2012-99173號公報

專利文獻3:日本特開2009-99249號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明欲解決的課題

如上所述，根據(jù)使用金剛石磨墊的基于固定磨粒的磨削方法，能夠?qū)崿F(xiàn)加工面的表面粗糙度的降低，可減少對于后續(xù)的鏡面研磨工序的負荷，能夠?qū)崿F(xiàn)玻璃基板的加工成本的削減，然而根據(jù)本發(fā)明人的研究，查明存在如下課題。