[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法有效
| 申請號： | 201380048018.2 | 申請日： | 2013-10-31 |
| 公開（公告）號： | CN104641415B | 公開（公告）日： | 2018-06-01 |
| 發明（設計）人： | 深田順平;吉川博則 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 李輝;金玲 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磨削加工 玻璃基板 玻璃基板表面 固定磨粒 磁盤用 主表面 磨削 制造 表面粗糙度 金剛石粒子 高品質 潤滑液 磁盤 模座 加工 粗糙 配備 | ||
1.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，包括磨削加工處理，在該磨削加工處理中，使用潤滑液和在磨削面上配備有包含金剛石粒子的固定磨粒的模座來磨削玻璃基板的主表面，
該磁盤用玻璃基板的制造方法的特征在于，
所述玻璃基板是主表面為鏡面的玻璃基板，
所述磨削加工處理具有：
第一階段，以相對于進行磨削加工的負荷高的負荷使所述玻璃基板的表面變得粗糙；以及
第二階段，在該第一階段之后，以相對于所述第一階段的負荷低的負荷進行所述玻璃基板的表面的磨削加工，
使用相同的固定磨粒磨石并使用同一個裝置來進行具有所述第一階段和所述第二階段的所述磨削加工處理，
在所述磨削加工處理中投入的所述玻璃基板的主表面的表面粗糙度以Ra計為0.05μm以下。
2.根據權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
在設所述第一階段中的負荷為P1(g/cm
3.根據權利要求2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
在設維持所述第一階段中的負荷P1的時間為t1、維持所述第二階段中的負荷P2的時間為t2時，t1＜t2。
4.根據權利要求1至3中的任意一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述磨削加工處理中的加工速度為3.0μm/分鐘～9.0μm/分鐘。
5.根據權利要求1至3中的任意一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述第二階段結束后的玻璃基板的表面粗糙度以Ra計為0.080μm～0.130μm。
6.一種磁盤的制造方法，其特征在于，
在通過權利要求1至5中的任意一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法制造的磁盤用玻璃基板上，至少形成磁記錄層。
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