[發明專利]基板盒清洗裝置在審
| 申請號: | 201380047112.6 | 申請日: | 2013-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN104620360A | 公開(公告)日: | 2015-05-13 |
| 發明(設計)人: | 坂下俊也 | 申請(專利權)人: | 修谷魯電子機器股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/304 | 分類號: | H01L21/304 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基板盒 清洗 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及對基板盒進行清洗的基板盒清洗裝置,該基板盒是在對轉印電子部件的電路圖案時使用的掩模基板或晶片等半導體基板等基板進行保管或者搬運時使用的基板盒。
背景技術
以往,作為這種基板盒清洗裝置,已知例如專利文獻1(日本特開2005-109523號公報)中公開的基板盒清洗裝置。如圖22所示,在未設置基板的狀態下,該基板盒清洗裝置Sa對由底座Cb和覆蓋該底座Cb的殼Cs構成且內部容納基板(未圖示)的基板盒C進行清洗。基板盒清洗裝置Sa具備形成潔凈的空間的室200,在該室200內設置有清洗槽201,所述清洗槽201在將底座Cb和殼Cs各部件分離的狀態下容納并清洗這些部件。清洗槽201具備:槽主體202,其具有向上方敞開的開口;和蓋203,其對槽主體202的開口進行開閉。在室200的外部設置有載置基板盒C的載置臺204。手臂機器人205利用把持柄207把持載置于載置臺204上的基板盒C并搬送到設置在室200的內部的支承臺206。并且,手臂機器人205利用把持柄207把持被支承于支承臺206的基板盒C的殼Cs而搬送并放置于清洗槽201的槽主體202內,將基板盒C的底座Cb搬送并放置于清洗槽201的蓋203上。然后,在將蓋203關閉的狀態下,殼Cs和底座Cb在槽主體202內被清洗。若清洗完畢,則清洗槽201的蓋203被打開,手臂機器人205對基板盒C的底座Cb和殼Cs順次地進行搬送,并在支承臺206上裝配成基板盒C。并且,手臂機器人205再次地將基板盒C從支承臺206上搬送到室200外的載置臺204上。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2005-109523號公報
發明內容
發明要解決的課題
然而,在上述以往的基板盒清洗裝置Sa中,在清洗基板盒時,使手臂機器人205在室200內待機,在清洗后,手臂機器人205再次把持基板盒C進行搬送。手臂機器人205的把持柄在把持各部件時,有時附著于各部件的污染物質轉移而附著到把持柄上而污染把持柄。在該情況下,在把持并搬送清洗后的各部件時,有時污染物質再次附著而污染被凈化的各部件。
本發明正是鑒于上述情況而完成的,提供基板盒清洗裝置,其能夠防止在基板盒被清洗后污染物質從把持柄轉移而污染基板盒的情況。
用于解決課題的手段
本發明的基板盒清洗裝置為如下的結構:在未設置基板的狀態下對基板盒進行清洗,該基板盒具備底座和覆蓋該底座的殼,并且在內部容納上述基板,其中,該基板盒清洗裝置具備:室,其形成潔凈的空間;清洗槽,其設置在該室內,在將上述基板盒的底座和殼各部件分離的狀態下容納并清洗這些部件;和搬送機構,其利用把持柄把持上述基板盒的各部件而將這些部件相對于清洗槽進行搬送;以及清洗單元,在清洗上述基板盒時使上述把持柄在室內的待機位置處待機,在清洗上述各部件時該清洗單元對上述把持柄進行清洗。
由此,雖然有時由于把持各部件而使附著于各部件的污染物質轉移而附著并污染把持柄,但由于能夠借助清洗單元來進行凈化,因此,在把持著搬送清洗后的各部件時,能夠防止再次污染被凈化了的各部件的情況。此外,由于在清洗各部件時進行把持柄的清洗,因此能夠在每次清洗各部件時進行清洗,能夠可靠地防止清洗后的各部件被污染。
并且,根據需要,上述清洗單元可以為如下結構:其具備:噴射嘴,其對上述把持柄噴射氣體;和排氣扇,其將從該噴射嘴噴射出的氣體從上述室內排出。作為氣體,可以采用例如空氣、氮氣等。由于從噴射嘴噴射氣體而將附著于把持柄的污染物質去掉,因此能夠可靠地除去污染物質。并且,由于被除去的污染物質通過排氣扇被排出到室外,因此能夠始終使室內保持潔凈。
發明效果
根據本發明的基板盒清洗裝置,雖然有時由于把持各部件而使附著于各部件的污染物質轉移而附著并污染把持柄,但由于能夠借助清洗單元進行凈化,因此,在把持著搬送清洗后的各部件時,能夠防止再次污染被凈化了的各部件的情況。此外,由于在清洗各部件時進行把持柄的清洗,因此能夠在每次清洗各部件時進行清洗,能夠可靠地防止清洗后的各部件被污染。
附圖說明
圖1是示出本發明的實施方式的基板盒清洗裝置的側剖視圖。
圖2是示出本發明的實施方式的基板盒清洗裝置的俯視剖視圖。
圖3是示出本發明的實施方式的基板盒清洗裝置的橫剖視圖。
圖4是示出本發明的實施方式的基板盒清洗裝置的主視圖。
圖5是示出本發明的實施方式的基板盒清洗裝置的載置臺的立體圖。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于修谷魯電子機器股份有限公司;,未經修谷魯電子機器股份有限公司;許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380047112.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:用于輻射基片的裝置
- 下一篇:電力電子設備的溫度感測系統
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





