[發明專利]涂敷有二氧化鈦的介孔二氧化硅復合粉體及其制造方法有效
| 申請號: | 201380046592.4 | 申請日: | 2013-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN104602666B | 公開(公告)日: | 2019-05-03 |
| 發明(設計)人: | 梁榮準;樸世埈;崔庚浩;崔榮鎮;金知晚;羅炫真;樸秀彬 | 申請(專利權)人: | 株式會社愛茉莉太平洋 |
| 主分類號: | A61K8/25 | 分類號: | A61K8/25;A61K8/29;A61K8/02;A61Q17/04 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;金世煜 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 涂敷有二 氧化 二氧化硅 復合 及其 制造 方法 | ||
1.一種介孔二氧化硅復合粉體的紫外線阻隔用途,是介孔二氧化硅復合粉體的用途,所述介孔二氧化硅復合粉體包括介孔二氧化硅分子篩、在所述二氧化硅分子篩上的二氧化鈦(TiO2)涂敷層、以及擔載于所述二氧化硅分子篩內的紫外線阻隔劑,
所述紫外線阻隔劑相對于復合粉體總重量擔載1.0~30重量%,
所述介孔二氧化硅分子篩具有直徑為2~50nm的孔隙,
所述二氧化硅分子篩上的二氧化鈦涂敷層的平均厚度為10~50nm,
所述介孔二氧化硅分子篩是通過包括以下步驟的制造方法而制造的:
在紫外線阻隔劑溶液中浸滲介孔二氧化硅分子篩而使紫外線阻隔劑擔載于二氧化硅分子篩內的步驟;以及
在二氧化鈦前體溶液中浸滲擔載有所述紫外線阻隔劑的二氧化硅,由二氧化鈦涂敷二氧化硅表面的步驟;
擔載所述紫外線阻隔劑的步驟中的浸滲包括將所述紫外線阻隔劑溶液以每次少量的方式放入所述二氧化硅分子篩內,
以重量比5:1~10:1的混合比例浸滲所述介孔二氧化硅分子篩和紫外線阻隔劑溶液,
由二氧化鈦涂敷所述二氧化硅表面的步驟中的浸滲包括將擔載有所述紫外線阻隔劑的二氧化硅放入溶劑中進行分散后,進行攪拌的同時放入二氧化鈦前體。
2.根據權利要求1所述的介孔二氧化硅復合粉體的紫外線阻隔用途,其中,所述紫外線阻隔劑為選自三嗪、三嗪酮、肉桂酸鹽、水楊酸酯和二苯甲酮中的一種以上。
3.一種紫外線阻隔用介孔二氧化硅復合粉體的制造方法,其中,包括:
在紫外線阻隔劑溶液中浸滲介孔二氧化硅分子篩而使紫外線阻隔劑擔載于二氧化硅分子篩內的步驟;以及
在二氧化鈦前體溶液中浸滲擔載有所述紫外線阻隔劑的二氧化硅,由二氧化鈦涂敷二氧化硅表面的步驟;
所述紫外線阻隔劑相對于復合粉體總重量擔載1.0~30重量%,擔載所述紫外線阻隔劑的步驟中的浸滲包括將所述紫外線阻隔劑溶液以每次少量的方式放入所述二氧化硅分子篩內,
以重量比5:1~10:1的混合比例浸滲所述介孔二氧化硅分子篩和紫外線阻隔劑溶液,
所述介孔二氧化硅分子篩具有直徑為2~50nm的孔隙,
由二氧化鈦涂敷所述二氧化硅表面的步驟中的浸滲包括將擔載有所述紫外線阻隔劑的二氧化硅放入溶劑中進行分散后,進行攪拌的同時放入二氧化鈦前體,
所述二氧化硅分子篩上的二氧化鈦涂敷層的平均厚度為10~50nm。
4.根據權利要求3所述的紫外線阻隔用介孔二氧化硅復合粉體的制造方法,其中,所述制造方法在擔載紫外線阻隔劑之前還包括:
制造介孔二氧化硅分子篩的步驟;以及
對所述介孔二氧化硅分子篩進行煅燒處理的步驟。
5.根據權利要求3所述的紫外線阻隔用介孔二氧化硅復合粉體的制造方法,其中,所述制造方法在涂敷二氧化鈦的步驟之后,還包括對由所述二氧化鈦涂敷的擔載有紫外線阻隔劑的二氧化硅進行干燥的步驟。
6.根據權利要求3所述的紫外線阻隔用介孔二氧化硅復合粉體的制造方法,其中,所述介孔二氧化硅分子篩是混合含硅的醇鹽化合物和有機溶劑而制造的。
7.根據權利要求3所述的紫外線阻隔用介孔二氧化硅復合粉體的制造方法,其中,所述紫外線阻隔劑為選自三嗪、三嗪酮、肉桂酸鹽、水楊酸酯和二苯甲酮中的一種以上。
8.根據權利要求3所述的紫外線阻隔用介孔二氧化硅復合粉體的制造方法,其中,所述紫外線阻隔劑溶液的溶劑為選自蒸餾水、乙醇、丙酮和乙腈中的一種以上。
9.根據權利要求3所述的紫外線阻隔用介孔二氧化硅復合粉體的制造方法,其中,所述二氧化鈦前體為選自四異丁氧基鈦和四異丙氧基鈦中的一種以上。
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