[發明專利]涂敷有二氧化鈦的介孔二氧化硅復合粉體及其制造方法

有效

• 申請號: 201380046592.4
• 申請日: 2013-07-05
• 公開（公告）號: CN104602666B
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發明（設計）人: 梁榮準;樸世埈;崔庚浩;崔榮鎮;金知晚;羅炫真;樸秀彬
• 申請（專利權）人: 株式會社愛茉莉太平洋
• 主分類號: A61K8/25
• 分類號: A61K8/25;A61K8/29;A61K8/02;A61Q17/04
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 苗堃;金世煜

本發明提供包括介孔二氧化硅分子篩和在上述二氧化硅分子篩上的二氧化鈦(TiO₂)涂敷層的介孔二氧化硅復合粉體及其制造方法。根據本發明的涂敷有二氧化鈦的介孔二氧化硅復合粉體，與現有的二氧化鈦的合成方法相比，不大量使用前體溶液，因此經濟，并且通過首先制造能夠調節形態和大小的二氧化硅粒子，再對此形成二氧化鈦膜，從而具有寬區域的紫外線阻隔性能和優異的紫外線阻隔性能。

技術領域

本發明涉及涂敷有二氧化鈦的介孔二氧化硅復合粉體及其制造方法，更具體地，涉及紫外線阻隔劑擔載于二氧化硅的介孔且在二氧化硅上具有二氧化鈦涂敷層的介孔二氧化硅復合粉體及其制造方法。

背景技術

1992年，美孚公司的研究組發表了被稱為M41S的具有均勻且整齊排列的介孔和高表面積的介孔(mesoporous)二氧化硅的合成。之后，除了這種介孔二氧化硅物質之外，對具有多種骨架和特性的介孔過渡金屬氧化物的關注度處于一直增加的趨勢。尤其，二氧化鈦(Titanium dioxide)具有寬的帶隙，由此具有可吸收紫外線的特性，因此作為紫外線阻隔劑的材料受到矚目。但是，二氧化鈦因其表面特性而不能由有機/無機物質包裹最外圍，因而存在浸滲于內部的有機/無機紫外線阻隔物質有可能洗脫的缺點。

并且，在以往的紫外線阻隔劑的成分中，試圖以使用時可提高涂抹性的體質顏料或在孔隙內使有機物穩定的用途來利用二氧化硅，但在二氧化硅的情況下，存在紫外線阻隔性不高的缺點。

發明內容

為了解決如上所述的問題，本發明的目的在于，提供如下的介孔二氧化硅復合粉體，利用制造方法簡單且具有孔隙的調節范圍寬的介孔的球形二氧化硅，在其內擔載紫外線阻隔劑，并在其上涂敷紫外線阻隔性能優異的二氧化鈦，從而防止擔載的紫外線阻隔劑的洗脫現象，且覆蓋力優異，并具有高紫外線阻隔能力和穩定性。

為了解決如上所述的目的，本發明提供一種介孔二氧化硅復合粉體，其中，包括介孔二氧化硅分子篩和在上述二氧化硅分子篩上的二氧化鈦(TiO₂)涂敷層。

本發明的一實施例中，還可包含擔載于上述二氧化硅分子篩內的紫外線阻隔劑。

本發明的一實施例中，上述介孔二氧化硅分子篩可以具有直徑為2～50nm的孔隙。

本發明的一實施例中，上述紫外線阻隔劑可以為選自三嗪、三嗪酮(??)、肉桂酸鹽、水楊酸酯和二苯甲酮中的一種以上。

本發明的一實施例中，上述復合粉體的二氧化鈦涂敷層的平均厚度可以為10～50nm。

本發明的一實施例中，相對于復合粉體總重量，可擔載1.0～30重量％的上述紫外線阻隔劑。

并且，本發明提供介孔二氧化硅復合粉體的制造方法，其中，包括：在紫外線阻隔劑溶液中浸滲介孔二氧化硅分子篩而使紫外線阻隔劑擔載于二氧化硅分子篩內的步驟；以及在二氧化鈦前體溶液中浸滲擔載有上述紫外線阻隔劑的二氧化硅，由二氧化鈦涂敷二氧化硅表面的步驟。

本發明的一實施例中，上述制造方法在擔載紫外線阻隔劑之前還可包括：制造介孔二氧化硅分子篩的步驟；對上述介孔二氧化硅分子篩進行煅燒處理的步驟；以及將紫外線阻隔劑與溶劑進行混合的步驟。

本發明的一實施例中，上述制造方法在涂敷二氧化鈦的步驟之后，還可包括對由上述二氧化鈦涂敷的擔載有紫外線阻隔劑的二氧化硅進行干燥的步驟。

本發明的一實施例中，上述介孔二氧化硅分子篩可以是混合含硅的醇鹽化合物和有機溶劑而制造的。

本發明的一實施例中，上述介孔二氧化硅分子篩可以具有直徑為2～50nm的孔隙。

本發明的一實施例中，上述紫外線阻隔劑可以為選自三嗪、三嗪酮、肉桂酸鹽、水楊酸酯和二苯甲酮中的一種以上。