[發明專利]信息記錄介質用玻璃基板的制造方法有效
| 申請號： | 201380045143.8 | 申請日： | 2013-06-18 |
| 公開（公告）號： | CN104603877B | 公開（公告）日： | 2018-06-26 |
| 發明（設計）人： | 小松隆史 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84;B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 李輝;黃綸偉 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 玻璃基板 信息記錄介質 研磨墊 供給漿液 吸附力 制造 | ||
1.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法使用研磨裝置，所述研磨裝置在平臺上安裝有由含有連通的多個發泡孔的部件構成的研磨墊，并使用所述研磨墊對玻璃基板的表面進行研磨，
所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法包括以下的工序：
將所述玻璃基板載置到所述平臺上的工序；
利用所述研磨裝置一邊向所述玻璃基板供給液體狀研磨劑一邊對所述玻璃基板的表面進行研磨的工序；以及
從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板的工序，
在向所述研磨墊供給了所述液體狀研磨劑的狀態下，所述研磨墊中的至少下側研磨墊對所述玻璃基板的吸附力在0.50g/cm2以上且15g/cm2以下。
2.根據權利要求1所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，
在從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板的工序中，在所述研磨墊含有所述液體狀研磨劑的狀態下，從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板。
3.根據權利要求2所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，
在從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板的工序中，所述液體狀研磨劑的濃度為，利用所述研磨裝置對所述玻璃基板的表面進行研磨的工序中的所述液體狀研磨劑的濃度的1.5倍以上。
4.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法使用研磨裝置，所述研磨裝置在平臺上安裝有由含有多個發泡孔的部件構成的研磨墊，并使用所述研磨墊對玻璃基板的表面進行研磨，
所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法包括以下的工序：
將所述玻璃基板載置到所述平臺上的工序；
利用所述研磨裝置一邊向所述玻璃基板供給液體狀研磨劑一邊對所述玻璃基板的表面進行研磨的工序；以及
從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板的工序，
所述研磨墊中的至少下側研磨墊具有形成有連通相鄰的所述發泡孔的多個連通孔的連續發泡結構，
在沿著所述平臺的法線方向的所述下側研磨墊的截面中，截面積為0.01mm2以上的所述連通孔以每25mm2 30個以上的密度存在，
在向所述研磨墊供給了所述液體狀研磨劑的狀態下，所述下側研磨墊對所述玻璃基板的吸附力在0.50g/cm2以上且15g/cm2以下。
5.根據權利要求4所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，
在沿著所述平臺的法線方向的所述研磨墊的截面中，截面積為0.01mm2以上的所述連通孔以每25mm2 80個以上的密度存在。
6.根據權利要求4或5所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，
在從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板的工序中，在所述研磨墊含有所述液體狀研磨劑的狀態下，從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板。
7.根據權利要求6所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，
在從所述平臺取出研磨后的所述玻璃基板的工序中，所述液體狀研磨劑的濃度為，利用所述研磨裝置對所述玻璃基板的表面進行研磨的工序中的所述液體狀研磨劑的濃度的1.5倍以上。
8.一種信息記錄介質的制造方法，其特征在于，
在通過權利要求1～7中任一項所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法得到的信息記錄介質用玻璃基板的表面上至少形成磁性膜。
9.一種研磨墊，其被安裝在研磨裝置的平臺上，用于研磨處理，其特征在于，
所述研磨墊具有多個發泡孔和連通相鄰的所述發泡孔的多個連通孔，
在所述研磨墊的沿著所述平臺的法線方向的截面中，截面積為0.01mm2以上的所述連通孔以每25mm2 30個以上的密度存在。
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