[發明專利]信息記錄介質用玻璃基板的制造方法有效
| 申請號: | 201380045143.8 | 申請日: | 2013-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN104603877B | 公開(公告)日: | 2018-06-26 |
| 發明(設計)人: | 小松隆史 | 申請(專利權)人: | HOYA株式會社 |
| 主分類號: | G11B5/84 | 分類號: | G11B5/84;B24B37/26 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃基板 信息記錄介質 研磨墊 供給漿液 吸附力 制造 | ||
在該信息記錄介質用玻璃基板的制造方法中,在向研磨墊(410)供給漿液的狀態下,研磨墊(410)對玻璃基板(1)的吸附力在0.50g/cm2以上且15g/cm2以下。
技術領域
本發明涉及信息記錄介質用玻璃基板的制造方法。
背景技術
以往,在用于計算機等的信息記錄介質(磁盤記錄介質)中,使用了鋁基板或玻璃基板。在這些基板上形成有磁性薄膜層,利用磁頭使磁性薄膜層磁化,由此在磁性薄膜層中記錄信息。
近年來,在硬盤驅動器(HDD)裝置中,記錄密度愈發高密度化。因記錄密度的高密度化,信息記錄介質(介質)與在信息記錄介質上浮起并進行記錄的讀寫的磁頭之間的間隙(飛行高度)縮小至幾nm左右。
隨著浮起高度變小,在將信息記錄介質用于硬盤驅動器裝置中的情況下,容易發生訪問記錄于介質中的數據時的讀取錯誤和/或寫入錯誤、及磁頭碰撞介質表面的磁頭碰撞等問題。為了抑制這些問題,作為信息記錄介質而被容許的基板表面的缺陷的大小也進一步減小,因此,作為信息記錄介質用玻璃基板也追求更高的表面平滑性,為了抑制附著在玻璃基板表面的異物、玻璃基板表面的起伏,對制造方法進行了各種鉆研。
另一方面,近年來,HDD的存儲容量被進一步提高,目前開發出具有如下記錄密度的裝置:在一張2.5英寸的記錄介質中,記錄容量為500GB(單面250GB)、面記錄密度為630Gbit/平方英寸以上。
在信息記錄介質用玻璃基板的制造工序中采用了使用雙面研磨裝置來研磨玻璃基板的表面的工序。例如,在日本特開2005-8353號公報(專利文獻1)中使用了具有用于從載置在下側平臺上的下側研磨墊回收研磨后的玻璃基板的特殊結構的工具。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2005-8353號公報
發明內容
發明所要解決的問題
在使用上述工具從下側平臺上的下側研磨墊取出研磨后的玻璃基板時,有時玻璃基板牢固地吸附在下側研磨墊上。若下側研磨墊吸附玻璃基板的吸附力大,則在從下側研磨墊上取出玻璃基板時需要較大的力,因此,在使用取出器具的情況下,擔心由該器具引起的污漬重新附著在玻璃基板上。
在對污漬附著的狀態下的玻璃基板進行了信息記錄介質(磁盤)化之后,會導致記錄特性的下降。
從下側研磨墊取出玻璃基板時的較大的力施加給下側研磨墊和下側平臺,擔心對下側研磨墊和下側平臺造成損傷。
若下側研磨墊和下側平臺產生損傷,則在使用下側研磨墊和下側平臺而研磨后的玻璃基板上產生劃痕等缺陷,在進行了信息記錄介質化之后,會導致記錄特性的下降。在雙面研磨裝置中,上側研磨墊和上側平臺也可能產生相同的問題。
本發明就是鑒于上述實際情況而完成的,其目的在于提供一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法,所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法能夠提供一種在對信息記錄介質用玻璃基板進行了信息記錄介質化之后,不會導致記錄特性的下降的信息記錄介質用玻璃基板。
用于解決問題的手段
基于本發明的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法是一種使用研磨裝置的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法,所述研磨裝置在平臺上安裝有由含有多個發泡孔的部件構成的研磨墊,并使用上述研磨墊對玻璃基板的表面進行研磨,所述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法包括以下的工序。
包括:在上述平臺上載置上述玻璃基板的工序;利用上述研磨裝置一邊向上述玻璃基板供給液體狀研磨劑一邊對上述玻璃基板的表面進行研磨的工序;以及從上述平臺取出研磨后的上述玻璃基板的工序。
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