[發(fā)明專利]用于漫反射光度分析的測(cè)量模塊及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380044734.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104704347A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 簡(jiǎn)·布赫瓦爾德;蘇珊·高米茨;斯特凡·卡爾維拉姆;塞巴斯蒂安·特里克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 業(yè)納聚合物系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/47 | 分類號(hào): | G01N21/47;G02B5/20;H01L31/167 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 鄧琪 |
| 地址: | 德國(guó)特里*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 漫反射 光度 分析 測(cè)量 模塊 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分的測(cè)量模塊以及根據(jù)權(quán)利要求7的用于制造測(cè)量模塊的方法。
背景技術(shù)
根據(jù)前序部分的此類測(cè)量模塊在現(xiàn)有技術(shù)中是充分公知的并且例如用于基于漫反射(remission)的測(cè)量原理(也就是說(shuō),試樣處漫反射的光)分析生物試樣(如血液或尿液)或者環(huán)境試樣。為此目的,有必要對(duì)由測(cè)量輻射在試樣中激發(fā)的次級(jí)輻射進(jìn)行濾波,這樣使得測(cè)量不會(huì)失真。類似地,直接反射可被用作測(cè)量原理。然而,根據(jù)現(xiàn)有技術(shù),這些濾光器(例如由玻璃制成)作為單獨(dú)的組件形成。這些由玻璃制成的濾光器的加工是昂貴的,并且因此通常造價(jià)太高。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的是提供一種經(jīng)改進(jìn)的具體而言具有更為緊湊的結(jié)構(gòu)并且因此可以用較低的成本制造的測(cè)量模塊。該目的是由根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量模塊以及根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制造測(cè)量模塊的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)的。在各從屬權(quán)利要求中更加詳細(xì)地定義了有利的改進(jìn)。
本發(fā)明提供了一種用于一個(gè)或多個(gè)試樣的漫反射光度分析或反射光度分析的測(cè)量模塊,該測(cè)量模塊具有以下特征:一個(gè)發(fā)送裝置,該發(fā)送裝置具有用于向試樣的位置發(fā)送測(cè)量輻射的發(fā)送通道;一個(gè)第一聚焦裝置,用于將測(cè)量輻射聚焦到試樣上;一個(gè)接收裝置,該接收裝置具有用于接收由該試樣反射的輻射的接收通道;一個(gè)第二聚焦裝置,由塑料制成的、用于將由試樣反射的測(cè)量輻射聚焦到接收裝置上,其特征在于,該第二聚焦裝置還包括一個(gè)濾光器,該濾光器被設(shè)計(jì)成用于過(guò)濾由測(cè)量輻射激發(fā)的試樣的次級(jí)輻射。根據(jù)本發(fā)明,次級(jí)輻射被理解為是指對(duì)實(shí)際測(cè)量信號(hào)可能造成不利影響的輻射,例如試樣的自發(fā)熒光、光源或發(fā)送裝置的次極大值、環(huán)境光、等等。第二聚焦裝置與濾光器組合以形成一個(gè)結(jié)構(gòu)單元使之有可能省卻附加的組件。此外,此類安排被證明是緊湊的且易于操作的。
根據(jù)本發(fā)明,測(cè)量模塊被理解為是指通過(guò)接收裝置接收和檢測(cè)來(lái)自發(fā)送裝置的在待研究試樣處反射的輻射12b的測(cè)量單元。根據(jù)本發(fā)明,發(fā)送通道和接收通道被理解為是指將測(cè)量輻射從發(fā)送裝置傳遞至一個(gè)或多個(gè)試樣并且還將所反射的測(cè)量輻射傳遞至接收裝置的任何路徑。
濾光器優(yōu)選地作為濾光層形成,該濾光層必須包括一定數(shù)目的濾光層,并因此作為層系統(tǒng)形成。例如,層系統(tǒng)可包括以交替順序設(shè)置的以下材料:氧化硅、五氧化二鉭和/或氧化鈦。全部濾光層優(yōu)選地具有一個(gè)大于0.5微米并小于4.5微米的厚度。層系統(tǒng)的多個(gè)單層優(yōu)選地具有一個(gè)大于10納米并小于300納米的厚度。因此,濾光器或?yàn)V光層可被理解為干涉濾光器。
根據(jù)本發(fā)明,濾光器應(yīng)該被理解為是指對(duì)試樣的入射次級(jí)輻射進(jìn)行選擇的任何光學(xué)單元。
此外,本發(fā)明還提供了一種用于制造根據(jù)本發(fā)明的測(cè)量模塊的方法,具有以下特征:用塑料制造第一和第二聚焦裝置;通過(guò)形成一個(gè)殼體以將第一和第二聚焦裝置進(jìn)行封裝;將濾光器氣相沉積到第二聚焦裝置上。在本發(fā)明的另一配置中,濾光器被氣相沉積到兩個(gè)聚焦裝置5;6(圖2)的至少其中之一上。那么在兩個(gè)聚焦裝置上,如果例如次級(jí)輻射發(fā)生于照明單元或發(fā)送單元處可能是有利的。圖2示出了具有至少兩個(gè)濾光器11;11’的此類基本代表。濾光器還可能進(jìn)行配置的方式為使得其被直接適配成聚焦裝置的表面,參見(jiàn)11’。
同時(shí),有可能的是在第一個(gè)方法步驟中制造第一和第二聚焦裝置,隨后用塑料封裝兩個(gè)聚焦裝置,如此形成一個(gè)殼體。可替代地,還有可能的是改變方法步驟的先后順序,并且因此首先模塑塑料殼體。此類方法順序也被本領(lǐng)域技術(shù)人員稱為雙組分注塑成型工藝。
氣相沉積濾光器這一步驟優(yōu)選地使用離子束輔助等離子源通過(guò)PVD氣相沉積工藝完成。此類方法非常適用于沉積多個(gè)薄層,這些薄層還具有較高的純度。
附圖說(shuō)明
毫無(wú)疑問(wèn),剛剛所描述的這些實(shí)施例可以單獨(dú)或者彼此組合呈現(xiàn)。本發(fā)明的進(jìn)一步的重要特征將結(jié)合權(quán)利要求書(shū)和附圖從以下的詳細(xì)描述中得以顯現(xiàn)。借助附圖,下面描述和更加詳細(xì)地闡述根據(jù)本發(fā)明的測(cè)量模塊的一個(gè)優(yōu)選示例性實(shí)施例。
圖1示意性示出了根據(jù)本發(fā)明的測(cè)量模塊1的結(jié)構(gòu)。例如,此類測(cè)量模塊適用于測(cè)量和分析在生物或環(huán)境試樣9處反射的輻射。
圖2示出了在一個(gè)替代實(shí)施例中根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)測(cè)量模塊的基本示意圖。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于業(yè)納聚合物系統(tǒng)有限公司;,未經(jīng)業(yè)納聚合物系統(tǒng)有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380044734.3/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





