[發明專利]信息記錄介質用玻璃基板的制造方法

有效

• 申請號: 201380044681.5
• 申請日: 2013-06-18
• 公開（公告）號: CN104584128B
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發明（設計）人: 島津典子
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 丁香蘭,龐東成

技術領域

本發明涉及信息記錄介質用玻璃基板的制造方法。

背景技術

在用于計算機等的信息記錄介質(磁盤記錄介質)中，以往以來一直使用鋁基板或玻璃基板。在這些基板上形成磁性薄膜層，利用磁頭使磁性薄膜層磁化，由此在磁性薄膜層中記錄信息。

近年來，在硬盤驅動器(HDD)裝置中，記錄密度愈發高密度化。因記錄密度的高密度化，信息記錄介質(載體)與在信息記錄介質上浮起而進行記錄的讀寫的磁頭的間隙(浮起高度)縮小至幾nm左右。

隨著浮起高度變小，在將信息記錄介質用于硬盤驅動器裝置中的情況下，容易發生訪問記錄于介質中的數據時的讀取錯誤和/或寫入錯誤、及磁頭與介質表面碰撞的磁頭碰撞等問題。

因此，信息記錄介質用玻璃基板所要求的清潔性非常高，例如為了可靠地去除研磨材料、異物通過如下方式進行對應：在研磨工序后，與液體接觸而容易去除附著物后進行擦洗(スクラブ洗浄)等。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第4623210號

發明內容

發明要解決的問題

但是，在對應630Gbit/inch²以上的面記錄密度的下一代的信息記錄介質用玻璃基板中，雖然在平滑性、清潔性方面不存在問題，但是在形成磁性薄膜層而作為信息記錄介質的情況下，產生了電磁轉換特性(SNR)降低、讀取精度下降這樣的問題。

對上述問題進行了徹底調查，結果可知：載體制造商為了進一步提高清潔性進行了在磁性膜形成前利用堿性溶液對信息記錄介質用玻璃基板進行清洗從而將基板上的微小的顆粒去除這樣的工序，在該工序中，玻璃成分略微溶出、表面狀態發生了變化，因此之后，利用濺射等形成磁性薄膜層時的條件發生了偏差，產生了上述問題。

本發明是鑒于上述課題而完成的，其目的在于提供一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，根據該制造方法，即使為了提高清潔性而在磁性膜形成前利用堿性溶液對信息記錄介質用玻璃基板進行清洗，也能夠抑制表面狀態發生變化。

用于解決問題的手段

本發明涉及的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法為用于信息記錄介質的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，該信息記錄介質中，在玻璃基板的主表面上形成有磁性薄膜層，且磁性記錄面中的記錄密度為630Gbit/平方英寸以上。上述信息記錄介質用玻璃基板的制造方法具備下述工序：精密研磨工序，其中，利用pH為4以下的酸性的含有膠態二氧化硅的研磨液對玻璃部件的主表面進行精密研磨；第1浸漬工序，其中，在所述精密研磨工序后，在溶液中浸漬5分鐘以上；和超聲波清洗工序，其中，在所述第1浸漬工序后對所述玻璃部件實施超聲波清洗。在上述精密研磨工序中進行了精密研磨的玻璃部件的表面粗糙度Ra在1μm²的測定范圍為以下。上述第1浸漬工序的溶液的pH為6.5以上8.5以下。

優選的是，在上述超聲波清洗工序后進一步具備將玻璃部件在pH6.5以上8.5以下的溶液中浸漬5分鐘以上的第2浸漬工序。優選的是，進一步具備下述工序：擦洗工序，其中，在上述超聲波清洗工序后對玻璃部件實施擦洗；和第3浸漬工序，其中，在擦洗工序后在pH6.5以上8.5以下的溶液中浸漬5分鐘以上。

優選的是，上述溶液的pH小于6.5時，進一步具備向溶液添加調節劑從而使pH為6.5以上8.5以下的工序。優選的是，上述第1浸漬工序的溶液的pH為7以上8以下。優選的是，所述第1浸漬工序中的浸漬時間為120分鐘以下。

發明效果

根據本發明的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，即使為了提高清潔性而在磁性膜形成前利用堿性溶液對信息記錄介質用玻璃基板進行清洗，也可以制造能夠抑制表面狀態發生變化的信息記錄介質用玻璃基板。

附圖說明

圖1是信息記錄介質用玻璃基板1G的立體圖。

圖2是信息記錄介質的立體圖。

圖3是示出玻璃基板1G和信息記錄介質1的制造方法的流程圖。

具體實施方式

以下對本發明的實施方式和實施例進行說明。對于相同或者相當的部分標注相同的參照標號，有時不再重復其說明。在以下說明的實施方式和實施例中，在提及個數、數量等的情況下，除了特別說明的情況以外，本發明的范圍不一定限于該個數、數量等。在以下的實施方式中，除了特別說明的情況以外，各個構成要素對本發明不一定是必須的。

(信息記錄介質1的構成)