[發明專利]信息記錄介質用玻璃基板的制造方法有效
| 申請號： | 201380044681.5 | 申請日： | 2013-06-18 |
| 公開（公告）號： | CN104584128B | 公開（公告）日： | 2018-01-23 |
| 發明（設計）人： | 島津典子 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司11127 | 代理人： | 丁香蘭,龐東成 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 信息 記錄 介質 玻璃 制造 方法 | ||
1.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其用于信息記錄介質，其中，
該制造方法具備下述工序：
精密研磨工序，其中，利用酸性的含有膠態二氧化硅的研磨液對玻璃部件的主表面進行精密研磨；
第1浸漬工序，其中，在所述精密研磨工序后，在溶液中浸漬5分鐘以上；和
超聲波清洗工序，其中，在所述第1浸漬工序后對所述玻璃部件實施超聲波清洗，
在所述精密研磨工序中進行了精密研磨的所述玻璃部件的表面粗糙度Ra在1μm2的測定范圍為以下，
所述第1浸漬工序的所述溶液的pH為6.5以上8.5以下，
該制造方法進一步具備下述工序：
擦洗工序，其中，在所述超聲波清洗工序后對所述玻璃部件實施擦洗；和
第3浸漬工序，其中，在所述擦洗工序后在pH6.5以上8.5以下的溶液中浸漬5分鐘以上。
2.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其用于信息記錄介質，其特征在于，
該制造方法具備下述工序：
精密研磨工序，其中，利用酸性的含有膠態二氧化硅的研磨液對玻璃部件的主表面進行精密研磨；
第1浸漬工序，其中，在所述精密研磨工序后，浸漬在溶液中；和
超聲波清洗工序，其中，在所述第1浸漬工序后對所述玻璃部件實施超聲波清洗，
在所述精密研磨工序中進行了精密研磨的所述玻璃部件的表面粗糙度Ra在1μm2的測定范圍為以下，
該制造方法得到如下所述的信息記錄介質用玻璃基板：在40℃、pH11的氫氧化鈉溶液中浸漬30分鐘的堿處理前后，利用AFM對主表面的Ra進行測定時，所述堿處理前后的Ra的變化為以下。
3.如權利要求1或2所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，在所述超聲波清洗工序后進一步具備將所述玻璃部件在pH6.5以上8.5以下的溶液中浸漬5分鐘以上的第2浸漬工序。
4.如權利要求1或2所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，所述溶液的pH小于6.5時，進一步具備向所述溶液添加調節劑從而使pH為6.5以上8.5以下的工序。
5.如權利要求1或2所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，所述第1浸漬工序的所述溶液的pH為7以上8以下。
6.如權利要求1或2所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，所述第1浸漬工序中的所述浸漬時間為120分鐘以下。
7.一種信息記錄介質，其特征在于，在權利要求1至6中任一項所述的信息記錄介質用玻璃基板的主表面上至少形成有磁性膜。
8.一種信息記錄介質用玻璃基板，其特征在于，在40℃、pH11的氫氧化鈉溶液中浸漬30分鐘的堿處理前后，利用AFM對主表面的Ra進行測定時，所述堿處理前后的Ra的變化為以下。
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